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MetalsTek Engineering est un fabricant et fournisseur de premier plan de matériaux d’évaporation en tantale de haute pureté. Nous proposons une gamme variée de matériaux d’évaporation, y compris sous forme de poudre et de granulés. Nous pouvons également répondre à des exigences personnalisées sur demande.
Pureté : Ta 99,9%, 99,95%
Densité : 16,6 g/cc
Forme : Pellets, poudre, granulés, sur mesure
Taille : ~3*3mm / 1/8″ goujons, ~6*6mm / 1/4″ goujons, personnalisable
Applications : Dépôt de semi-conducteurs par dépôt en phase vapeur (CVD) et dépôt en phase vapeur (PVD), revêtements optiques
Matériau : Tantale-aluminium (Ta/Al)
Pureté : 99,9 %, 99,95 %.
Forme : Pellets, Granulés, Poudre, ou sur mesure
Les matériaux d’évaporation tantale-aluminium sont des revêtements spécialisés dérivés d’un mélange de tantale et d’aluminium, couramment utilisés dans les procédures d’évaporation sous vide. Ces matériaux trouvent diverses applications, notamment dans l’industrie des semi-conducteurs pour le dépôt de couches minces, les revêtements optiques et les travaux de recherche.
La fusion du tantale et de l’aluminium dans ces matériaux d’évaporation offre des avantages distinctifs en raison de leurs attributs physiques et chimiques uniques. Le tantale possède un point de fusion remarquable dépassant les 3 000 °C, une résistance exceptionnelle à la corrosion et une stabilité thermique accrue. Au contraire, l’aluminium, avec son point de fusion plus bas, apporte une conductivité électrique remarquable, améliorant la stabilité et l’adhérence du film obtenu.
La synergie entre le tantale et l’aluminium permet d’obtenir un film aux propriétés améliorées par rapport à chaque matériau pris isolément. Le rapport entre le tantale et l’aluminium peut être ajusté pour répondre à des critères spécifiques, tels que l’obtention de l’épaisseur de film souhaitée, le renforcement de la force d’adhérence ou l’optimisation de la conductivité électrique.
Matériau : Tantale Molybdène (Ta/Mo)
Pureté : 99,9 %, 99,95 %.
Forme : Pellets, Granulés, Poudre, ou sur mesure
Application : Semi-conducteurs, dépôt chimique en phase vapeur (CVD), dépôt physique en phase vapeur (PVD), écrans et applications optiques.
Matériau : Carbure de molybdène
Pureté : 99%~99.9%
Forme : Pellet, Granule, Forme personnalisée
Autres : Forme, taille et pureté personnalisées
Matériau : Pentoxyde de tantale (Ta2O5)
Pureté : Ta2O599 ,95%
Densité : 8,2 g/cc
Aspect : Solide cristallin blanc
Évaporation thermique : Bateau Ta, serpentin W, panier W, creuset VitC
Taille : Dia. 8~9mm * Epaisseur 4~5mm, ou sur mesure
L’oxyde de tantale, identifié par la formule chimique Ta2O5, est un solide cristallin caractérisé par son aspect blanc. Il possède une densité de 8,2 g/cc, un point de fusion de 1 872 °C et une pression de vapeur de 10-4 Torr à 1 920 °C. Principalement utilisé dans la production de condensateurs, ce composé fait partie intégrante de diverses applications, notamment l’électronique automobile, les téléphones portables et les outils. En outre, l’oxyde de tantale est utilisé dans le verre des lentilles d’appareil photo. Son évaporation sous vide facilite la création de films pour la fabrication de semi-conducteurs, de dispositifs optoélectroniques et de piles à combustible.
Matériau : Nitrure de tantale (TaN)
Pureté : 99,5
Densité : 13,7 g/cc
Forme : Pellets, Granulés, Poudre, ou sur mesure
Application : Semi-conducteurs, dépôt chimique en phase vapeur (CVD), dépôt physique en phase vapeur (PVD), écrans et applications optiques.
Matériau : Carbure de tantale (TaC)
Pureté : 99,5
Densité : 143 g/cc
Point de fusion : 3 852 °C / 6 966 °F ; 4 125 K
Forme : Pellets, Granulés, Poudre, ou sur mesure
Application : Revêtements durs, microélectronique, revêtements décoratifs, protections aérospatiales
Matériau : Siliciure de tantale (TaSi2)
Pureté : 99,5
Forme : Pellets, Granulés, Poudre, ou sur mesure
Application : Semi-conducteurs, dépôt chimique en phase vapeur (CVD), dépôt physique en phase vapeur (PVD), écrans et applications optiques.
