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MetalsTek Engineering, como experto en materiales de deposición, puede proporcionar estas formas de materiales de evaporación de titanio con la pureza y las especificaciones deseadas para satisfacer los requisitos específicos de sus procesos de deposición.
Material: Titanio, Ti
Pureza: 99,7%~99.999%
Forma: Pellets, Gránulos, Alambre, Polvo, o Personalizado
Tamaño: Dia.3*3mm, Dia.6*6mm, o Personalizado
| Material Type | Titanium | Z Ratio | 0.628 |
| Symbol | Ti | E-Beam | Excellent |
| Atomic Weight | 47.867 | Thermal Evaporation Techniques | Boat: W |
| Atomic Number | 22 | Crucible: TiC,Ti2-BN | |
| Color/Appearance | Silvery Metallic | E-Beam Crucible Liner Material | Fabmate®, Intermetallic |
| Thermal Conductivity | 21.9 W/m.K | Temp. (°C) for Given Vap. Press. (Torr) | 10-8: 1,067 |
| Melting Point (°C) | 1,660 | 10-6: 1,235 | |
| Coefficient of Thermal Expansion | 8.6 x 10-6/K | 10-4: 1,453 | |
| Theoretical Density (g/cc) | 4.5 | Comments | Alloys with W/Ta/Mo; evolves gas on first heating. |
Material: Dióxido de titanio (IV), TiO2
Pureza: 99,9%~99.999%
Forma: Pellets, Piezas, Polvo, o Personalizado
Tamaño: Dia.3*3mm, Dia.6*6mm, o Personalizado
Los materiales de evaporación de dióxido de titanio (TiO2) desempeñan un papel fundamental en los procesos de deposición de películas finas en diversos sectores. Estos materiales presentan notables propiedades ópticas, eléctricas y térmicas, lo que los hace indispensables en la producción de dispositivos electrónicos avanzados, revestimientos ópticos, etc.
| Material Type | Titanium Dioxide (TiO2) |
| Symbol | TiO2 |
| Appearance/Color | White Solid |
| Melting Point | 1,843°C (3,349°F) |
| Density | 4.23 g/cm³ |
| Purity | 99.9% – 99.999% |
| Shape | Powder/Granule/Custom-made |
Aplicaciones del dióxido de titanio
Material: Carburo de titanio, TiC
Pureza: 99,5%, 99,9%.
Propiedades: 4,93 g/cc Densidad, ~3.160°C P.M.
Forma: Pellets, Piezas, o Personalizado
Talla: Personalizado
Material: Siliciuro de titanio, TiSi2
Pureza: 99,5%, 99,9%.
Propiedades: 4,02~4,10g/cc Densidad, ~1,4800°C P.M.
Resistividad eléctrica: ~15-20 µΩ-cm
Forma: Pellets, Piezas, o Personalizado
Talla: Personalizado
Material: Nitruro de titanio, TiN
Pureza: 99,5%, 99,9%.
Propiedades: 5,24 g/cc Densidad, ~2.930°C P.M.
Forma: Pellets, Piezas, o Personalizado
Talla: Personalizado
Material: Aluminio Titanio
Pureza: 99,9%~99.99%, Composición personalizable
Forma: Pellets, Piezas, Polvo, o Personalizado
Talla: Personalizado
Los materiales de evaporación de aluminio y titanio (Al/Ti) representan una fusión de aluminio (Al) y titanio (Ti) en una proporción o composición de aleación específica. Estos materiales desempeñan un papel fundamental en los procesos de deposición al vacío, especialmente en aplicaciones que implican recubrimientos de película fina.
En el proceso de evaporación, la mezcla de Al/Ti se calienta en un entorno de alto vacío hasta que alcanza la temperatura de evaporación designada. A continuación, el material vaporizado resultante se condensa sobre un sustrato, formando un recubrimiento de película fina preciso y controlado. El ajuste de la proporción entre aluminio y titanio permite obtener propiedades específicas en la película fina depositada, como dureza, resistencia al desgaste, conductividad eléctrica y resistencia a la corrosión.
Los materiales de evaporación de Al/Ti, ampliamente utilizados en sectores como la electrónica, la óptica, el aeroespacial y la automoción, sirven de revestimiento para diversos componentes. Entre ellos se incluyen componentes semiconductores, lentes ópticas, espejos y películas decorativas. Aprovechando su característica combinación de propiedades, las películas de Al/Ti presentan una adhesión excepcional a los sustratos, gozan de una buena estabilidad térmica y ofrecen una alta reflectividad tanto para la luz visible como para la radiación infrarroja.
