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MetalsTek Engineering ist spezialisiert auf die Herstellung von Zinnverdampfungsmaterialien mit einer Reinheit von bis zu 99,999 % und hoher Qualität für den Einsatz in der Halbleiterindustrie, der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD) und der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) für Display- und optische Anwendungen.
Material: Zinn
Reinheit: 99,9%~99.999%
Form: Pellets, Pulver, Granulat oder kundenspezifisch
Größe: 2~6mm Pellets, kann individuell angepasst werden
Anwendungen: Halbleiterabscheidung, CVD, PVD, optische Beschichtungen
Material: Antimon-dotiertes Zinn-Oxid
Reinheit: SnO2:Sb 99,9%~99.99%
Eigenschaften: 6,9g/cc Dichte, ≈1.720°C M.P.
Form: Pellets, Pulver, Granulat oder kundenspezifisch
Größe: 2~6mm Pellets, kann individuell angepasst werden
Anwendungen: Solarzellen, Displays, intelligente Fenster
Material: Zinn-Zink, Zusammensetzung kundenspezifisch
Reinheit: 99,9%~99.999%
Form: Pellets, Pulver, Granulat oder kundenspezifisch
Größe: 2~6mm Pellets, kann individuell angepasst werden
Anwendungen: Halbleiterabscheidung, CVD, PVD, optische Beschichtungen
Material: Zinn-Oxid
Reinheit: 99,9%~99.999%
Eigenschaften: Hellgelb, 6,95g/cc Dichte, ≈1.630°C M.P.
Form: Pellets, Pulver, Granulat oder kundenspezifisch
Größe: 2~6mm Pellets, kann individuell angepasst werden
Material: Zinnsulfid
Reinheit: 99,9%
Eigenschaften: Gelb, 4,5g/cc Dichte, ≈600°C M.P.
Form: Pulver, Granulat, oder kundenspezifisch
Material: Zinnfluorid
Reinheit: 99,9%
Eigenschaften: 4.57g/cc Dichte, ≈213°C M.P.
Form: Pulver, Granulat, oder kundenspezifisch
Anwendungen: Verschleißschutz, dekorativ, Displays, optische Beschichtungen
Zinnaufdampfungsmaterialien werden in Dünnschichtabscheidungsprozessen verwendet und bieten Vorteile wie gute Haftung, Korrosionsbeständigkeit und elektrische Leitfähigkeit. Diese Materialien werden häufig in Anwendungen wie der Halbleiterherstellung, optischen Beschichtungen und Elektronik eingesetzt. Auf Zinn basierende Aufdampfmaterialien, zu denen auch Legierungen wie Zink-Zinn (Zn/Sn) gehören können, bieten eine hochentwickelte Lösung für Dünnschichtabscheidungsprozesse, indem sie die vorteilhaften Eigenschaften von Zinn mit anderen Elementen kombinieren. Die Vielseitigkeit von Zinn und zinnbasierten Aufdampfmaterialien macht sie zu unverzichtbaren Komponenten in Branchen, die von der Elektronik bis zur Luft- und Raumfahrt reichen, wo präzise Dünnfilmbeschichtungen für optimale Leistung und Funktionalität erforderlich sind.
Material Typ | Zinn | E-Beam | Ausgezeichnet |
Symbol | Sn | Thermische Verdampfungstechniken | Boot: Mo |
Atomares Gewicht | 118.71 | Spule: W | |
Ordnungszahl | 50 | Korb: W | |
Erscheinungsbild | Silbrig glänzendes Grau, Metallic | Schmelztiegel:Al2O3 | |
Wärmeleitfähigkeit | 66,6 W/m.K | E-Beam Tiegel Auskleidungsmaterial | FABMATE®, Tantal |
Schmelzpunkt | 232 °C | Temp. (°C) für gegebene Vap. Druck. (Torr) | 10-8: 682 |
Wärmeausdehnungskoeffizient | 22 x 10-6/K | 10-6: 807 | |
Theoretische Dichte | 7,28 g/cc | 10-4: 997 | |
Z-Verhältnis | 0.724 | Kommentare | Benetzt Mo mit niedriger Sputterleistung. Ta-Liner in E-Strahl-Kanonen verwenden. Materialien mit niedrigem Schmelzpunkt sind nicht ideal für Sputtering. |
Zinnverdampfungsmaterialien werden aufgrund ihrer einzigartigen Eigenschaften und Anwendungen in verschiedenen Branchen eingesetzt:
Unsere Zinn- und zinnbasierten Aufdampfmaterialien sind von außen deutlich gekennzeichnet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Wir achten sehr darauf, dass während der Lagerung oder des Transports keine Schäden entstehen.