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MetalsTek Engineering est l’un des principaux fournisseurs de cibles de pulvérisation au zirconium de haute qualité. Nos produits sont conçus pour répondre aux exigences des industries des semi-conducteurs, de l’affichage et de l’optique. Faites équipe avec MetalsTek Engineering pour obtenir des solutions de pulvérisation de pointe qui favorisent l’innovation et l’excellence dans vos applications.
Matériau : Zirconium, Zr
Pureté : 99 %, 99,9 %, 99,99 %.
Forme : Disque, plaque, colonne, étagé, planaire, rotatif ou personnalisé
Gamme de tailles : Diamètre 20~205mm / Dia. 1″~8″, épaisseur 3.175mm, 6.35mm / 0.125″ et 0.25″
Le zirconium, métal de transition, a une densité de 6,49 g/cc, un point de fusion de 1 852°C et une pression de vapeur de 10-4 Torr à 1 987°C. Son aspect blanc argenté et sa résistance exceptionnelle à la corrosion en font un métal très recherché par l’industrie chimique. Le zirconium est largement utilisé dans les appareils chirurgicaux, les aimants supraconducteurs et le revêtement des réacteurs nucléaires. Il sert également d’agent d’alliage pour l’acier et son composé, la zircone, est un substitut populaire du diamant dans la bijouterie. Le zirconium et ses composés sont évaporés sous vide pour les revêtements optiques, les semi-conducteurs et les dispositifs de stockage de données.
Le zirconium et le hafnium peuvent tous deux être utilisés dans l’industrie nucléaire. Cependant, ils ont des propriétés différentes en matière de capture des neutrons. Bien qu’ils aient beaucoup de propriétés similaires, ils doivent être séparés en utilisant la méthode d’extraction liquide ou la distillation de sel fondu. Nous fournissons deux qualités de cibles de zirconium de haute pureté : à faible teneur en hafnium (250 ppm, ou 0,025 %) et à haute teneur en hafnium.
| Al | 48 | In | <0.05 | Re | <0.05 |
|---|---|---|---|---|---|
| As | <0.05 | Ir | <0.05 | Rh | <0.5 |
| Au | <0.05 | K | 0.25 | S | 16 |
| B | 0.07 | La | <0.013 | Sb | <0.5 |
| Bi | 0.28 | Mg | 0.09 | Sc | 0.6 |
| Br | 0.039 | Mn | 0.2 | Se | <0.05 |
| Ca | 0.33 | Mo | 3.7 | Si | 35 |
| Ce | 0.021 | Na | 0.3 | Sm | <0.05 |
| Cl | 1.6 | Nb | 1.7 | Sn | 16 |
| Co | 0.032 | Nd | <0.05 | Sr | 0.009 |
| Cr | 3.4 | Ni | 3.3 | Ta | 0.66 |
| Cu | 0.16 | Os | <0.05 | Te | <0.5 |
| F | 1.7 | P | 0.35 | Ti | 36 |
| Fe | 51 | Pb | 0.96 | U | 1.1 |
| Ga | 0.1 | Pd | <5 | V | 0.13 |
| Ge | <0.05 | Pr | 0.036 | W | 1.3 |
| I | <0.5 | Pt | <0.05 | Zn | 0.28 |
Matériau : Zircone, ZrO2
Pureté : 99,9 %, 99,95 %, 99,99 %.
Forme : Disque, plaque, colonne, étagé, planaire, rotatif ou personnalisé
Gamme de tailles : Diamètre 20~205mm / Dia. 1″~8″, épaisseur 3.175mm, 6.35mm / 0.125″ et 0.25″
La zircone, matériau polyvalent, est principalement utilisée dans la production de céramiques dures, notamment en dentisterie. Ses applications s’étendent à la protection des particules de pigments de dioxyde de titane, aux matériaux réfractaires, aux revêtements de couches minces, à l’isolation, aux piles à combustible, aux abrasifs et aux émaux. Les cibles de pulvérisation de zircone sont utilisées pour le dépôt de couches minces, en particulier dans les piles à combustible, la décoration, les semi-conducteurs, les écrans, les DEL et les dispositifs photovoltaïques, ainsi que pour le revêtement du verre.