Matériau : Borure de tantale (TaB2)
Pureté : 99,5
Forme : Pellets, Granulés, Poudre, ou sur mesure
Application : Semi-conducteurs, dépôt chimique en phase vapeur (CVD), dépôt physique en phase vapeur (PVD), écrans et applications optiques.
Matériau : Séléniure de tantale (TaSe2)
Pureté : 99,9 % ~ 99,999 %.
Densité : 6,7 g/cc
Point de fusion : 2 000°C / 3 632°F
Forme : Pellets, Granulés, Poudre, ou sur mesure
Application : Semi-conducteurs, CVD, PVD, et utilisation dans l’optique pour la protection contre l’usure, les revêtements décoratifs et les écrans.
Matériau : Tellurure de tantale (TaTe2)
Pureté : 99,9 % ~ 99,999 %.
Densité : 9,4 g/cc
Forme : Pellets, Granulés, Poudre, ou sur mesure
Application : Semi-conducteurs, dépôt chimique en phase vapeur (CVD), dépôt physique en phase vapeur (PVD), écrans et applications optiques.
Les matériaux d’évaporation de haute pureté jouent un rôle important dans les processus de dépôt afin de garantir des films déposés de haute qualité. Le tantale (Ta), métal de transition classé dans le tableau périodique, fait partie des métaux réfractaires, réputés pour leur résistance exceptionnelle à la corrosion. Avec un point de fusion de 3 017°C, une densité de 16,6 g/cc et une pression de vapeur de 10-4 Torr à 2 590°C, le tantale présente une couleur gris-bleu métallique et partage des propriétés chimiques proches du niobium. Sa nature non toxique en fait un choix de premier ordre pour les implants chirurgicaux, tandis que ses applications s’étendent à l’industrie électronique, où il sert de condensateur. Le tantale peut être allié à d’autres métaux pour améliorer sa résistance et sa durabilité. Dans l’évaporation sous vide, le tantale et ses alliages et composés produisent des semi-conducteurs, des revêtements optiques, des supports de stockage magnétiques et des revêtements résistant à l’usure et à la corrosion.
Il est pratiquement impossible de déposer du tantale par évaporation thermique en raison de la puissance élevée requise pour que le matériau s’évapore. L’évaporation par faisceau d’électrons ou la pulvérisation magnétron sont les méthodes recommandées pour le dépôt de tantale. Le tantale est considéré comme “excellent” pour l’évaporation par faisceau d’électrons. Néanmoins, ce processus pose des défis et nécessite une surveillance méticuleuse tout au long du processus.
| Type de matériau | Tantale | Rapport Z | 0.262 |
| Symbole | Ta | Poutre en E | Excellent |
| Poids atomique | 180.94788 | Matériau du revêtement du creuset E-Beam | FABMATE®, Graphite |
| Numéro atomique | 73 | ||
| Couleur/Apparence | Bleu gris, métallisé | Temp. (°C) pour Vap. donnée Press. (Torr) | 10-8: 1,960 |
| 10-6: 2,240 | |||
| 10-4: 2,590 | |||
| Conductivité thermique | 57 W/m.K | Commentaires | Forme de bons films. |
| Point de fusion | 3,017 °C | ||
| Coefficient de dilatation thermique | 6,3 x 10-6/K | ||
| Densité théorique | 16,6 g/cc | Cristal QCM suggéré | Cristal d’alliage : 750-1002-G10**** |
Le matériau d’évaporation au tantale est essentiel dans diverses applications de haute technologie, en particulier dans les processus de dépôt de couches minces. Voici quelques applications critiques :
Les propriétés uniques du tantale, notamment son point de fusion élevé, sa résistance à la corrosion et sa stabilité, en font un matériau précieux pour le dépôt de couches minces dans ces diverses applications.
Nos matériaux d’évaporation du tantale sont clairement étiquetés et marqués à l’extérieur pour garantir une identification et un contrôle de qualité efficaces. Nous prenons grand soin d’éviter tout dommage qui pourrait être causé pendant le stockage ou le transport.