Iridium Sputtering Target

Iridium Sputtering Targets werden aufgrund der einzigartigen Eigenschaften von Iridium in einem breiten Spektrum von Anwendungen eingesetzt. Zu den wichtigsten Anwendungen gehören:

• Halbleiterabscheidung: Bei der Halbleiterherstellung werden Iridium-Targets für die Abscheidung dünner Schichten durch chemische Gasphasenabscheidung (CVD) und physikalische Gasphasenabscheidung (PVD) verwendet.
• Optische Anwendungen: Aufgrund seines hohen Reflexionsvermögens und seiner Korrosionsbeständigkeit eignet sich Iridium für optische Beschichtungen, die eine lange Lebensdauer und hohe Leistung erfordern.
• Datenspeichergeräte: Aufgrund seiner Korrosionsbeständigkeit und seiner elektrischen Leitfähigkeit eignet sich Iridium für die Herstellung von Datenspeichern, bei denen es auf langfristige Zuverlässigkeit ankommt.
• Brennstoffzellen: Aufgrund seiner hohen Wärmeleitfähigkeit und Korrosionsbeständigkeit eignet sich Iridium ideal für die Herstellung von Brennstoffzellen, insbesondere in rauen Betriebsumgebungen.
• Glas-Beschichtung: Iridium-Targets werden in der Glasbeschichtungsindustrie für Anwendungen eingesetzt, die dauerhafte und hochwertige Beschichtungen erfordern.
• Abriebfeste Materialien: Aufgrund seiner außergewöhnlichen Härte und Korrosionsbeständigkeit eignet sich Iridium für die Herstellung von verschleißfesten Werkstoffen.

Iridium-Sputter-Targets mit ihrem hohen Reinheitsgrad und ihren anpassbaren Formen spielen eine entscheidende Rolle bei der Weiterentwicklung von Technologien in verschiedenen Sektoren, darunter Elektronik, Luft- und Raumfahrt, Automobilbau und erneuerbare Energien. Ihre Fähigkeit, hochwertige und haltbare Schichten zu erzeugen, macht sie für die Entwicklung von Spitzentechnologien und -geräten unverzichtbar.