Chrom-Sputtering-Targets

Chrom-Sputter-Targets für industrielle Anwendungen

MetalsTek Engineering ist ein führender Anbieter von Chrom-Sputter-Targets, einschließlich planarer und rotierender Typen. Wir bieten wettbewerbsfähige Preise und hervorragende Vorlaufzeiten für alle unsere Werkstoffe und können auf Anfrage kundenspezifische Werkstoffe nach beliebigen Spezifikationen/Zeichnungen liefern.

Zu den wichtigsten Chrom-Sputter-Targets gehören Chrom-Sputter-Targets, Chrom-Legierungs-Sputter-Targets, Chrom-Oxid-Sputter-Targets und Chrom-Verbindungs-Sputter-Targets.

Chrom-Sputtering-Target, Cr

Material: Chrom, 99,9%, 99,95%, 99,99%, 99,999%

Eigenschaften: Silbrig metallisch, 1.857°C M.P., 7,2 g/cc Dichte

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chromoxid-Sputtering-Target, CrO3 / Cr2O3

Material: CrO3 / Cr2O3, 99,9%, 99,95%, 99,99%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Cr2O3 – Grüner kristalliner Feststoff, 2.266 Schmelzpunkt, RF, RF-R Sputter.

Chrom-Aluminium-Sputtering-Target, Al/Cr

Material: Aluminium Chrom, 99,9%, 99,95%

Eigenschaften: Grau, 660°C M.P., 5,5g/cc Dichte

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chrom-Kobalt-Zerstäubungstarget, Cr/Co

Material: Chrom-Kobalt, 99,9%~99.99%

Eigenschaften: Silbrig metallisch, 1.330°C M.P., 10g/cc Dichte

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chrom-Kupfer Sputtering Target, Cr/Cu, Cu/Cr

Material: Chrom-Kupfer, 99,9%~99.999%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chrom-Molybdän-Sputtering-Target, c

Material: Chrom-Molybdän, 99,9%~99.99%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chrom-Nickel-Sputtering-Target, Cr/Ni, Ni/Cr

Material: Chrom-Nickel, 99,9%~99.95%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chrom-Titan-Sputtering-Target, Cr/Ti

Material: Chrom-Titan, 99,9%~99.995%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chrom-Vanadium-Sputtering-Target, Cr/V, V/Cr

Material: Chrom Vanadium, 99,9%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Material: Chrom-Titan, 99,9%~99.999%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Kobalt-Nickel-Chrom-Sputtering-Target, Co/Ni/Cr

Material: Kobalt-Nickel-Chrom-Legierung, 99,9%~99.999%

Eigenschaften: Metallisch, 9,7 g/cc Dichte, 13 µm/m-K Wärmeausdehnung

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Kobalt-Chrom-Nickel-Hoch-Entropie (HEA) Sputtertarget, Co/Cr/Ni

Material: Kobalt-Chrom-Nickel-Legierung, 99,9%~99.999%

Eigenschaften: Metallisch, 9,7 g/cc Dichte, 13 µm/m-K Wärmeausdehnung

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Bindung: Indium

Nickel-Chrom-Aluminium-Sputtering-Target, Ni/Cr/Al

Material: Nickel-Chrom-Aluminium-Legierung, 99,9%~99.95%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Silizium-Chrom-Sputtering-Target, Si/Cr

Material: Silizium-Chrom, 99%~99.95%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Nickel-Chrom-Silizium-Sputtering-Target, Ni/Cr/Si

Material: Nickel-Chrom-Silizium, 99,9%~99.95%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Andere Chromlegierung Sputtering Target

Werkstoff: Ni/Cr/Fe, Fe/Cr/Ni (Rostfreier Stahl), Co/Cr/Fe/Ni/Al, Co/Cr/Fe/Ni/Mn

Reinheit: 99,9~99,999%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chromnitrid-Sputtering-Target, Cr2N

Material: Chromnitrid, 99,5%, 99,9%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chromkarbid-Sputtering-Target, Cr3C2

Material: Chromkarbid, 99,5%

Eigenschaften: Grau, 1.895°C M.P., 6,68g/cc Dichte, 180,01 M.W.

