Menu
MetalsTek Engineering bietet hochwertige Hafniumverbindungen zu wettbewerbsfähigen Preisen an. Die Hafniumoxid-Produkte umfassen Hafniumoxid-Pulver, Nano-Hafniumoxid-Pulver, Hafnium-Bleioxid-Pulver, Hafniumoxid-Verdampfungsmaterial und Hafniumoxid-Sputtering-Target.
Material: Hafnium-Oxid, HfO2
Reinheit: HfO2+ZrO2>99,9%~99.99% (ZrO2<0,5%)
Eigenschaften: Off-weiß, 9,68 g/cc Dichte, ~2.810°C M.P., 210,49 M.W.
Form: Pulver, Granulat, Tabletten/Pellets
Partikelgrößen: Pulver 50nm, 0,1~500um,
Körnchen 1~12mm,
Tabletten Durchmesser 10~18mm*Dicke 4~6mm
Material: Hafnium-Oxid, HfO2
Reinheit: 99,9%
Eigenschaften: Off-weiß, 9,68 g/cc Dichte, ~2.758°C M.P., ~5.400°C B.P.
APS: 50nm
Oberfläche: 20m2/g
Anwendungen: Optische Beschichtungen, Thermoelemente
Material: Hafnium-Bleioxid-Pulver, HfPbO3
Reinheit: 98% Min.
Dichte: 10,04 g/cc
Molekulargewicht: 434.0
Genaue Masse: 435.90796 g/mol
CAS #: 12029-23-1
Material: Hafnium-Oxid, HfO2
Reinheit: 99,9%~99.99%
Eigenschaften: Off-weiß, 9,68 g/cc Dichte, 2.810°C M.P., 210,49 M.W.
Form: Pellets, Granulat, oder kundenspezifisch
Wärmeausdehnungskoeffizient: 5,6 x 10-6/K
Anwendung: Halbleiterabscheidung, CVD, PVD, Optik, dekorative Beschichtungen, Displays
Material: Hafnium-Oxid, HfO2
Reinheit: 99,95%
Form: Scheibe, Rechteckig, Stufe, Säule, oder kundenspezifisch
Größenbereich: Scheiben- Durchm.<356mm/14″, Dicke >1mm/0.039″
Block- Länge<813mm/32″, Breite<305/12″, Dicke >1mm/0.039″
| Material Type | Hafnium Oxide | Z Ratio | 1.00 (Recommended) |
| Symbol | HfO2 | Sputter | RF, RF-R |
| Theoretical Density (g/cc) | 9.68 | Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Melting Point (°C) | 2,758 | Export Control (ECCN) | 1C231 |
| Color/Appearance | White, Crystalline Solid | Max Power Density (Watts/Square Inch) | 20 |
Hafniumoxide sind eine Gruppe von chemischen Verbindungen, die Hafnium und Sauerstoff enthalten. Die häufigste und stabilste Verbindung ist Hafnium(IV)-oxid (HfO2), auch bekannt als Hafniumdioxid oder Hafnia. Hafniumoxide finden aufgrund ihrer einzigartigen Eigenschaften, wie hohe Dielektrizitätskonstante, elektrische Isolierung und Stabilität, vielfältige Anwendung.
| HfO2 + ZrO2 | > 99.9 | Mn | 0.0009 |
| Zr | 0.21 | Mo | <0.0005 |
| Al | 0.0042 | Na | <0.0001 |
| Ca | <0.0002 | Ni | 0.0019 |
| Cd | 0.0004 | P | 0.0006 |
| Co | 0.0004 | Pb | <0.0004 |
| Cr | 0.0012 | Sn | <0.0018 |
| Cu | <0.0005 | Ti | 0.0056 |
| Fe | 0.0015 | V | <0.0004 |
| Mg | 0.0009 | Cl- | 0.9 |
Einige der wichtigsten Anwendungen von Hafniumoxiden sind:
Diese Anwendungen verdeutlichen die Vielseitigkeit und Bedeutung von Hafniumoxiden in verschiedenen Industriezweigen, darunter Elektronik, Halbleiter und optische Beschichtungen.
Unsere Hafniumoxide sind zur Gewährleistung einer effizienten Identifizierung und Qualitätskontrolle deutlich gekennzeichnet und etikettiert. Es wird große Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports entstehen könnten.