Eisen Sputtering Target

Das Engagement von MetalsTek Engineering für Innovationen gewährleistet die kontinuierliche Entwicklung und Verbesserung der Produktlinie der Eisen-Sputter-Targets.

Eisen Sputtering Target Produktliste

Eisen Sputtering Target, Fe

Material: Eisen, 99,9%~99.95%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Eisenoxid-Sputtering-Target, Fe3O4

Material: Eisenoxid, 99,9 %.

Eigenschaften: ≈1,538°C M.P., 5.18g/cc Dichte

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Kleben: Indium, Elastomer

Eisenoxid-Sputtering-Target, Fe2O3

Material: Eisenoxid, 99,9 %.

Eigenschaften: ≈1,565°C M.P., 5.24g/cc Dichte

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Kleben: Indium, Elastomer

Kobalt-Eisen-Sputtering-Target, Co/Fe

Material: Kobalteisen, 99,9%~99.95%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Eisen-Aluminium-Sputtering-Target, Fe/Al

Material: Eisen-Aluminium, 99,9%~99.999%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Eisen-Chrom-Sputtering-Target, Fe/Cr

Material: Eisen-Chrom, 99,9%~99.95%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Eisen-Mangan-Sputtering-Target, Fe/Mn

Material: Eisen-Mangan, 99,9%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Eisen-Nickel-Sputtering-Target, Fe/Ni Ni/Fe

Material: Eisen-Nickel, 99,9%~99.99%

Zusammensetzung: Kann individuell angepasst werden

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Anwendungen
  • Magnetische Geräte: Für die Herstellung von magnetischen Dünnschichten für Sensoren, Speichergeräte und Lese-/Schreibköpfe.
  • Halbleiterherstellung: Ideal für Halbleiterfertigungsprozesse, einschließlich der Abscheidung von Dünnschichten für integrierte Schaltungen.
  • Optische Beschichtungen: Werden bei der Herstellung von optischen Beschichtungen für Linsen, Spiegel und Filter verwendet.
  • Oberflächentechnik: Wird eingesetzt, um die Oberflächeneigenschaften zu verändern, die Verschleißfestigkeit zu erhöhen und die Reibung in verschiedenen technischen Anwendungen zu verringern.
  • Forschung und Entwicklung: Unverzichtbar für FuE-Projekte, bei denen es um die Abscheidung von Dünnschichten und materialwissenschaftliche Studien geht.

Sputtertarget aus Eisenkarbid, Fe3C

Material: Eisenkarbid, 99,5%

Eigenschaften: ≈1.505°C M.P., 7,7g/cc Dichte

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Sputtertarget aus Eisennitrid, FeN4

Material: Eisennitrid, 99,5%

Eigenschaften: ≈1,473°C M.P., 6.77g/cc Dichte

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Eisensulfid Sputtering Target, FeS

Material: Eisensulfid, 99,9 %.

Eigenschaften: ≈1,194°C M.P., 4.84g/cc Dichte

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Eisenborid-Sputtering-Target, FeB

Material: Eisensulfid, 99,5%

Eigenschaften: 1.389°C M.P., 7,3g/cc Dichte

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Eisen-Silizium-Sputtering-Target, FeSi2

Material: Eisen-Silizium, 99,9%~99.99%

Eigenschaften: 1.220°C M.P., 4,74g/cc Dichte

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″

Block – Dicke≥1mm * Breite ≤14″ * Länge≤32″

Beschreibung

Eisen-Sputter-Targets sind wichtige Komponenten für Dünnschichtabscheidungsprozesse, insbesondere für die Herstellung magnetischer Dünnschichten. Diese Targets sind in verschiedenen Reinheitsgraden, Größen und Dicken erhältlich, um spezifische Anwendungsanforderungen zu erfüllen. Eisen-Sputter-Targets spielen eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von Beschichtungen, die für ihre magnetischen Eigenschaften bekannt sind. Sie sind daher unverzichtbar in Branchen, die eine präzise Kontrolle über die Schichtabscheidung für Anwendungen wie Halbleiterherstellung, Display-Technologien, LED-Produktion und mehr benötigen.

Eisen ist ein weit verbreitetes Metall mit einer metallisch-grauen Farbe. Es ist dehnbar, ferromagnetisch und oxidiert leicht, wenn es Sauerstoff ausgesetzt wird. Es hat einen Schmelzpunkt von 1.535°C, eine Dichte von 7,86 g/cc und einen Dampfdruck von 10-4 Torr bei 1.180°C. Eisen wird in verschiedenen Bereichen eingesetzt, z. B. in Werkzeugen, Automobilen und Maschinen. Durch die Verbindung mit Kohlenstoff entsteht Stahl, der in der Bau- und Automobilindustrie ein wichtiges Material ist. Eisen spielt auch eine wichtige biologische Rolle, indem es den Sauerstofftransport im Blut erleichtert. In Fertigungsprozessen wird es unter Vakuumbedingungen aufgedampft, um Schichten für die Halbleiterproduktion, magnetische Speichermedien, Brennstoffzellen und andere Anwendungen zu erzeugen.

Eisen Spezifikationen

Material Typ

Eisen

Wärmeausdehnungskoeffizient

11,8 x 10-6/K

Symbol

Fe

Theoretische Dichte

7,86g/cc

Atomares Gewicht

55.845

Ferromagnetisch

Magnetisches Material

Ordnungszahl

26

Z-Verhältnis

0.349

Erscheinungsbild

Glänzend, metallisch, gräuliche Tönung

Sputter

DC

Wärmeleitfähigkeit

80 W/m.K

Maximale Leistungsdichte

50 Watt/Quadratzoll

Schmelzpunkt

1,535°C

Kommentare

Greift W an. Filme hart, glatt. Zum Ausgasen leicht vorheizen.

Andere Sputtertargets auf Eisenbasis

Anwendungen von Eisen-Sputter-Targets

  1. Magnetische DünnschichtenWird bei der Abscheidung von magnetischen Dünnschichten für Anwendungen verwendet, die magnetische Eigenschaften erfordern.
  2. Halbleiterindustrie: Unverzichtbar für die Dünnschichtabscheidung bei der Halbleiterherstellung.
  3. Technologien anzeigen: Wird in Flachbildschirmen und in der LED-Produktion für hochwertige Folienbeschichtungen verwendet.
  4. Dekorative Beschichtungen:Angewandt bei der Herstellung dekorativer Beschichtungen mit spezifischen magnetischen Eigenschaften.
  5. Industrielle Anwendungen:In verschiedenen industriellen Prozessen, die eine kontrollierte Dünnschichtabscheidung für spezielle Funktionen erfordern.

Eisen-Sputter-Targets sind vielseitige Materialien, die für die Herstellung magnetischer Dünnschichten mit maßgeschneiderten Eigenschaften entscheidend sind, um die Anforderungen von Branchen wie Halbleiter, Displays und industrielle Anwendungen zu erfüllen.

Verpackung

Unsere Eisen-Sputter-Targets sind von außen deutlich gekennzeichnet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Wir achten sehr darauf, dass sie während der Lagerung oder des Transports nicht beschädigt werden.

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