Cibles de pulvérisation de platine

MetalsTek Engineering est un fournisseur de cibles de pulvérisation de confiance qui travaille avec des partenaires internationaux pour vous offrir des produits de la plus haute qualité aux prix les plus abordables. Nos cibles de pulvérisation en platine comprennent le Pt, le Pb/Pt, le Pt/Ru, le Pt/Ag, le Au/Pt, le Co/Pt, le Pt/Mn, le Pt/Ir, le PtSiH3, et bien d’autres encore.

Liste des cibles de pulvérisation de platine

Cible de pulvérisation de platine, Pt

Matériau : Platine

Pureté : 99,95%~99.999%

Propriétés : Densité 21,45g/cc, P.M. 1,772°C, Rapport Z 0,245, 72 W/m.K Conductivité thermique

Coefficient de dilatation thermique : 8,8 x 10-6/K

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤8″ * Longueur≤14″

Liaison : Indium, cuivre ou liaison élastomère recommandée

Cible de pulvérisation cathodique plomb-platine, Pb/Pt

Matériau : Plomb Platine

Pureté : 99%~99.999%

Propriétés : 117°C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤8″ * Longueur≤14″

Principales applications : Dépôt de couches minces, décoration, DEL, écrans, semi-conducteurs, revêtement de verre, revêtements optiques

Cible de pulvérisation platine-argent, Pt/Ag

Matière : Argent platine

Pureté : 99%~99.999%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤8″ * Longueur≤14″

Principales applications : Dépôt de couches minces, décoration, DEL, écrans, semi-conducteurs, revêtement de verre, revêtements optiques

Cible de pulvérisation d'or et de platine, Au/Pt

Matériau : Or Platine

Pureté : 99,9%, 99,95%, composition variable

Propriétés : Plus de 1000°C M.P., 392.05 M.W.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤8″ * Longueur≤14″

Principales applications : Industries de l’électronique et des capteurs

Cible de pulvérisation Cobalt Platine, Co/Pt

Matériau : Cobalt Platine

Pureté : 99,9%~99.999%

Propriétés : Plus de 1680°C M.P., 254.02 M.W.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤8″ * Longueur≤14″

Principales applications : Industries de l’électronique et des capteurs

Cible de pulvérisation platine-manganèse, Pt/Mn, Mn/Pt

Matériau : Platine Manganèse

Pureté : 99,9%~99.999%Composition variable

Poids moléculaire : 250,02

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤8″ * Longueur≤14″

Liaison : Liaison à l’indium recommandée

Cible de pulvérisation de platine iridium, Pt/Ir

Matériau : Platine Iridium

Pureté : 99,9%~99.999%Composition variable

Poids moléculaire : 387,3

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤8″ * Longueur≤14″

Liaison : Liaison à l’indium recommandée

Description

Les cibles de pulvérisation de platine, composées de platine pur à 99,99 % et d’aspect gris métallique, sont essentielles dans les processus de dépôt de couches minces pour des industries telles que la fabrication de semi-conducteurs et l’optique. Ces cibles présentent une conductivité thermique élevée de 72 W/m.K, un point de fusion de 1 772 °C, une densité de 21,4 g/cc et une pression de vapeur de 10-4 Torr à 1 747 °C, ce qui les rend idéales pour les applications dans les cellules solaires, les piles à combustible, les convertisseurs catalytiques, les électrodes et la fabrication de bijoux.

Applications des cibles de pulvérisation de platine

Les cibles de pulvérisation de platine et de platine trouvent de nombreuses applications dans diverses industries en raison de leurs propriétés uniques et de leur polyvalence. Parmi les applications critiques, on peut citer

  1. Fabrication de semi-conducteurs : Les cibles de pulvérisation de platine sont utilisées pour fabriquer des dispositifs semi-conducteurs avancés. Elles sont utilisées pour le dépôt de couches minces dans des processus tels que les interconnexions, les couches barrières et les matériaux d’électrodes. La conductivité élevée et la stabilité chimique du platine en font un matériau idéal pour garantir des performances électriques fiables dans les circuits intégrés.
  2. Revêtements optiques : Les cibles de pulvérisation de platine sont utilisées dans le dépôt de films minces pour les revêtements optiques. Ces revêtements sont appliqués aux lentilles, aux miroirs et à d’autres composants optiques pour améliorer leur réflectivité, leur durabilité et leur résistance aux facteurs environnementaux tels que la corrosion et l’abrasion. La forte réflectivité du platine dans le spectre infrarouge le rend particulièrement utile dans des applications telles que les détecteurs infrarouges et les systèmes d’imagerie thermique.
  3. Dispositifs médicaux : Le platine est utilisé dans la production de dispositifs médicaux en raison de sa biocompatibilité et de son inertie. Les cibles de pulvérisation du platine sont utilisées dans le dépôt de revêtements pour les dispositifs médicaux implantables tels que les stimulateurs cardiaques, les endoprothèses et les électrodes neurales. Ces revêtements renforcent la biocompatibilité des dispositifs et améliorent leurs performances à long terme dans le corps humain.
  4. Catalyse : Le platine est un catalyseur très efficace pour diverses réactions chimiques, notamment l’hydrogénation, l’oxydation et les piles à combustible. Les cibles de pulvérisation du platine sont utilisées pour déposer des revêtements catalytiques sur des substrats destinés à des applications telles que les convertisseurs catalytiques automobiles, les piles à combustible et les capteurs chimiques. Le rapport élevé entre la surface et le volume des revêtements en couches minces améliore l’activité et l’efficacité catalytiques de ces dispositifs.
  5. Recherche et développement : Les cibles de pulvérisation de platine sont utilisées dans les laboratoires de recherche pour développer des matériaux et des dispositifs avancés. Les chercheurs utilisent des films minces de platine pour les études de nanotechnologie, de science des surfaces et de photonique. La possibilité de contrôler avec précision l’épaisseur et la composition des revêtements de platine permet aux chercheurs d’explorer de nouveaux phénomènes et de développer des technologies innovantes.

Ces applications démontrent la diversité des utilisations du platine et des cibles de pulvérisation de platine dans toutes les industries, soulignant leur rôle essentiel dans l’avancement des technologies et la satisfaction de divers besoins sociétaux.

Emballage

Nos cibles de pulvérisation en platine sont clairement étiquetées à l’extérieur afin d’assurer une identification efficace et un contrôle de qualité. Nous prenons grand soin d’éviter tout dommage pendant le stockage ou le transport.

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