MetalsTek ist ein führender Anbieter von hochwertigen Tantalpulvern, die für metallurgische Anwendungen zugeschnitten sind. Diese Pulver zeichnen sich durch fein abgestimmte Korngrößen und einen außergewöhnlich hohen Reinheitsgrad aus. Mit ihrer technischen Funktionalität und Kosteneffizienz erfüllen diese Pulver stets die Erwartungen unserer Kunden. MetalsTek gewährleistet vor allem die Verfügbarkeit von Tantalprodukten der Spitzenklasse, die sich durch gleichbleibende Qualität auszeichnen.
Reinheit: Ta 99,9%, 99,99%, 99,999%
Schmelzpunkt: 3.017 °C
Typische Dichte: 16,6 g/cm3
CAS-NR.: 7440-25-7
Grade | O | H | N | C | Fe | Ni | Cr | Si | Ti | Nb | W | Mo | Mn |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
TA031 | 1500 | 30 | 50 | 50 | 10 | 5 | 5 | 10 | 5 | 10 | 5 | 5 | 5 |
TA032 | 1800 | 30 | 150 | 80 | 50 | 50 | 30 | 50 | 10 | 50 | 30 | 20 | 10 |
TA033 | 2000 | 50 | 150 | 150 | 50 | 50 | 50 | 100 | 10 | 50 | 30 | 20 | 10 |
TA034 | 3000 | 100 | 450 | 200 | 200 | 200 | 200 | 300 | 100 | 300 | 100 | 100 | 10 |
Bulk Density (g/cm3) | 5.0-7.5 | 4.5-7.0 | 3.5 -7.0 | 3.5-7.0 |
Average Particle Size (μm) | 6.0-13.0 | 6.0-12.0 | 5.0-12.0 | 5.0-12.0 |
Reinheit: Ta 99,9% Min.
Morphologie: Sphärisch
Partikelgröße: 50nm, 100nm, 1~10μm, 5~25μm, 15~45μm, kann individuell angepasst werden
Anwendung: Kaltgasspritzen, Plasmaspritzen, Zusatzstoffe für Ziellegierungen, chirurgische Metallimplantate, orthopädische Prothesen, Abschirmteile
Sphärisches Tantalpulver Spezifikationen
Ta (%) | Ti (%) | W (%) | Mo (%) | Cr (%) | Fe (%) | O (%) |
---|---|---|---|---|---|---|
>99.9 | <0.001 | <0.001 | <0.001 | <0.0001 | <0.01 | <0.8 |
Powder Morphology | Particle Size Distribution (nm) | Specific Surface Area (m2/g) | ||||
D10 | D50 | D90 | ||||
Spherical | 0-30 | 50-60 | <300 | ≥10.0 |
Ta (%) | Ti (%) | W (%) | Mo (%) | Cr (%) | Fe (%) | O (%) |
---|---|---|---|---|---|---|
>99.9 | <0.001 | <0.001 | <0.001 | <0.0001 | <0.01 | <0.5 |
Powder Morphology | Particle Size Distribution (nm) | Specific Surface Area (m2/g) | ||||
D10 | D50 | D90 | ||||
Spherical | 30-60 | 80-100 | <1000 | ≥8.0 |
Ta (%) | Ti (%) | W (%) | Mo (%) | Cr (%) | Fe (%) | O (%) |
---|---|---|---|---|---|---|
>99.9 | <0.001 | <0.001 | <0.001 | <0.0001 | <0.01 | <0.08 |
Sphericity (%) | Particle Size Distribution (nm) | Tap Density (g/cm3) | ||||
D10 | D50 | D90 | ||||
>94 | >1 | 5±2 | <10 | ≥10.5 |
Ta (%) | Ti (%) | W (%) | Mo (%) | Cr (%) | Fe (%) | O (%) |
---|---|---|---|---|---|---|
>99.9 | <0.001 | <0.001 | <0.001 | <0.0001 | <0.01 | <0.02 |
Sphericity (%) | Particle Size Distribution (nm) | Bulk Density (g/cm3) | Tap Density (g/cm3) | Fluidity (s/50g) | ||
D10 | D50 | D90 | ||||
>94 | ≥5 | 15±3 | ≤25 | ≥10.0 | ≥10.5 | ≤8.0 |
Ta (%) | Ti (%) | W (%) | Mo (%) | Cr (%) | Fe (%) | O (%) |
---|---|---|---|---|---|---|
>99.9 | <0.001 | <0.001 | <0.001 | <0.0001 | <0.01 | <0.01 |
Sphericity (%) | Particle Size Distribution (nm) | Bulk Density (g/cm3) | Tap Density (g/cm3) | Fluidity (s/50g) | ||
D10 | D50 | D90 | ||||
>94 | >15 | 30±3 | <45 | ≥9.5 | ≥10.0 | ≤6.0 |
Reinheit: Ta 99,9%, 99,99%, 99,999%
Schmelzpunkt: 3.017 °C
Typische Dichte: 16,6 g/cm3
CAS-NR.: 7440-25-7
MetalsTek liefert hochwertiges Tantalpulver für Kondensatoren (4V-40V), das durch Natriumreduktionsverfahren hergestellt wird. Tantal besitzt eine doppelt so hohe Dichte wie Stahl und eine hohe Duktilität und weist den vierthöchsten Schmelzpunkt aller Metalle auf. Seine einzigartige Fähigkeit, außergewöhnlich dünne und schützende Oxidschichten zu bilden, macht es ideal für hochwertige Kondensatoren. Darüber hinaus weist unser Pulver eine große Oberfläche auf, die hervorragende Handhabungs- und Fließeigenschaften gewährleistet.