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chromfluorid-Sputtertarget, CrF3

Material: Chromfluorid, 99,9 %.

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chromsilicid-Sputtering-Target, CrSi2

Material: Chromsilicid, 99,5 %.

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Bindung: Indium Empfohlen

Chromsulfid-Sputtering-Target, Cr2S3

Material: Chromsulfid, 99,9%

Eigenschaften: Braun bis schwarz, 1.350°C M.P., 3,77g/cc Dichte, 200,19 M.W.

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chrom-Borid Sputtering Target, CrB2

Material: Chrom-Borid, 99.9%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Chrom-Borid-Sputtering-Target, Cr5B3

Material: Chrom-Borid, 99,9%~99.999%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Eigenschaften: Grau, 1.900°C M.P., 6,1 g/cc Dichte, 292,41 M.W.

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″

Kleben: Indium, Elastomer

Beschreibung

Chrom- und chromverwandte Sputtertargets sind bei der Abscheidung dünner Schichten von entscheidender Bedeutung, insbesondere im Bereich der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD). Diese Targets werden aus hochreinem Chrommetall hergestellt und sind die wichtigste Quelle für die Abscheidung von Chrom-Dünnschichten auf verschiedenen Substraten. Chrom-Sputter-Targets werden nach strengen Qualitätsstandards hergestellt und gewährleisten eine einheitliche Zusammensetzung und Dichte, so dass eine gleichmäßige Abscheidung von Dünnschichten auf der Substratoberfläche möglich ist. Mit ihrer ausgezeichneten Sputtereffizienz und ihren hervorragenden Haftungseigenschaften finden Chrom-Dünnschichten aus diesen Targets in verschiedenen Branchen Anwendung, darunter Elektronik, Optik, Automobilbau, Luft- und Raumfahrt und dekorative Beschichtungen. Chrom-Sputter-Targets sind entscheidend für technologische Fortschritte und Innovationen, von korrosionsbeständigen Beschichtungen bis hin zu reflektierenden Schichten und elektrischen Kontakten.

MetalsTek Engineering ist ein führender Anbieter von Chrom-Sputter-Targets, einschließlich planarer und rotierender Typen. Wir bieten wettbewerbsfähige Preise und hervorragende Lieferzeiten für alle unsere Materialien und können kundenspezifische Materialien nach den von Ihnen gelieferten Spezifikationen/Zeichnungen liefern. Ob für chromspezifische Anwendungen oder verwandte Sputtertargets, MetalsTek liefert unvergleichliche Spitzenleistungen in der Werkstofftechnik und erfüllt die sich weiterentwickelnden Anforderungen der modernen Technologie und Innovation.

Eigenschaften von Chrom-Sputter-Targets

Chrom ist ein beliebtes Metall, das für sein glänzendes Aussehen und seine Korrosionsbeständigkeit bekannt ist. Es hat einen hohen Schmelzpunkt, ein spezifisches Gewicht von 7,2 und einen Dampfdruck von 10-4 Torr bei 1.157°C. Chrom wird in der Automobilindustrie zur Herstellung glänzender Beschichtungen auf Rädern und Stoßstangen verwendet. Es wird auch in der Vakuumtechnik verwendet, z. B. bei der Herstellung von Autoglas, Solarzellen, Batterien und glänzenden Beschichtungen, die nicht korrodieren.

