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MetalsTek Engineering assure la production de cibles de pulvérisation Hafnium fiables et précises pour répondre aux exigences de ces diverses applications. Les cibles de pulvérisation d’hafnium comprennent l’hafnium, l’oxyde d’hafnium, le carbure d’hafnium et le nitrure d’hafnium.
Matériau : Hafnium, Hf
Pureté : 99,99% (Hf+Zr), 99,9% (Ex Zr)
Forme : Disque, Rectangulaire, Marche, Colonne, ou Personnalisée
Gamme de tailles : Disque – Dia.<356mm/14″, Thick >1mm/0.039″
Autre : Avec/sans trou
Bloc – Longueur<813mm/32″, Largeur<305/12″, Epaisseur >1mm/0.039″
| Material Type | Hafnium | Z Ratio | 0.36 |
| Symbol | Hf | Sputter | DC |
| Atomic Weight | 178.49 | Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Atomic Number | 72 | Export Control (ECCN) | 1C231 |
| Appearance | Gray Steel, Metallic | Theoretical Density (g/cc) | 13.31 |
| Thermal Conductivity | 23 W/m.K | Max Power Density (Watts/Square Inch) | 50 |
| Melting Point (°C) | 2,227 | Coefficient of Thermal Expansion | 5.9 x 10-6/K |
Matériau : Carbure de hafnium, HfC
Pureté : 99,5
Forme : Disque, Rectangulaire, Marche, Colonne, ou Personnalisée
Gamme de tailles : Disque – Dia.<356mm/14″, Thick >1mm/0.039″
Bloc – Longueur<813mm/32″, Largeur<305/12″, Epaisseur >1mm/0.039″
Autre : Avec/sans trou
| Material Type | Hafnium Carbide |
| Symbol | HfC |
| Melting Point (°C) | ~3,890 |
| Z Ratio | 1.00 (Recommended) |
| Sputter | RF |
| Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Export Control (ECCN) | 1C231 |
Matériau : Oxyde de hafnium, HfO2
Pureté : 99,95
Forme : Disque, Rectangulaire, Marche, Colonne, ou Personnalisée
Gamme de tailles : Disque – Dia.<356mm/14″, Thick >1mm/0.039″
Bloc – Longueur<813mm/32″, Largeur<305/12″, Epaisseur >1mm/0.039″
| Material Type | Hafnium Oxide | Z Ratio | 1.00 (Recommended) |
| Symbol | HfO2 | Sputter | RF, RF-R |
| Theoretical Density (g/cc) | 9.68 | Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Melting Point (°C) | 2,758 | Export Control (ECCN) | 1C231 |
| Color/Appearance | White, Crystalline Solid | Max Power Density (Watts/Square Inch) | 20 |
Matériau : Nitrure de hafnium, HfN
Pureté : 99,5
Forme : Disque, Rectangulaire, Marche, Colonne, ou Personnalisée
Gamme de tailles : Disque – Dia.<356mm/14″, Thick >1mm/0.039″
Bloc – Longueur<813mm/32″, Largeur<305/12″, Epaisseur >1mm/0.039″
| Material Type | Hafnium Nitride | Z Ratio | 1.00 (Recommended) |
| Symbol | HfN | Sputter | RF, RF-R |
| Theoretical Density (g/cc) | 13.8 | Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Melting Point (°C) | 3,305 | Export Control (ECCN) | 1C231 |
| Color/Appearance | Yellow-Brown, Crystalline Solid | ||
Les cibles de pulvérisation en carbure de hafnium sont utilisées pour le dépôt de couches minces, la décoration, les semi-conducteurs, les écrans, les LED et les dispositifs photovoltaïques, ainsi que pour les revêtements fonctionnels.
Les cibles de pulvérisation au hafnium sont essentielles dans les processus de dépôt de couches minces pour diverses applications industrielles et de recherche. Ces cibles sont utilisées dans les techniques de dépôt physique en phase vapeur (PVD) et de pulvérisation cathodique pour créer des couches minces aux propriétés spécifiques. Le hafnium est disponible en haute pureté avec une composition de Hf, un numéro atomique de 72 et une densité de 13,31 g/cc. Le point de fusion du hafnium est de 2233 °C, et la pureté des cibles de pulvérisation varie généralement entre 99,9 % et 99,99 % afin de garantir des films déposés de haute qualité. Les cibles de pulvérisation en hafnium sont disponibles sous différentes formes, y compris des options standard et personnalisées pour répondre aux exigences d’applications spécifiques. Elles sont utilisées dans diverses applications, notamment le dépôt de semi-conducteurs, l’optique, la protection contre l’usure, les revêtements décoratifs et les écrans. Les cibles de pulvérisation d’Hafnium sont connues pour leur conductivité thermique d’environ 23 W/m.K.
En raison de leurs propriétés uniques, les cibles de pulvérisation de l’hafnium et de ses dérivés trouvent des applications dans divers domaines technologiques de pointe. Parmi les applications les plus importantes, on peut citer
Les diverses applications des cibles de pulvérisation d’hafnium soulignent leur importance dans les technologies et les industries de pointe. Ces cibles jouent un rôle essentiel dans le développement et la fabrication de matériaux et de dispositifs avancés.
Nos cibles de pulvérisation et nos matériaux d’évaporation en hafnium sont clairement étiquetés et marqués à l’extérieur pour garantir une identification et un contrôle de qualité efficaces. Nous prenons grand soin d’éviter tout dommage qui pourrait être causé pendant le stockage ou le transport.