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MetalsTek Engineering es uno de los principales fabricantes y proveedores de materiales de evaporación de tántalo de gran pureza. Ofrecemos una amplia gama de materiales de evaporación, incluyendo polvo y gránulos. También podemos satisfacer requisitos personalizados previa solicitud.
Pureza: Ta 99,9%, 99,95%
Densidad: 16,6 g/cc
Forma: Pellets, Polvo, Gránulo, Personalizado
Tamaño: ~3*3mm / 1/8″ Espárragos, ~6*6mm / 1/4″ Espárragos, Puede ser Personalizado
Aplicaciones: Deposición de semiconductores CVD y PVD, recubrimientos ópticos
Material: Tantalio Aluminio (Ta/Al)
Pureza: 99,9%, 99,95%.
Forma: Pellets, gránulos, polvo o a medida
Los materiales de evaporación de tántalo-aluminio son revestimientos especializados derivados de una mezcla de tántalo y aluminio, empleados habitualmente en procedimientos de evaporación al vacío. Estos materiales tienen diversas aplicaciones, sobre todo en la industria de semiconductores para la deposición de películas finas, revestimientos ópticos e investigación.
La amalgama de tántalo y aluminio en estos materiales de evaporación ofrece ventajas distintivas debido a sus atributos físicos y químicos únicos. El tántalo tiene un punto de fusión notablemente alto que supera los 3.000°C, una resistencia excepcional a la corrosión y una gran estabilidad térmica. Por el contrario, el aluminio, con su punto de fusión más bajo, aporta una conductividad eléctrica encomiable, mejorando la estabilidad y la adherencia de la película resultante.
La sinergia entre el tántalo y el aluminio da lugar a una película con propiedades mejoradas en comparación con cada material por separado. La proporción de tántalo y aluminio puede ajustarse para satisfacer criterios específicos, como conseguir el grosor de película deseado, reforzar la fuerza de adhesión u optimizar la conductividad eléctrica.
Material: Tántalo Molibdeno (Ta/Mo)
Pureza: 99,9%, 99,95%.
Forma: Pellets, gránulos, polvo o a medida
Aplicaciones: Semiconductores, deposición química en fase vapor (CVD), deposición física en fase vapor (PVD), pantallas y aplicaciones ópticas.
Material: Carburo de molibdeno
Pureza: 99%~99.9%
Forma: Pellet, gránulo, forma personalizada
Otros: Forma, tamaño y pureza personalizados
Material: Pentóxido de tántalo (Ta2O5)
Pureza: Ta2O599 ,95%
Densidad: 8,2 g/cc
Aspecto: Sólido cristalino blanco
Evaporación Térmica: Bote Ta, Bobina W, Cesta W, Crisol VitC
Tamaño: Dia. 8~9mm * Espesor 4~5mm, o Personalizado
El óxido de tántalo, identificado por la fórmula química Ta2O5, es un sólido cristalino caracterizado por su aspecto blanco. Posee una densidad de 8,2 g/cc, un punto de fusión de 1.872°C y una presión de vapor de 10-4 Torr a 1.920°C. Empleado principalmente en la fabricación de condensadores, este compuesto forma parte integral de diversas aplicaciones, como la electrónica del automóvil, los teléfonos móviles y las herramientas. Además, el óxido de tántalo se utiliza en el cristal de las lentes de las cámaras. Su evaporación al vacío facilita la creación de películas para la fabricación de semiconductores, dispositivos optoelectrónicos y pilas de combustible.
Material: Nitruro de tántalo (TaN)
Pureza: 99,5
Densidad: 13,7 g/cc
Forma: Pellets, gránulos, polvo o a medida
Aplicaciones: Semiconductores, deposición química en fase vapor (CVD), deposición física en fase vapor (PVD), pantallas y aplicaciones ópticas.
Material: Carburo de tántalo (TaC)
Pureza: 99,5
Densidad: 143 g/cc
Punto de fusión: 3.852 °C / 6.966 °F; 4.125 K
Forma: Pellets, gránulos, polvo o a medida
Aplicaciones: Recubrimientos duros, microelectrónica, recubrimientos decorativos, protecciones aeroespaciales
Material: Siliciuro de tántalo (TaSi2)
Pureza: 99,5
Forma: Pellets, gránulos, polvo o a medida
Aplicaciones: Semiconductores, deposición química en fase vapor (CVD), deposición física en fase vapor (PVD), pantallas y aplicaciones ópticas.