Material TypChromWärmeausdehnungskoeffizient4,9 x 10^-6/K
SymbolCrTheoretische Dichte (g/cc)7.2
Atomares Gewicht51.9961Z-Verhältnis0.305
Ordnungszahl24SputternDC
Farbe/ErscheinungsbildSilbrig, metallischMaximale Leistungsdichte (Watt/Quadratzoll)80
Wärmeleitfähigkeit94 W/m.KArt der BindungIndium, Elastomer
Schmelzpunkt (°C)1,857BemerkungenFilme sehr haftend

Kundenspezifische Chrom-Sputter-Targets für Ihre einzigartigen Bedürfnisse

Sind Sie auf der Suche nach der perfekten Schicht? Vertrauen Sie auf unsere jahrzehntelange Erfahrung und unsere umfangreiche Datenbank mit chemischen Zusammensetzungen und Herstellungsverfahren. Unser Team arbeitet ständig an der Verbesserung unserer Sputtertargets und Lichtbogenkathoden, um die folgenden Materialeigenschaften zu verbessern:

  • Korngröße und Mikrogefüge
  • Duktilität
  • Härte des Materials
  • Widerstandsfähigkeit gegen Oxidation
  • Reibungskoeffizient
  • Temperaturbeständigkeit
Wenden Sie sich an uns, um unsere Chrommischung mit zusätzlichen Elementen an Ihre spezifischen Anforderungen anzupassen.

Was uns auszeichnet

High Purity Chromium Grain
Unerreichte Reinheit

Wir bieten Chrom und Sputtertargets auf Chrombasis in ultrahochreinen Formen mit Reinheitsgraden von bis zu 99,999 % an. Diese hohen Reinheitsgrade sorgen für weniger Defekte in Ihren Filmen und Beschichtungen und damit für eine hervorragende Qualität Ihrer Endprodukte.

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Beständig und langlebig

Unsere Sputtertargets sind so konzipiert, dass sie gleichmäßige Abscheidungsraten und gleichbleibende Beschichtungsqualitäten bieten. Sie sind so konstruiert, dass die Partikelerzeugung während des Sputterprozesses minimiert wird. Unsere Targets sind so konstruiert, dass sie den strengen Sputterbedingungen standhalten, eine längere Lebensdauer bieten und Ausfallzeiten reduzieren, was die betriebliche Effizienz verbessert.

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Fortgeschrittene technologische

Unsere Chromtargets sind für Hochleistungsanwendungen konzipiert und nutzen fortschrittliche Technologien und Materialien. Wir bieten maßgeschneiderte Zusammensetzungen für Ihre spezifischen Anwendungsanforderungen und garantieren so die ideale Lösung für Ihre Sputtering-Anforderungen.

Customer Service and Support Team
Außergewöhnliche Unterstützung

Unser Expertenteam bietet Ihnen technische Unterstützung und Beratung zur Verbesserung Ihrer Sputterprozesse. Mit strategisch platzierten Lagerstandorten in der ganzen Welt garantieren wir eine schnelle und zuverlässige Lieferung unserer Sputtertargets.

Chrom-Sputter-Targets Anwendung

Chrom ist ein vielseitiges Metall, das aufgrund seiner einzigartigen Eigenschaften in verschiedenen Industriezweigen eingesetzt wird. Chrom-Sputter-Targets, die aus reinem Chrom oder Chromlegierungen bestehen, finden umfangreiche Anwendungen in Dünnschichtabscheidungsverfahren, insbesondere in physikalischen Gasphasenabscheidungsverfahren (PVD) wie Magnetronsputtern und Ionenstrahlsputtern. Hier sind einige wichtige Anwendungen von Chrom-Sputter-Targets aufgeführt:

1. Dekorative Beschichtungen: Chrombeschichtungen sind für ihre Ästhetik und Korrosionsbeständigkeit bekannt. Sie werden in der Automobilindustrie häufig für dekorative Fahrzeugverkleidungen wie Türgriffe, Stoßstangen und Kühlergrills verwendet. Chrombeschichtungen werden wegen ihrer glänzenden und haltbaren Oberfläche auf Haushaltsarmaturen, Wasserhähne und Badezimmerzubehör aufgetragen.

2. Harte Beschichtungen: Chrombeschichtungen bieten eine ausgezeichnete Härte, Verschleißfestigkeit und Schmierfähigkeit und eignen sich daher für Anwendungen, die Oberflächenschutz und Haltbarkeit erfordern. Diese Beschichtungen werden in Schneidwerkzeugen, Formen und Industriemaschinenkomponenten verwendet, um die Lebensdauer und Leistung unter rauen Betriebsbedingungen zu erhöhen.