Anwendungen:
Grade | Chemical Compositions | Physical Properties | Electrical Properties | |||
---|---|---|---|---|---|---|
Impurities ppm≤ | SBD | Fsss | Capacitance | Dc Leakage | ||
O | N | (g/cc) | (μm) | (μFV/g) | (μA/μFV) | |
TaA01 | 1800 | 100 | 1.9-2.5 | 4.5-7.5 | 6000+10 -5% | <2.0×10-4 |
TaA02 | 2200 | 120 | 1.8-2.3 | 4.5-6.5 | 8000+10 -5% | <2.0×10-4 |
TaA03 | 2400 | 150 | 1.7-2.1 | 2.5-4.5 | 15000+10 -5% | <2.2×10-4 |
TaA04 | 1800 | 150 | 1.6-2.0 | 2.4-3.5 | 23000+10 -5% | <2.2×10-4 |
TaA05 | 2300 | 400 | 1.7-2.1 | 2.4-3.5 | 32000+10 -5% | <2.5×10-4 |
TaA06 | 2500 | 400 | 1.6-2.0 | 2.0-3.5 | 40000+10 -5% | <2.5×10-4 |
TaA07 | 3200 | 400 | 1.6-2.0 | 2.0-3.4 | 50000+10 -5% | <2.5×10-4 |
TaA08 | 3600 | 600 | 1.5-1.9 | 1.8-3.0 | 70000+10 -5% | <2.8×10-4 |
TaA09 | 5000 | 1500 | 1.5-1.9 | 1.4-2.8 | 80000+10 -5% | <3.1×10-4 |
TaA10 | 6000 | 1500 | 1.4-2.3 | 1.2-2.6 | 100000+5 -5% | <3.5×10-4 |
TaA11 | 7500 | 1800 | 1.7-1.9 | 0.8-2.2 | 120000+5 -5% | <3.5×10-4 |
TaA12 | 8500 | 2500 | 1.4-2.0 | 1.1-2.3 | 150000+5 -5% | <3.5×10-4 |
TaA13 | 9500 | 2700 | 1.68-1.98 | 1.6-2.8 | 170000+5 -5% | <4.0×10-4 |
TaA14 | 11500 | 3000 | 1.6-2.1 | 1.0-2.6 | 200000+5 -5% | <4.5×10-4 |
Reinheit: Ta 99,9%, 99,99%, 99,999%
Schmelzpunkt: 3.017 °C
Typische Dichte: 16,6 g/cm3
CAS-NR.: 7440-25-7
Tantal besitzt die doppelte Dichte von Stahl und eine hohe Duktilität und hat den vierthöchsten Schmelzpunkt unter allen Metallen. Seine einzigartige Fähigkeit, außergewöhnlich dünne und schützende Oxidschichten zu bilden, macht es ideal für hochwertige Kondensatoren. Darüber hinaus weist unser Pulver eine große Oberfläche auf, die hervorragende Handhabungs- und Fließeigenschaften gewährleistet.
