Cátodos para sputtering de estaño

MetalsTek Engineering es un fabricante y proveedor de confianza de cátodos para sputtering de estaño. Podemos proporcionar los objetivos en diversos materiales, purezas, formas, tamaños y precios.

Cátodos para sputtering de estaño, Sn

Material: Estaño

Pureza: 99,9%~99.999%

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Espesor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Aplicaciones: Deposición de semiconductores, CVD, PVD, recubrimientos ópticos

Cátodos para sputtering de oro y estaño, Au/Sn

Material: Aleación de oro y estaño

Pureza: 99,99

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Aplicaciones: Deposición de semiconductores, CVD, PVD, recubrimientos ópticos

Cátodos para sputtering de cobre y estaño, Cu/Sn

Material: Cobre Estaño

Pureza: 99,99

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Cátodos para sputtering de indio y estaño, In/Sn

Material: Aleación de estaño e indio

Pureza: 99,99%, ≈117°C Punto de fusión

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Cátodos para sputtering de estaño-zinc, Sn/Zn Zn/Sn

Material: Aleación de estaño y zinc

Pureza: 99,9%~99.999%Composición personalizable

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Cátodos para sputtering de manganeso-estaño, Mn/Sn

Material: Aleación de manganeso y estaño

Pureza: 99,9%~99.999%Composición personalizable

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Espesor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Cátodos para sputtering estaño-plata, Sn/Ag

Material: Aleación de estaño y plata

Pureza: 99,9%~99.999%Composición personalizable

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Cátodos para sputtering de antimonio, indio y estaño, Sb/In/Sn

Material: Aleación de antimonio, indio y estaño

Pureza: 99%~99.999%Composición personalizable

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Cátodos para sputtering de antimonida de estaño, Sn/Sb

Material: Antimonio Indio Estaño

Pureza: 99,9%~99.999%,

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Unión: Indio Recomendado

Cátodos para sputtering de óxido de estaño, SnO2

Material: Óxido de estaño

Pureza: 99,9%~99.999%

Propiedades: Amarillo claro, 6,95 g/cc Densidad, ≈1.630°C P.M.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Adhesión: Elastómero Recomendado

Cátodos para sputtering de sulfuro de estaño, SnS SnS2

Material: Sulfuro de estaño

Pureza: 99,9

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Espesor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Adhesión: Elastómero Recomendado

Cátodos para sputtering de óxido de indio y estaño, ITO

Material: Óxido de indio y estaño, In2O3/SnO2

Pureza: 99,9%~99.99%

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Cátodos para sputtering de telururo de estaño, SnTe

Material: Estaño telururo

Pureza: 99,9%~99.99%

Propiedades: 6,5 g/cc Densidad, ≈790°C P.M.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Cátodos para sputtering de fluoruro de estaño, SnF2

Material: Fluoruro de estaño

Pureza: 99,9

Propiedades: 4,57 g/cc Densidad, ≈213°C P.M.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Adhesión: Elastómero Recomendado

Cátodos para sputtering de óxido de estaño dopado con antimonio, ATO

Material: Óxido de estaño dopado con antimonio

Pureza: SnO2:Sb 99,9%~99.99%

Propiedades: 6,9 g/cc Densidad, ≈1.720°C P.M.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Espesor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Unión: Indio Recomendado

Cátodos para sputtering de estannuro de niobio, Nb3Sn

Material: Estannuro de niobio

Pureza: 99,9%~99.999%Densidad: 5,7 g/cc

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Cátodos para sputtering de arseniuro de estaño, SnAs

Material: Arseniuro de estaño

Pureza: 99,9%~99.999%,

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤14″ * Longitud≤32″

Unión: Indio Recomendado

Descripción

Los cátodos para sputtering de estaño son materiales esenciales utilizados en sputtering, un fenómeno en el que partículas de material sólido son expulsadas de su superficie al ser bombardeadas por partículas energéticas. Los cátodos para sputtering de estaño (Sn), compuestos por el elemento de número atómico 50, son materiales plateados, lustrosos, grises y metálicos con una conductividad térmica de 66,6 W/m.K y un punto de fusión de 232°C. Estos cátodos se utilizan en diversas aplicaciones como la soldadura, el revestimiento y la producción de aleaciones como el estaño. Los cátodos para sputtering de estaño desempeñan un papel crucial en los procesos de deposición de películas finas, permitiendo un grabado preciso, técnicas analíticas y la fabricación de revestimientos ópticos, dispositivos semiconductores y productos nanotecnológicos.

