MetalsTek Engineering est très fier de faire progresser les cibles de pulvérisation de cobalt. Notre expertise et l’utilisation de technologies de pointe nous permettent d’atteindre l’innovation et l’excellence dans l’industrie. Les principaux fabricants du monde entier nous font confiance et nous établissons la norme d’excellence en matière de cibles de pulvérisation de cobalt. Nos solutions sont conçues pour propulser les entreprises vers l’avant et ouvrir la voie aux avancées technologiques.
Matériau : Cobalt, 99,9%, 99,95%, 99,99%.
Propriétés : Métallique grisâtre, 1 495°C M.P., 8,9 g/cc Densité ; 100 W/m.K Conductivité thermique, pulvérisation DC, 13,0*10-6/K Coefficient de dilatation thermique
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : CoO- 99.9%~99.99%; / Co3O4– 99.9%~99.999%
Propriétés : Co3O4– Noir, 895°C M.P., 6.11g/cc Densité ; 240.80 M.W.
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium Recommandé
Matériau : Aluminium cobalt
Pureté : Co/Al ou Al/Co, 99,9% ~ 99,95%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : Chrome Cobalt
Pureté : Co/Cr ou Cr/Co, 99,9 % ~ 99,99 %.
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : Fer Cobalt
Pureté : Co/Fe, 99,9% ~ 99,95%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : Nickel cobalt
Pureté : Co/Ni, 99,9% ~ 99,99%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : Cuivre Cobalt
Pureté : Cu/Co, 99,9% ~ 99,99%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : Titane cobalt
Pureté : Co/Ti, 99,9% ~ 99,99%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : Cu/W, 99,9% ~ 99,95%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : Co/Pt, 99,9% ~ 99,999%
Propriétés : 254.02 M.W., 1,680-1,770℃ M.P.
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : Co/Ni/Cr, 99,9% ~ 99,95%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : Alliage Cobalt Chrome Nickel, 99.9%~99.999%
Propriétés : Métallique, 9,7g/cc Densité, 13 µm/m-K Dilatation thermique
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium
Matériau : Co/Cr/Fe/Ni/Al, 99,9% ~ 99,999%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
La cible de pulvérisation CoCrFeNiAl High-Entropy Alloy (HEA) est un matériau essentiel utilisé dans le processus de dépôt par pulvérisation, qui est largement employé dans l’industrie des semi-conducteurs et des couches minces. Cette technique consiste à déposer de fines couches de matériaux sur un substrat, ce qui constitue une étape cruciale dans la fabrication de dispositifs électroniques tels que les circuits intégrés et les cellules photovoltaïques. En outre, elle joue un rôle crucial dans la création de revêtements protecteurs appliqués sur diverses surfaces. La polyvalence du dépôt par pulvérisation cathodique le rend indispensable dans toute une série d’applications, facilitant la production de composants électroniques de haute performance et améliorant la durabilité des surfaces dans divers contextes.
La cible de pulvérisation CoCrFeNiAl HEA est composée d’une combinaison de cobalt, de chrome, de fer, de nickel et d’aluminium, et elle illustre véritablement le potentiel d’innovation des alliages à haute entropie. Ces matériaux constituent une nouvelle classe d’alliages connus pour leurs propriétés exceptionnelles, notamment une solidité remarquable, une résistance supérieure à la corrosion et une stabilité thermique robuste. Cependant, en raison de certaines caractéristiques de l’alliage CoCrFeNiAl, telles que la fragilité et la faible conductivité thermique, des précautions particulières de manipulation sont nécessaires. Le collage à l’indium est recommandé pour relever ces défis et garantir des performances optimales pendant le processus de pulvérisation.
Malgré ses exigences particulières en matière de manipulation, la cible de pulvérisation HEA CoCrFeNiAl reste indispensable dans diverses applications de l’industrie électronique et au-delà. Sa polyvalence et ses propriétés exceptionnelles en font un choix privilégié pour les fabricants à la recherche de couches minces et de revêtements protecteurs de haute qualité. Grâce à sa capacité à améliorer les performances et la longévité des appareils électroniques et des matériaux de surface, cette cible de pulvérisation joue un rôle essentiel pour faire progresser l’innovation technologique et répondre aux exigences des applications industrielles modernes.
Matériau : Co/Cr/Fe/Ni/Mn, 99,9% ~ 99,999%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium Recommandé
Applications : Dispositifs électroniques, cellules photovoltaïques et revêtements
Matériau : Co/Fe/B, 99,9% ~ 99,999%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium Recommandé
La cible de pulvérisation Cobalt-Fer-Bore est fabriquée en combinant du cobalt, du fer et du bore dans le rapport souhaité, puis en compactant et en frittant le mélange pour obtenir une cible solide. La cible est ensuite montée à l’intérieur d’un système de pulvérisation, où elle est bombardée avec des ions à haute énergie pour libérer des atomes qui se déposent sur le substrat.
Matériau : Co/Ni/V, 99,9% ~ 99,999%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium Recommandé
La cible de pulvérisation CoNiV High-Entropy Alloy (HEA) est un matériau spécialisé utilisé dans le processus de dépôt par pulvérisation, en particulier dans des industries telles que la fabrication de semi-conducteurs et le revêtement de couches minces. Le dépôt par pulvérisation est une technique largement utilisée pour appliquer de fines couches de matériaux sur un substrat, jouant un rôle essentiel dans la fabrication de divers dispositifs électroniques, de cellules photovoltaïques et de revêtements de surface.