3. Optische Anwendungen: Dünne Chromschichten werden in optischen Beschichtungen eingesetzt, da sie sichtbares Licht reflektieren und gleichzeitig Infrarotstrahlung durchlassen können. Sie werden auch in Architekturglas, Sonnenschutzfolien und Spiegeln für Anwendungen von der Gebäudeisolierung bis hin zu Automobilverglasungen und Komponenten für die Luft- und Raumfahrt verwendet.

4. Elektronische Geräte: Chrom-Sputter-Targets sind ein wesentlicher Bestandteil bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen und elektronischen Schaltungen. Sie scheiden dünne Schichten als leitende Schichten, Diffusionsbarrieren und Zwischenverbindungen in der Mikroelektronik, bei Flachbildschirmen und Photovoltaikzellen ab.

5. Schutz vor Abnutzung und Korrosion: Chrombeschichtungen bieten eine hervorragende Beständigkeit gegen Korrosion, Oxidation und chemische Angriffe und eignen sich daher für Schutzbeschichtungen in rauen Umgebungen. Sie werden bei Industrieanlagen, Luft- und Raumfahrtkomponenten und medizinischen Implantaten eingesetzt, um den Verschleiß zu mindern und die Lebensdauer kritischer Teile zu verlängern.

6. Tribologische Anwendungen: Beschichtungen auf Chrombasis zeichnen sich durch geringe Reibung und hohe Verschleißfestigkeit aus und sind daher ideal für tribologische Anwendungen wie Lager, Wellen und Gleitflächen. Diese Beschichtungen verringern Reibungsverluste, verbessern die Energieeffizienz und steigern die Leistung mechanischer Systeme.

7. Barriereschichten: Chrom wird häufig als Sperrschicht in mehrschichtigen Dünnfilmstrukturen verwendet, um die Diffusion von Verunreinigungen zu verhindern und die Integrität der darunter liegenden Schichten zu erhalten. In der Halbleiterherstellung dient Chrom als Diffusionssperre zwischen Kupfer und Silizium, um die Migration von Kupfer zu verhindern und die Zuverlässigkeit der Geräte zu gewährleisten.

Verpackung

Unsere Chrom-Sputter-Targets sind von außen deutlich gekennzeichnet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Um Schäden während der Lagerung oder des Transports zu vermeiden, gehen wir sehr sorgfältig vor.

Sputtering-Targets auf Chrom- und Cr-Basis - Enthüllung der wesentlichen Merkmale

In der heutigen schnelllebigen Welt der Technologie und Industrie spielen Materialien wie Chrom und Sputtertargets auf Chrombasis eine entscheidende Rolle. Diese Materialien sind unverzichtbar für die Abscheidung von Dünnschichten, die Branchen wie Elektronik und Luft- und Raumfahrt verändert haben. Aber was sind Sputtering-Targets und warum ist Chrom für diese fortschrittlichen Anwendungen so wichtig?

Inhaltsübersicht

Kapitel 1

Wofür werden Sputtering-Targets verwendet?

Sputtertargets sind wichtige Materialien, die in einem Sputterverfahren verwendet werden, um dünne Schichten aus einem Material auf einem anderen abzuscheiden. Dazu werden Atome aus dem Targetmaterial auf ein Substrat gesputtert. Diese Technik ist in Herstellungsprozessen in verschiedenen Branchen weit verbreitet, z. B. bei Halbleitern, Solarzellen und Schutzschichten.

Kapitel 2

Was sind Chrom-Sputtering-Targets?

Chrom-Sputter-Targets sind sehr gefragt, weil sie einige wirklich coole Eigenschaften haben. Chrom ist ein Übergangsmetall, das einen hohen Schmelzpunkt hat, zäh ist und nicht anläuft. Es eignet sich hervorragend für die Herstellung von Filmen, die sowohl robust als auch leitfähig sind. Es eignet sich auch hervorragend für die Herstellung von Dingen, die sehr präzise sein und lange halten müssen.

