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MetalsTek Engineering ist ein zuverlässiger Lieferant von Hafniumkarbid. Unsere Produktlinie umfasst Hafniumkarbid-Pulver, Hafniumkarbid-Verdampfungsmaterial und Hafniumkarbid-Sputtering-Target.
Werkstoff: Hafniumkarbid, HfC
Reinheit: 99,5%
Form: Scheibe, Rechteckig, Stufe, Säule, oder kundenspezifisch
Größenbereich: Scheiben- Durchm.<356mm/14″, Dicke >1mm/0.039″
Block- Länge<813mm/32″, Breite<305/12″, Dicke >1mm/0.039″
| Material Type | Hafnium Carbide |
| Symbol | HfC |
| Melting Point (°C) | ~3,890 |
| Z Ratio | 1.00 (Recommended) |
| Sputter | RF |
| Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Export Control (ECCN) | 1C231 |
Anwendungen
– Chemische Gasphasenabscheidung (CVD)
– Physikalische Gasphasenabscheidung (PVD)
– Halbleiter
– Optik
Merkmale
– Hohe Reinheit
– Kundenspezifische Größen erhältlich
Herstellungsprozess
– Herstellung – Kaltgepresst – Gesintert, Elastomer auf Trägerplatte geklebt
– Reinigung und Endverpackung, Gereinigt für den Einsatz im Vakuum,
Schutz vor Umweltverschmutzungen
Schutz beim Versand
Optionen
– 99,5% Mindestreinheit
– Kleinere Größen auch für F&E-Anwendungen erhältlich
– Sputtering Target Bonding Service
Werkstoff: Hafniumkarbid, HfC
Reinheit: 99%, 99,5%, 99,9%
Partikelgröße: 50~500 Maschenweite
Sonstiges: 50μm Mikro-Hafniumkarbid-Pulver verfügbar
| Molecular Weight | 190.54 (g/mol.) |
| Purity | 99.90% |
| Density | 12.2 g/cm³ |
| Particle Size | 50~500 mesh |
| Melting Point | ~3,890°C |
| Softening Temp | ~1,700°C – 2,500°C |
| Boiling Point | 4,603°C |
| Appearance | Black odorless powder |
| Crystal Structure | Cubic |
| CAS # | 12069-85-1 |
| Electric Resistivity | 109 Microhm-cm |
| Solubility In Water | Insoluble |
| Applications | CVD Fuel Cell Solar Energy Sputtering Targets |
Werkstoff: Hafniumkarbid, HfC
Reinheit: 99,5%
Eigenschaften: Schwarz Geruchlos, 12,2 g/cc Dichte, 3.958°C M.P.
Form: Pulver, Pellets, Granulat oder kundenspezifisch
Anwendung: Halbleiterabscheidung, CVD, PVD, Optik, dekorative Beschichtungen, Displays
Hafniumcarbid (HfC) ist eine chemische Verbindung aus Hafnium und Kohlenstoff, die für ihren hohen Schmelzpunkt, ihre Härte und ihre Korrosionsbeständigkeit bekannt ist. Es hat eine kubische (Steinsalz-) Kristallstruktur und ist in der Regel kohlenstoffarm, wobei seine Zusammensetzung oft als HfCx ausgedrückt wird. Hafniumcarbidpulver wird durch Reduktion von Hafnium(IV)-oxid mit Kohlenstoff bei hohen Temperaturen, in der Regel zwischen 1.800 und 2.000 °C, gewonnen.
Nachstehend sind einige typische Verwendungszwecke von Hafniumcarbid aufgeführt:
Diese Anwendungen zeigen die Vielseitigkeit und Bedeutung von Hafniumcarbid in einer Vielzahl von Branchen, darunter Elektronik, Luft- und Raumfahrt und chemische Verarbeitung.
Unsere Hafniumkarbide sind zur Gewährleistung einer effizienten Identifizierung und Qualitätskontrolle deutlich gekennzeichnet und etikettiert. Große Sorgfalt wird darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports entstehen könnten.