Material: Boruro de tántalo (TaB2)
Pureza: 99,5
Forma: Pellets, gránulos, polvo o a medida
Aplicaciones: Semiconductores, deposición química en fase vapor (CVD), deposición física en fase vapor (PVD), pantallas y aplicaciones ópticas.
Material: Seleniuro de tántalo (TaSe2)
Pureza: 99,9% ~ 99,999%.
Densidad: 6,7 g/cc
Punto de fusión: 2.000°C / 3.632°F
Forma: Pellets, gránulos, polvo o a medida
Aplicaciones: Semiconductores, CVD, PVD, y se utiliza en óptica para protección contra el desgaste, revestimientos decorativos y pantallas.
Material: Telururo de tántalo (TaTe2)
Pureza: 99,9% ~ 99,999%.
Densidad: 9,4 g/cc
Forma: Pellets, gránulos, polvo o a medida
Aplicaciones: Semiconductores, deposición química en fase vapor (CVD), deposición física en fase vapor (PVD), pantallas y aplicaciones ópticas.
Los materiales de evaporación de gran pureza desempeñan un papel fundamental en los procesos de deposición para garantizar películas depositadas de alta calidad. El tántalo(Ta), un metal de transición clasificado en la Tabla Periódica, se incluye entre los metales refractarios, famosos por su excepcional resistencia a la corrosión. Con un punto de fusión de 3.017°C, una densidad de 16,6 g/cc y una presión de vapor de 10-4 Torr a 2.590°C, el tántalo presenta un color gris azulado metálico y comparte propiedades químicas similares a las del niobio. Su naturaleza no tóxica lo convierte en una opción privilegiada para implantes quirúrgicos, mientras que su aplicación se extiende a la industria electrónica, donde sirve como condensador. El tántalo puede alearse con otros metales para aumentar su resistencia y durabilidad. En la evaporación al vacío, el tántalo y sus aleaciones y compuestos producen semiconductores, revestimientos ópticos, medios de almacenamiento magnético y revestimientos resistentes al desgaste y la corrosión.
El tántalo es casi imposible de depositar por evaporación térmica debido a la alta potencia necesaria para que el material se evapore. Los métodos recomendados para el depósito de tántalo son la evaporación por haz electrónico o el pulverizado con magnetrón. El tántalo se considera “excelente” para la evaporación por haz electrónico. Sin embargo, este proceso plantea retos y requiere una supervisión meticulosa durante todo el proceso.
| Tipo de material | Tántalo | Relación Z | 0.262 |
| Símbolo | Ta | Viga E | Excelente |
| Peso atómico | 180.94788 | Material del revestimiento del crisol E-Beam | FABMATE®, grafito |
| Número atómico | 73 | ||
| Color/Apariencia | Gris Azul, Metálico | Temp. (°C) para Given Vap. Press. (Torr) | 10-8: 1,960 |
| 10-6: 2,240 | |||
| 10-4: 2,590 | |||
| Conductividad térmica | 57 W/m.K | Comentarios | Forma buenas películas. |
| Punto de fusión | 3,017 °C | ||
| Coeficiente de dilatación térmica | 6,3 x 10-6/K | ||
| Densidad teórica | 16,6 g/cc | Cristal QCM sugerido | Cristal de aleación: 750-1002-G10**** |
El material de evaporación de tántalo es crucial en diversas aplicaciones de alta tecnología, especialmente en los procesos de deposición de películas finas. He aquí algunas aplicaciones críticas:
Las propiedades únicas del tántalo, como su alto punto de fusión, su resistencia a la corrosión y su estabilidad, lo convierten en un material valioso para la deposición de películas finas en estas diversas aplicaciones.
Nuestros materiales de evaporación de tántalo están claramente etiquetados externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficaces. Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pudiera producirse durante el almacenamiento o el transporte.