Especificaciones del estaño (Sn)

Tipo de material

Estaño

Viga E

Excelente

Símbolo

Sn

Técnicas de evaporación térmica

Barco: Mo

Peso atómico

118.71

Bobina: W

Número atómico

50

Cesta: W

Apariencia

Gris plateado brillante, metalizado

Crisol:Al2O3

Conductividad térmica

66,6 W/m.K

Material del revestimiento del crisol E-Beam

FABMATE®, Tántalo

Punto de fusión

232 °C

Temp. (°C) para Given Vap. Press. (Torr)

10-8: 682

Coeficiente de dilatación térmica

22 x 10-6/K

10-6: 807

Densidad teórica

7,28 g/cc

10-4: 997

Ratio Z

0.724

Comentarios

Moja Mo baja potencia de pulverización catódica. Utilizar Ta liner en pistolas E-beam. Materiales de bajo punto de fusión no ideales para sputtering.

Aplicaciones de los cátodos para sputtering de estaño

Los cátodos para sputtering a base de estaño (Sn) y estaño tienen una amplia gama de aplicaciones en diversas industrias debido a sus propiedades únicas. Los cátodos para sputtering son materiales utilizados en el proceso de deposición física de vapor (PVD), en el que átomos o moléculas se depositan sobre la superficie de un sustrato para formar una película fina. A continuación se indican algunas aplicaciones comunes de los cátodos para sputtering a base de estaño y estaño:

  1. Industria de semiconductores: Los cátodos para sputtering a base de estaño y estaño se utilizan ampliamente en la industria de los semiconductores para la deposición de películas finas. Las películas de estaño son cruciales para la fabricación de interconexiones, puertas metálicas y barreras de difusión en circuitos integrados. Además, los compuestos a base de estaño, como el óxido de estaño (SnO2), se utilizan en la producción de revestimientos conductores transparentes para aplicaciones como pantallas táctiles, células solares y pantallas planas.
  2. Revestimientos ópticos: Los cátodos para sputtering a base de estaño y estaño se emplean en la deposición de revestimientos ópticos. Pueden depositarse películas finas de estaño o compuestos de estaño sobre sustratos de vidrio o plástico para crear revestimientos antirreflectantes, que mejoran la transmisión de la luz a través de componentes ópticos como lentes, espejos y ventanas. Los revestimientos a base de estaño también tienen aplicaciones en reflectores y filtros de infrarrojos (IR).
  3. Energía solar: Los cátodos para sputtering a base de estaño se utilizan en la producción de células solares de película fina. Las películas finas de óxido de estaño (SnO2) sirven como capas conductoras transparentes en dispositivos fotovoltaicos, permitiendo una conducción eficiente de electrones a la vez que permiten la transmisión de la luz. Estos recubrimientos ayudan a mejorar el rendimiento y la durabilidad de los paneles solares.
  4. Revestimientos decorativos: Los cátodos para sputtering a base de estaño y estaño se utilizan en la industria de los revestimientos decorativos para aplicaciones como el vidrio arquitectónico, las molduras de automóviles y la electrónica de consumo. Los revestimientos de estaño pueden proporcionar un acabado brillante y resistente a la corrosión a diversos sustratos, mejorando su atractivo estético y su durabilidad.
  5. Embalaje: Los revestimientos de estaño se aplican a sustratos metálicos mediante pulverización catódica para proporcionar protección contra la corrosión y mejorar la soldabilidad. El acero estañado se utiliza habitualmente en envases de alimentos, latas de bebidas y componentes electrónicos por sus excelentes propiedades de barrera y su compatibilidad con los procesos de soldadura.
  6. Microelectrónica: El estaño y los cátodos para sputtering a base de estaño forman parte integral de la producción de dispositivos microelectrónicos, como microchips, sensores y MEMS (sistemas microelectromecánicos). Las películas de estaño sirven como capas conductoras, barreras de difusión e interfaces de unión en estos componentes electrónicos miniaturizados.
  7. Baterías de película fina: Se están estudiando materiales a base de estaño para su uso en tecnologías de baterías de película fina. Las películas de estaño pueden actuar como ánodos en las baterías de iones de litio, ofreciendo una alta capacidad de almacenamiento de energía y una mayor estabilidad cíclica en comparación con los ánodos de grafito tradicionales.

La versatilidad y el rendimiento de los cátodos para sputtering a base de estaño y estaño los hacen indispensables en numerosas aplicaciones tecnológicas que abarcan la electrónica, la óptica, la energía, etc.

Embalaje

Nuestros cátodos para sputtering a base de estaño y estaño están claramente etiquetados externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficaces. Tenemos mucho cuidado para evitar cualquier daño durante el almacenamiento o el transporte.

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