Les alliages à haute entropie (HEA) représentent une classe distincte de matériaux réputés pour leurs propriétés uniques, qui découlent de leur composition de plusieurs éléments dans des proportions à peu près égales. Selon la combinaison spécifique des éléments utilisés, ces alliages peuvent présenter une résistance mécanique, une résistance à la corrosion et une stabilité thermique exceptionnelles.
Notes de manutention
En raison de certaines caractéristiques telles que la fragilité et la faible conductivité thermique qui ne sont pas propices à la pulvérisation, il est recommandé d’utiliser une liaison à l’indium pour la cible de pulvérisation de l’alliage à haute entropie (HEA) CoNiV. En outre, ce matériau présente une faible conductivité thermique et est sujet aux chocs thermiques.
Cible de pulvérisation cathodique Cobalt Niobium Zirconium, Co/Nb/Zr
Matériau : Co/Ta/Zr, 99,99%.
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : Co/Tb/Fe, 99,9%~99.999%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : CoSi2, 99,9%~99.999%
Propriétés : Noir, 4,9g/cc Densité, 115,1 M.W.
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : CoFe2O4, 99,9%~99.999%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : LiCoO2 >99,7%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : LiNi(1-x)CoxO2, 99,9%~99.999%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : LaxSr1-xCoyFe1-yO3, 99,9%~99.999%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : MnCo2O4, 99,9%~99.999%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Matériau : SrCoO3, 99,9%~99.999%
Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure
Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″
Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″
Liaison : Indium, élastomère
Les cibles de pulvérisation de cobalt ont de nombreuses applications dans la production de films minces pour diverses industries, notamment l’électronique, l’optique et les revêtements décoratifs. Des options de cibles de cobalt personnalisées sont également disponibles pour répondre à des besoins spécifiques. Ces variantes peuvent inclure des alliages de cobalt tels que CoCr, CoNi ou CoFe ou des dopants tels que l’azote, l’oxygène ou le carbone pour ajuster les propriétés du film. Les cibles de pulvérisation du cobalt permettent un contrôle précis des processus de dépôt, ce qui se traduit par des films minces uniformes d’excellente qualité, avec une solide adhérence et des caractéristiques souhaitables. Par conséquent, les cibles contenant du cobalt sont essentielles dans la technologie de pulvérisation, permettant la création de matériaux avancés avec diverses fonctionnalités pour une large gamme d’applications.
Les principales cibles de pulvérisation du cobalt comprennent les cibles de pulvérisation du cobalt, les alliages de cobalt (y compris certains alliages à haute entropie), les cibles de pulvérisation de l’oxyde de cobalt et les cibles de pulvérisation des composés de cobalt.
En raison de leurs propriétés uniques, les cibles de pulvérisation du cobalt et des métaux apparentés au cobalt trouvent diverses applications dans différents secteurs. Parmi les applications les plus importantes, citons
1. Fabrication de semi-conducteurs: Les cibles de pulvérisation du cobalt sont utilisées dans la production de dispositifs semi-conducteurs tels que les circuits intégrés (CI), qui sont utilisés dans les processus de dépôt de métal pour les interconnexions et les contacts. L’excellente conductivité électrique du cobalt et sa compatibilité avec les processus avancés de fabrication de semi-conducteurs en font un choix idéal pour ces applications.
2. Revêtements en couches minces: Les cibles de pulvérisation du cobalt et des alliages de cobalt déposent des couches minces sur des substrats à des fins diverses, notamment la résistance à la corrosion, la résistance à l’usure et les revêtements décoratifs. Ces revêtements trouvent des applications dans les pièces automobiles, l’électronique grand public, les composants aérospatiaux et les appareils médicaux.
3. Supports de stockage magnétiques: Les cibles de pulvérisation du cobalt sont essentielles à la production de supports de stockage magnétiques tels que les disques durs (HDD). Les couches minces à base de cobalt sont utilisées comme couches d’enregistrement en raison de leur coercivité magnétique élevée et de leur stabilité, ce qui permet un stockage de données à haute densité avec des performances fiables.
4. Revêtements optiques: Les cibles de pulvérisation d’oxyde de cobalt sont utilisées pour déposer des revêtements optiques pour les lentilles, les miroirs et d’autres composants optiques. Ces revêtements peuvent avoir des propriétés antireflets, améliorer la transmission de la lumière ou conférer des couleurs spécifiques ou des effets optiques aux surfaces.
5. Piles à combustible et dispositifs électrochimiques: Les matériaux à base de cobalt sont utilisés comme catalyseurs dans les piles à combustible et autres dispositifs électrochimiques pour la conversion et le stockage de l’énergie. Les cibles de pulvérisation du cobalt déposent de fines couches de catalyseur sur les électrodes, facilitant ainsi des réactions électrochimiques efficaces.
6. Applications biomédicales: Les couches minces à base de cobalt déposées à partir de cibles de pulvérisation cathodique ont des applications potentielles dans les dispositifs biomédicaux et les implants. Ces revêtements peuvent assurer la biocompatibilité, la résistance à la corrosion et d’autres propriétés souhaitables pour les implants tels que les stents, les implants orthopédiques et dentaires.
Dans l’ensemble, le cobalt et les cibles de pulvérisation liées au cobalt permettent des technologies et des applications avancées dans un large éventail d’industries, de l’électronique aux télécommunications en passant par l’énergie, les soins de santé et bien plus encore.
Nos cibles de pulvérisation de cobalt sont clairement étiquetées à l’extérieur afin d’assurer une identification efficace et un contrôle de qualité. Nous veillons à ce qu’elles ne soient pas endommagées pendant le stockage ou le transport.