Wolfram-Sputtering-Targets

MetalsTek Engineering ist ein führender Anbieter von Wolfram-Sputter-Targets. Wir bieten wettbewerbsfähige Preise und hervorragende Vorlaufzeiten für alle unsere Materialien und können kundenspezifische Materialien nach den von Ihnen bereitgestellten Spezifikationen/Zeichnungen liefern.

Für Sputtertargets wird ein Backbonding-Service angeboten.

Wolfram (W) Sputtering Target

Material: Wolfram

Reinheit: W-99,95% Min

Standarddurchmesser: 25,4 mm/1″, 50,8 mm/2″, 76,2 mm/3″, 101,6 mm/4″, 152,4 mm/6″ und 203,2 mm/8″

Standard-Dicke: 3,175mm/0,125″, 6,35mm/0,25″

Sonstiges: Maßgeschneiderte Form und Größen verfügbar, kontaktieren Sie uns für weitere Details

Wolframkarbid (WC) Sputtering Target

Material: Wolframkarbid

Reinheit: WC-99,5% Min

Standarddurchmesser: 25,4 mm/1″, 50,8 mm/2″, 76,2 mm/3″, 101,6 mm/4″ und 152,4 mm/6″

Standard-Dicke: 3,175mm/0,125″, 6,35mm/0,25″

Sonstiges: Maßgeschneiderte Form und Größen verfügbar, kontaktieren Sie uns für weitere Details

Wolframdisilicid (WSi2) Sputtering Target

Material: Wolframdisilizid

Reinheit: WSi2-99,5% Min

Standarddurchmesser: 25,4 mm/1″, 50,8 mm/2″, 76,2 mm/3″, 101,6 mm/4″ und 127 mm/5″

Standard-Dicke: 3,175mm/0,125″, 6,35mm/0,25″

Sonstiges: Maßgeschneiderte Form und Größen verfügbar, kontaktieren Sie uns für weitere Details

Wolframdisulfid (WS2) Sputtering Target

Material: Wolframdisulfid

Reinheit: WS2-99,9% Min

Standarddurchmesser: 25,4 mm/1″, 50,8 mm/2″, 76,2 mm/3″, 101,6 mm/4″, 127 mm/5″, 152,4 mm/6″ und 203,2 mm/8″

Standard-Dicke: 3,175mm/0,125″, 6,35mm/0,25″

Sonstiges: Maßgeschneiderte Form und Größen verfügbar, kontaktieren Sie uns für weitere Details

Wolfram-Oxid (WO3) Sputtering Target

Material: Wolfram

Reinheit: W-99,9% Min

Standarddurchmesser: 25,4 mm/1″, 50,8 mm/2″, 76,2 mm/3″, 101,6 mm/4″, 127 mm/5″, 152,4 mm/6″, 177,8 mm/7″ und 203,2 mm/8″

Standard-Dicke: 3,175mm/0,125″, 6,35mm/0,25″

Sonstiges: Maßgeschneiderte Form und Größen verfügbar, kontaktieren Sie uns für weitere Details

Wolfram-Titan (W/Ti) Sputtering-Target

Material: Wolfram-Titan

Reinheit: W/Ti-99,99% Min

Standard-Durchmesser: Durchmesser 25,4mm/1″, 50,8mm/2″, 76,2mm/3″, 101,6mm/4″, 152,4mm/6″, und 203,2mm/8″

Standard-Dicke: 3,175mm/0,125″, 6,35mm/0,25″

Sonstiges: Maßgeschneiderte Form und Größen verfügbar, kontaktieren Sie uns für weitere Details

Beschreibung

Wolfram-Sputter-Targets sind spezielle Materialien, die bei der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) oder beim Sputtern verwendet werden. Zu den Wolfram-Sputter-Targets gehören reines Wolfram (W), Wolframkarbid (WC), Wolframdisilicid (WSi2), Wolframdisulfid (WS2), Wolframoxid (WO3) und Wolframtitan (W/Ti)-Sputter-Targets.

Sputtern ist eine Technik, bei der Atome oder Moleküle aus einem festen Zielmaterial herausgeschleudert und als dünner Film auf einem Substrat abgeschieden werden.

Rotatorisches Ziel VS. Ebenes Ziel

Vergleicht man Rotations-Targets mit planaren Targets, so zeigt sich, dass sie mehrere Vorteile bieten. Sie enthalten mehr Material, was zu einer höheren Auslastung, längeren Produktionsläufen und geringeren Ausfallzeiten der Anlage führt und damit den Durchsatz der Beschichtungsanlage erhöht. Außerdem sind höhere Leistungsdichten möglich, da sich die Wärme gleichmäßig über die Oberfläche des Targets verteilt. Dies führt zu einer höheren Abscheidegeschwindigkeit und einer verbesserten Leistung beim reaktiven Sputtern.

Verpackung

Unsere Targets für die Wolframsputtern werden zur Gewährleistung einer effizienten Identifizierung und Qualitätskontrolle deutlich gekennzeichnet und beschriftet. Große Sorgfalt wird darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports verursacht werden könnten.

Request A Quote
Attach a Drawing
*Company e-mail address is preferred.