La zircone stabilisée est utilisée dans les capteurs d’oxygène et les membranes de piles à combustible en raison de sa conductivité ionique élevée et de sa faible conductivité électronique, ce qui en fait une électrocéramique précieuse. Le dioxyde de zirconium est également utilisé comme électrolyte solide dans les dispositifs électrochromes. En outre, la zircone sert de précurseur à l’électrocéramique titanate de plomb-zircone (PZT), un diélectrique à K élevé que l’on trouve dans divers composants.
Modèle : Partiellement stabilisé ~5% Y2O3, Entièrement stabilisé 8%mol Y2O3
Pureté : 99,9
Forme : Disque, plaque, colonne, étagé, planaire, rotatif ou personnalisé
Gamme de tailles : Diamètre 20~205mm / Dia. 1″~8″, épaisseur 3.175mm, 6.35mm / 0.125″ et 0.25″
Matériau : Carbure de zirconium, ZrC
Pureté : 99,5
Forme : Disque, plaque, colonne, étagé, planaire, rotatif ou personnalisé
Gamme de tailles : Diamètre 20~205mm / Dia. 1″~8″, épaisseur 3.175mm, 6.35mm / 0.125″ et 0.25″
Autre : Collage à l’indium recommandé
Matériau : Nitrure de zirconium, ZrN
Propriétés : 99,5% de pureté, 7,09g/cc de densité, 2,980°C M.P.
Forme : Disque, plaque, colonne, étagé, planaire, rotatif ou personnalisé
Gamme de tailles : Diamètre 20~205mm / Dia. 1″~8″, épaisseur 3.175mm, 6.35mm / 0.125″ et 0.25″
Autre : Collage à l’indium recommandé
Pureté : Sur mesure
Forme : Disque, plaque, colonne, étagé, plan, rotatif ou personnalisé
Taille : Taille sur mesure
Matériaux : Ti/Zr, Zr/Y, Zr/W, Zr/Ti, Ni/Zr, Zr/Al, Zr/Cu, PST, Co/Nb/Zr, ZrB2, ZrSi2, ZrF4, LLZO, BZCY, ZrO2/CaO, LiZrOx, PbZrO3, CaZrO3, Gd2Zr2O7, ZrO2/Y2O3, SrZrO3, BaZrO3, HfO2/Y2O3, PbZrTiO3, etc.
Autres : Contact pour personnaliser vos cibles de pulvérisation
Les cibles de pulvérisation au zirconium sont essentielles dans diverses applications de pointe, notamment les semi-conducteurs, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD), le dépôt physique en phase vapeur (PVD), l’affichage et les applications optiques. Ces cibles sont fabriquées à partir d’éponges de zirconium et de barres de cristal. Elles sont utilisées dans la fabrication additive, les revêtements par pulvérisation thermique, le pressage isostatique à chaud, les applications de terres rares, les catalyseurs environnementaux et les matériaux OLED. Les cibles de pulvérisation de zirconium ont un point de fusion élevé de 1852,0 °C et une densité de 6506 kg/m³, ce qui les rend indispensables dans les secteurs de l’aérospatiale, de l’automobile, de l’électronique, du stockage de l’énergie et des produits pharmaceutiques.
Un service de collage arrière pour les cibles de pulvérisation est disponible.
Lorsque l’on compare les cibles rotatives aux cibles planaires, il est évident que les cibles rotatives offrent plusieurs avantages. Elles contiennent plus de matériau, ce qui permet une plus grande utilisation, des cycles de production plus longs et une réduction des temps d’arrêt du système, augmentant ainsi le rendement de l’équipement de revêtement. En outre, l’utilisation de densités de puissance plus élevées est possible en raison de la répartition uniforme de l’accumulation de chaleur sur la surface de la cible. Il en résulte une augmentation de la vitesse de dépôt et une amélioration des performances lors de la pulvérisation réactive.
Les cibles de pulvérisation de zirconium jouent un rôle crucial dans diverses applications, principalement dans les processus de dépôt de couches minces utilisant les techniques de dépôt physique en phase vapeur (PVD). Voici quelques applications et caractéristiques critiques associées aux cibles de pulvérisation de zirconium :
Les cibles de pulvérisation de zirconium sont polyvalentes et leurs applications continuent de s’étendre grâce aux progrès constants de la science et de la technologie des matériaux.
Nos cibles de pulvérisation au zirconium sont clairement étiquetées et marquées à l’extérieur pour garantir une identification et un contrôle de qualité efficaces. Un grand soin est apporté pour éviter tout dommage qui pourrait être causé pendant le stockage ou le transport.