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MetalsTek Engineering propose des composés d’hafnium de haute qualité à des prix compétitifs. Les produits d’oxyde d’hafnium comprennent la poudre d’oxyde d’hafnium, la poudre de nano oxyde d’hafnium, la poudre d’oxyde de plomb d’hafnium, le matériau d’évaporation d’oxyde d’hafnium et la cible de pulvérisation d’oxyde d’hafnium.
Matériau : Oxyde de hafnium, HfO2
Pureté : HfO2+ZrO2>99.9%~99.99% (ZrO2<0.5%)
Propriétés : Blanc cassé, 9,68 g/cc Densité, ~2,810°C P.M., 210,49 M.W.
Forme : Poudre, Granules, Comprimés/Pellets
Taille des particules : Poudre 50nm, 0.1~500um,
Granules 1~12mm,
Tablettes Dia.10~18mm*Épaisseur 4~6mm
Matériau : Oxyde de hafnium, HfO2
Pureté : 99,9
Propriétés : Blanc cassé, 9,68g/cc Densité, ~2 758°C M.P., ~5 400°C B.P.
APS : 50nm
Surface : 20m2/g
Applications : Revêtements optiques, thermocouples
Matériau : Poudre d’oxyde de plomb hafnium, HfPbO3
Pureté : 98% Min.
Densité : 10,04 g/cc
Poids moléculaire : 434.0
Masse exacte : 435,90796 g/mol
N° CAS : 12029-23-1
Matériau : Oxyde de hafnium, HfO2
Pureté : 99,9%~99.99%
Propriétés : Blanc cassé, 9,68 g/cc Densité, 2,810°C P.M., 210,49 M.W.
Forme : Pastilles, granulés ou sur mesure
Coefficient de dilatation thermique : 5,6 x 10-6/K
Application : Dépôt de semi-conducteurs, CVD, PVD, optique, revêtements décoratifs, écrans
Matériau : Oxyde de hafnium, HfO2
Pureté : 99,95
Forme : Disque, Rectangulaire, Marche, Colonne, ou Personnalisée
Gamme de tailles : Disque – Dia.<356mm/14″, Thick >1mm/0.039″
Bloc – Longueur<813mm/32″, Largeur<305/12″, Epaisseur >1mm/0.039″
| Material Type | Hafnium Oxide | Z Ratio | 1.00 (Recommended) |
| Symbol | HfO2 | Sputter | RF, RF-R |
| Theoretical Density (g/cc) | 9.68 | Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Melting Point (°C) | 2,758 | Export Control (ECCN) | 1C231 |
| Color/Appearance | White, Crystalline Solid | Max Power Density (Watts/Square Inch) | 20 |
Les oxydes de hafnium sont un groupe de composés chimiques contenant du hafnium et de l’oxygène. Le composé le plus courant et le plus stable est l’oxyde de hafnium(IV) (HfO2), également connu sous le nom de dioxyde de hafnium ou Hafnia. Les oxydes de hafnium ont diverses applications en raison de leurs propriétés uniques, telles qu’une constante diélectrique élevée, l’isolation électrique et la stabilité.
| HfO2 + ZrO2 | > 99.9 | Mn | 0.0009 |
| Zr | 0.21 | Mo | <0.0005 |
| Al | 0.0042 | Na | <0.0001 |
| Ca | <0.0002 | Ni | 0.0019 |
| Cd | 0.0004 | P | 0.0006 |
| Co | 0.0004 | Pb | <0.0004 |
| Cr | 0.0012 | Sn | <0.0018 |
| Cu | <0.0005 | Ti | 0.0056 |
| Fe | 0.0015 | V | <0.0004 |
| Mg | 0.0009 | Cl- | 0.9 |
Parmi les applications critiques des oxydes d’hafnium, on peut citer
Ces applications illustrent la polyvalence et l’importance des oxydes de hafnium dans divers secteurs, notamment l’électronique, les semi-conducteurs et les revêtements optiques.
Nos oxydes de hafnium sont clairement étiquetés et marqués à l’extérieur pour garantir une identification et un contrôle de qualité efficaces. Nous prenons grand soin d’éviter tout dommage qui pourrait être causé pendant le stockage ou le transport.