Als Hartstoffschicht schützen Chrom (Cr) und Chromnitrid (CrN) Motorenteile wie Kolbenringe optimal vor schnellem Verschleiß und verlängern so die Lebensdauer wichtiger Bauteile. Bei anderen Bauteilen, wie z.B. Tassenstößeln, wird Chrom als Haftschicht für die DLC-Beschichtung (Diamond Like Carbon) eingesetzt. Unser Chrom kann auch als dekorative Schicht auf Uhren, Elektronikartikeln, Bedienelementen und vielen anderen Produkten verwendet werden, um ihnen einen brillanten Glanz zu verleihen.

Kapitel 3

Sputtering-Targets auf Chrombasis: Ein Überblick

Üblicherweise werden reine Chromtargets verwendet, aber es gibt auch Legierungen und Verbindungen auf Chrombasis, wie z. B. Chromnitrid oder Chromoxid, die für bestimmte Zwecke in verschiedenen Anwendungen eingesetzt werden. Diese Targets auf Chrombasis haben spezifische Eigenschaften, wie erhöhte Härte oder besondere elektrische Eigenschaften, die für bestimmte industrielle Anwendungen wichtig sind.

Kapitel 4

Anwendungen von Sputtering-Targets auf Chrom- und Cr-Basis

Chrom-Sputter-Targets werden in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, von Smartphones bis hin zu Raumfahrzeugen. Sie spielen bei der Halbleiterherstellung eine wichtige Rolle, indem sie Sperrschichten und Leiterbahnen erzeugen. In der Automobilindustrie verbessern gesputterte Chromschichten die Haltbarkeit und Korrosionsbeständigkeit von Bauteilen.

Halbleiter und Elektronik

  • Cr-Sputter-Targets werden für die Abscheidung dünner Schichten bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen verwendet, z. B. bei der Produktion von integrierten Schaltkreisen, Speichergeräten und Mikroelektronik.
  • Cr-Schichten dienen als Adhäsionsschichten, Diffusionsbarrieren und Keimschichten in der Halbleiterherstellung.

Optische Beschichtungen

  • Cr-Targets werden für die Abscheidung von reflektierenden und dekorativen Schichten auf optischen Komponenten wie Spiegeln, Linsen und Filtern verwendet.
  • Cr-Beschichtungen werden bei der Herstellung von Compact Discs, Digital Versatile Discs und anderen optischen Datenspeichermedien verwendet.

Autoindustrie

  • Gesputterte Beschichtungen auf Cr-Basis werden häufig für dekorative und schützende Zwecke auf Automobilteilen wie Rädern, Stoßstangen und Verkleidungsteilen verwendet.
  • Diese Beschichtungen sorgen für eine glänzende, korrosionsbeständige und dauerhafte Oberfläche von Automobilkomponenten und ersetzen die umweltschädliche sechswertige Verchromung.

Fotovoltaik und Energiespeicherung

  • Cr-Schichten werden bei der Herstellung von Photovoltaikzellen und Solarzellen als Rückreflektoren und elektrische Kontakte verwendet.
  • Cr-Beschichtungen werden bei der Herstellung von Batterien und Brennstoffzellen eingesetzt und dienen als Stromsammler und korrosionsbeständige Schichten.

Andere Anwendungen

  • Cr-Sputtertargets werden für die Abscheidung von verschleißfesten und hochtemperaturkorrosionsbeständigen Schichten auf Werkzeugen und Maschinenteilen verwendet.
  • Cr-Folien werden in Flachbildschirmen, funktionellen Beschichtungen und Dekorationsartikeln eingesetzt.

Aufgrund der ausgezeichneten Korrosionsbeständigkeit, Härte und optischen Eigenschaften von Cr- und Cr-basierten Beschichtungen sind Sputtertargets aus diesen Materialien von unschätzbarem Wert für eine breite Palette von Anwendungen in verschiedenen Industriezweigen, insbesondere in der Elektronik-, Optik-, Automobil- und Energiebranche.

