Menu
MetalsTek Engineering es un fabricante y proveedor líder de cátodos para sputtering de molibdeno planos y giratorios de alta calidad. Ofrecemos cátodos para sputtering de diferentes formas y tamaños bajo pedido. No dude en Solicitar presupuesto si necesita alguno de los cátodos.
Material: Molibdeno (Mo)
Pureza: 99%, 99,5%, 99,9%, 99,95%.
Gama de tamaños: Disco – Dia.10~360mm * Espesor 1~10mm
Planar – Espesor 1~10mm * Anchura 20~600mm * Longitud 20~2.000mm
Rotativo – OD 20~400mm * Longitud 100~300mm, Espesor de pared 1~30mm
Tamaños estándar: Diámetro 1,0″, 2,0″, 3,0″, 4,0″, 5,0″, 6,0″, 8,0″; Espesor: 0,125″, 0,250″, Se puede personalizar.
Material: Carburo de molibdeno (Mo2C)
Pureza: 99%, 99,5%, 99,9%.
Forma: Disco, Barra, Rotativo, Personalizable
Tamaño: Diámetro 1,0″, 2,0″, 3,0″, 4,0″; Espesor: 0,125″, 0,250″, Se puede personalizar.
Material: Disiliciuro de molibdeno (MoSi2)
Pureza: 99%, 99,5%, 99,9%.
Forma: Disco, Barra, Rotativo, Personalizable
Tamaño: Diámetro 1,0″, 2,0″, 3,0″, 4,0″; Espesor: 0,125″, 0,250″, Se puede personalizar.
Material: Disulfuro de molibdeno (MoS2)
Pureza: 99,5%, 99,9%, 99,95%.
Forma: Disco, Barra, Rotativo, Personalizable
Tamaños estándar: Diámetro 1,0″, 2,0″, 3,0″, 4,0″, 5,0″, 6,0″, 8,0″; Espesor: 0,125″, 0,250″, Se puede personalizar.
Material: Óxido de molibdeno (MoO3)
Pureza: 99,5%, 99,9%, 99,95%.
Forma: Disco, Barra, Rotativo, Personalizable
Tamaño: Diámetro 1,0″, 2,0″, 3,0″, 4,0″; Espesor: 0,125″, 0,250″, Se puede personalizar.
Material: Molibdeno/Renio (Mo/Re)
Composición: 60Mo:40Re, 50Mo:50Re
Pureza: 99,95
Forma: Disco, Barra, Rotativo, Personalizable
Tamaño: Diámetro 1,0″, 2,0″, 3,0″, 4,0″; Espesor: 0,125″, 0,250″, Se puede personalizar.
Material: Mo/Nb, Mo/Cr, MoTe2, MoSe2, Mo2B5
Pureza: 99%, 99,5%, 99,9%, 99,95%, 99,99%, 99,999%.
Forma: Disco, Barra, Rotativo, Personalizable
Talla: Personalizado
Un cátodo de molibdeno para sputtering es un material especializado que se utiliza en la deposición física de vapor (PVD), concretamente en el sputtering. La pulverización catódica es una técnica en la que los átomos o moléculas de un material objetivo sólido son expulsados y luego depositados sobre un sustrato para formar una película delgada. Los cátodos para sputtering de molibdeno están diseñados para aplicaciones en las que se necesita una capa fina de molibdeno sobre un sustrato, como en la producción de dispositivos semiconductores, células solares y recubrimientos de película fina.
Blanco para sputtering: Mo, Mo/Re, Mo/Nb, Mo/Cr, MoTe2, MoSe2, Mo2B5, Mo2C, MoO3, MoSi2, MoS2
Tipo de objetivo: Disco, Planar, Rotativo, Personalizado
Talla: Personalizado
Unión trasera: Indio, elastómero
Al comparar los cátodos rotativos con los planos, es evidente que ofrecen varias ventajas. Contienen más material, lo que permite una mayor utilización, tiradas de producción más largas y un menor tiempo de inactividad del sistema, aumentando así el rendimiento del equipo de revestimiento. Además, permiten mayores densidades de potencia debido a la distribución uniforme del calor acumulado sobre la superficie del cátodo. El resultado es una mayor velocidad de deposición y un mejor rendimiento durante el sputtering reactivo.
Las aplicaciones de los cátodos para sputtering de molibdeno incluyen la deposición de películas finas de molibdeno para:
La deposición controlada de molibdeno mediante cátodos para sputtering es esencial en diversas industrias en las que se requieren películas finas precisas y de alta calidad para aplicaciones específicas.
Nuestros cátodos de molibdeno para sputtering se manipulan y embalan cuidadosamente para evitar daños durante el almacenamiento y el transporte y para preservar la calidad de nuestros productos en su estado original.