Material: Cr/Ti, Ti/Cr, Co/Ti, Ti/Co, Mo/Ti, Ti/Mo, Ni/Ti, Ti/Ni, Ti/Al/V, Ti/W, W/Ti, V/Ti, Zr/Ti
Pureza: 99%~99.999%
Forma: Pellets, Gránulos, Piezas, Polvo, o Personalizado
Tamaño: Personalizable
Material: TiF3, TiB2, TiSe2
Pureza: 99%~99.999%
Forma: Pellets, Gránulos, Piezas, Polvo, o Personalizado
Tamaño: Personalizable
El titanio es un metal de transición brillante, de color blanco plateado, con un punto de fusión de 1.660°C y una densidad de 4,5 g/cc. Está clasificado como “excelente” para la evaporación por haz de electrones. El titanio puede evaporarse mediante haz de electrones o evaporación térmica, pero se prefiere la evaporación por haz electrónico. Es importante señalar que las aleaciones de titanio con otros metales también pueden utilizarse como materiales de evaporación. Los materiales de evaporación de titanio se utilizan en diversos procesos de deposición de películas finas, como la evaporación por haz de electrones (e-beam) y la evaporación térmica. Estos materiales están disponibles en diferentes formas, purezas, tamaños y precios.
Los materiales de evaporación de titanio incluyen los siguientes tipos de Titanio puro (Ti), Óxido de Titanio (TiO, TiO2, Ti2O3, Ti3O5), Nitruro de Titanio (TiN), Carburo de Titanio (TiC), Fluoruro de Titanio (TiF3), Siliciuro de Titanio (TiSi2), Boruro de Titanio (TiB2), Seleniuro de Titanio (TiSe2), Titanio Aluminio (Al/Ti, Ti/Al), Titanio Cromo (Cr/Ti, Ti/Cr), Titanio Cobalto (Co/Ti, Ti/Co), Titanio Molibdeno (Mo/Ti, Ti/Mo), Titanio Níquel (Ni/Ti, Ti/Ni), Titanio Aluminio Vanadio (Ti/Al/V), Titanio Wolframio (Ti/W, W/Ti), Titanio Vanadio (V/Ti), Titanio Circonio (Zr/Ti), etc.
Tipo de material | Titanio | Ratio Z | 0.628 |
Símbolo | Ti | Viga E | Excelente |
Peso atómico | 47.867 | Técnicas de evaporación térmica | Barco: W |
Crisol: TiC,TiB2-BN | |||
Número atómico | 22 | Material del revestimiento del crisol E-Beam | FABMATE®, Intermetallic |
Color/Apariencia | Plateado metálico | Temp. (°C) para Given Vap. Press. (Torr) | 10-8: 1,067 |
10-6: 1,235 | |||
10-4: 1,453 | |||
Conductividad térmica | 21,9 W/m.K | Comentarios | Aleaciones con W/Ta/Mo; desprende gas al primer calentamiento. |
Punto de fusión | 1,660 °C | ||
Coeficiente de dilatación térmica | 8,6 x 10-6/K | Cristal QCM sugerido | Cristal de aleación: 750-1002-G10**** |
Densidad teórica | 4,5 g/cc |
| Grade | TaC-1 | TaC-2 | TaC-3 |
|---|---|---|---|
| TaC（%） | ≥99.5 | >99.0 | >99.0 |
| Carbon(%) | ≥6.20 | ≥6.20 | ≥6.20 |
| Free Carbon(%) | ≤0.10 | ≤0.15 | ≤0.15 |
| Fe(%) | ≤0.05 | ≤0.1 | ≤0.20 |
| Si(%) | ≤0.008 | ≤0.01 | ≤0.020 |
| Al(%) | ≤0.005 | ≤0.005 | ≤0.01 |
| Ti(%) | ≤0.008 | ≤0.015 | ≤0.02 |
| N(%) | ≤0.025 | ≤0.05 | ≤0.05 |
| Na(%) | ≤0.003 | ≤0.005 | ≤0.02 |
| Ca(%) | ≤0.005 | ≤0.005 | ≤0.01 |
| K(%) | ≤0.003 | ≤0.005 | ≤0.01 |
| Nb(%) | ≤0.3 | ≤1.0 | ≤1.0 |
Los materiales de evaporación de titanio, como gránulos, piezas y polvos de titanio, se utilizan ampliamente en diversos procesos de deposición de películas finas, como la deposición de semiconductores, la deposición química en fase vapor (CVD) y la deposición física en fase vapor (PVD). Estos materiales se manipulan con cuidado para evitar daños durante el almacenamiento y están disponibles en diversas formas, purezas, tamaños y precios. Se utilizan para diversas aplicaciones, como la protección contra el desgaste, los revestimientos decorativos, las pantallas y la óptica.
Los materiales de evaporación de titanio también se utilizan en la producción de superconductores de alta temperatura, dispositivos emisores de luz, tratamiento e imágenes médicas, láseres y superconductores.
La elección del material depende de los requisitos específicos de la aplicación, como la pureza, el tamaño y el método de evaporación. La evaporación por haz electrónico es el método preferido para evaporar titanio, y los materiales están disponibles en diferentes formas y purezas.
Nuestros materiales de evaporación de titanio están claramente etiquetados externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficaces. Se tiene sumo cuidado para evitar cualquier daño que pudiera producirse durante el almacenamiento o el transporte.