Kapitel 5

Der Herstellungsprozess von Chrom und chromhaltigen Targets

Bei der Herstellung von Chrom-Sputter-Targets müssen einige wichtige Schritte beachtet werden, um die besten Ergebnisse zu erzielen. Zunächst beginnt man mit Rohchrom. Dann schmilzt man es ein und mischt es bei Bedarf mit anderen Stoffen. Schließlich formt man es zu Zielscheiben. Es ist wirklich wichtig, sehr vorsichtig zu sein und jedem Schritt große Aufmerksamkeit zu schenken, damit man am Ende die richtige Art von dünnen Schichten erhält.

Verfahren zur Herstellung von Sputtertargets:

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Kapitel 6

Wie wählt man das richtige Sputtering Target? Und Chrom-Target?

Bei der Auswahl des richtigen Chromsputtertargets sind einige wichtige Faktoren zu berücksichtigen. Zuallererst müssen Sie sich Gedanken über die spezifischen Anforderungen Ihrer Anwendung machen. Dazu gehören Dinge wie der Reinheitsgrad des Targets, die Zusammensetzung der Legierung und die Eigenschaften, die Ihr Film haben soll.

Wir bei MetalsTek wissen, dass jede Anwendung anders ist. Deshalb bieten wir eine breite Palette von Optionen an und können unsere Zielscheiben sogar an Ihre speziellen Anforderungen anpassen. Wir sind seit über 20 Jahren in der Branche tätig. Sie können also darauf vertrauen, dass wir Ihnen helfen, das richtige Ziel für Ihre Anwendung zu finden.

Bei der Wahl des richtigen Sputtertargetmaterials müssen Sie einige Dinge beachten. Zuallererst müssen Sie sich Gedanken über die spezifischen Anforderungen Ihrer Anwendung machen. Dazu gehören Dinge wie die elektrischen, optischen und mechanischen Eigenschaften der dünnen Schichten, die Sie herstellen wollen. Diese Eigenschaften können je nach Anwendung stark variieren, daher ist es wichtig, ein Zielmaterial zu wählen, das die gewünschten Ergebnisse liefert.

Neben den Materialeigenschaften und den Anwendungsanforderungen müssen Sie auch Dinge wie Kosteneffizienz, Gerätekompatibilität und das geplante Sputterverfahren berücksichtigen.

Diese Ausrichtung ist von entscheidender Bedeutung, um die gewünschten Schichteigenschaften zu erzielen und sicherzustellen, dass das Target eine stabile Abscheidung unterstützt, insbesondere bei Anwendungen, bei denen die Leitfähigkeit und die Reduzierung von Spurenverunreinigungen entscheidend sind, wie z. B. bei Halbleiter- und leitfähigen Schichten.

Kapitel 7

MetalsTek: Ihr zuverlässiger Partner für Chrom-Sputtering-Targets

Wir bei MetalsTek sind sehr stolz darauf, erstklassige Chrom- und chrombasierte Sputtertargets anzubieten, die den anspruchsvollen Anforderungen der heutigen Industrie gerecht werden. Unser Engagement für Qualität in Verbindung mit unserer Fähigkeit, Targets auf präzise Größen und Zusammensetzungen zuzuschneiden, macht uns zur ersten Wahl für Unternehmen, die Grenzen überschreiten und Großartiges erreichen wollen.

Kapitel 8

Schlussfolgerung

Ohne Materialien wie Chrom in Sputtering-Targets gäbe es die Technologie und die Fortschritte in der Industrie nicht, die wir heute haben. Da wir die Grenzen des Machbaren immer weiter verschieben, wird die Wahl des richtigen Sputtertargets immer wichtiger. MetalsTek ist hier, um Ihnen dabei zu helfen. Wir liefern die Materialien, die die Zukunft gestalten werden.

Möchten Sie Ihre Produkte mit hochwertigen Sputtertargets aus Chrom oder auf Chrombasis verbessern? Kontaktieren Sie MetalsTek noch heute. Lassen Sie uns darüber sprechen, wie wir Ihre Anforderungen erfüllen und Ihnen helfen können, Ihre Technologie voranzubringen.

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