Aplikationen
Grade | Bulk Density | Average Particle Size | Impurities ppm≤ | |
---|---|---|---|---|
g/cm3 | μm | O | N | |
TaB01 | 1.8-3.5 | 5.0-9.5 | 1600 | 60 |
TaB02 | 1.5-3.0 | 3.5-6.0 | 2200 | 150 |
TaB03 | 1.5-2.5 | 3.0-6.0 | 2000 | 150 |
TaB04 | 1.5-2.5 | 3.0-5.5 | 2200 | 150 |
TaB05 | 1.3-2.0 | 2.0-4.5 | 2200 | 200 |
TaB06 | 1.5-2.0 | 2.0-4.0 | 2500 | 300 |
TaB07 | 1.5-2.0 | 2.0-4.0 | 2500 | 300 |
TaB08 | 1.3-2.0 | 1.5-3.5 | 2800 | 400 |
Grade | Inspection Condition | Standard Condition | ||||
---|---|---|---|---|---|---|
Briquetting Weight | Briquetting Density | Sintering Condition | Energized Voltage/Test Voltage | Capacitance | Dc Leakage | |
(g) | (g/cm3) | (℃/min) | (V) | (μFV)/g | μA/(μFV) ≤ | |
TaB01 | 2 | 6.5 | 1850/30 | 240/170 | 5000 | 6×10-4 |
TaB02 | 1 | 5.5 | 1750/30 | 200/140 | 800 | 4.5×10-4 |
TaB03 | 0.2 | 5.5 | 1750/30 | 200/140 | 8000 | 4×10-4 |
TaB04 | 1 | 5.5 | 1700/30 | 160/112 | 10000 | 4×10-4 |
TaB05 | 0.5 | 5 | 1600/30 | 160/112 | 15000 | 5.5×10-4 |
TaB06 | 0.15 | 5 | 1500/30 | 140/98 | 20000 | 5×10-4 |
TaB07 | 0.15 | 5 | 1450/30 | 100/70 | 30000 | 5×10-4 |
TaB08 | 0.15 | 5 | 1400/30 | 70/49 | 40000 | 5×10-4 |
Reinheit: Ta 99,9%, 99,99%, 99,999%
Schmelzpunkt: 3.017 °C
Typische Dichte: 16,6 g/cm3
CAS-NR.: 7440-25-7
Aplikationen
Grade | Bulk Density | Average Particle Size | Impurities ppm≤ | |
---|---|---|---|---|
g/cm3 | μm | O | N | |
TaC01 | 5.0-7.5 | 11.0-17.0 | 1000 | 40 |
TaC02 | 4.5-6.5 | 10.0-16.0 | 1100 | 40 |
TaC03 | 4.5-6.5 | 9.0-15.0 | 1100 | 40 |
TaC04 | 4.5-6.0 | 8.0-14.0 | 1200 | 40 |
TaC05 | 3.0-5.5 | 8.0-13.0 | 1300 | 40 |
TaC06 | 3.0-4.5 | 7.0-12.0 | 1400 | 50 |
TaC07 | 2.5-4.5 | 5.0-7.5 | 2500 | 100 |
Grade | Inspection Condition | Standard Condition | ||||
---|---|---|---|---|---|---|
Briquetting Weight | Briquetting Density | Sintering Condition | Energized Voltage/Test Voltage | Capacitance | Dc. Leakage | |
(g) | (g/cm3) | (℃/min) | (V) | (μFV)/g | μA/(μFV) | |
TaC01 | 2 | 9.5 | 2050/30 | 270/240 | 1000 | 6×10-4 |
TaC02 | 2 | 8.5 | 2050/30 | 270/240 | 1500 | 6×10-4 |
TaC03 | 2 | 8.5 | 2050/30 | 270/240 | 200 | 6×10-4 |
TaC04 | 2 | 7.5 | 2050/30 | 270/240 | 2500 | 7×10-4 |
TaC05 | 2 | 7.5 | 2050/30 | 270/240 | 2800 | 7×10-4 |
TaC06 | 2 | 6.5 | 1950/30 | 270/240 | 3500 | 7×10-4 |
TaC07 | 2 | 6.5 | 2050/30 | 270/240 | 4000 | 7×10-4 |
Tantalpulver weist außergewöhnliche Eigenschaften auf, darunter eine hohe Dichte und eine bemerkenswerte thermische und elektrische Leitfähigkeit. Tantalpulver hat den vierthöchsten Schmelzpunkt aller Metalle und ist daher für Anwendungen in der Optik und Elektronik von großem Nutzen. Seine hervorragende Ermüdungsbeständigkeit macht es haltbarer als Glas und grafische Systeme. Tantal ist auch ein perfektes Material für Kondensatoren. MetalsTek Engineering liefert Tantalpulver in Nanogröße, Mikrogröße, metallurgischer Qualität und Kondensatorqualität (von 4 V bis über 60 V). Bei der Herstellung von Tantalpulver werden hochreine Körner mit minimaler Größe erzeugt, was es zu einer Schlüsselkomponente für die Herstellung von Tantal Sputtering Targets.
Aufgrund dieser besonderen Eigenschaften ist Tantalmetallpulver eine ideale Wahl für verschiedene Anwendungen in der Optik und Elektronik.
Das von MetalsTek Engineering angebotene Tantalpulver wird einer sorgfältigen Behandlung unterzogen, um mögliche Schäden während der Lagerung und des Transports zu minimieren und sicherzustellen, dass die Produkte ihre ursprüngliche Qualität behalten.