Cible de pulvérisation cathodique en magnésium

MetalsTek Engineering est un fabricant et fournisseur mondial de cibles de pulvérisation cathodique en magnésium et à base de magnésium. Nous sommes spécialisés dans la production de matériaux de revêtement de couches minces de haute pureté ayant la densité la plus élevée possible et la taille moyenne de grain la plus petite possible pour une utilisation dans les cellules solaires, les semi-conducteurs, le dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et le dépôt physique en phase vapeur (PVD), les écrans et les applications optiques.

Cible de pulvérisation cathodique de magnésium, Mg

Cible de pulvérisation cathodique de magnésium, Mg

Matériau : Magnésium

Pureté : 99,9%~99.99%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation cathodique aluminium-magnésium, Al/Mg

Matériau : Alliage d’aluminium et de magnésium

Pureté : 99,9%~99.9995%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation d'oxyde de magnésium, MgO

Matériau : Oxyde de magnésium

Pureté : 99,9%~99.99%

Propriétés : 3,58g/cc Densité, 2,852 °C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation de fluorure de magnésium, MgF2

Matériau : Fluorure de magnésium

Pureté : 99,9

Propriétés : ≈3.15g/cc Densité, 1,263 °C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation de sulfure de magnésium, MgS

Matériau : Sulfure de magnésium

Pureté : 99,9

Propriétés : 2.84g/cc Densité, ≈2,000 °C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation du siliciure de magnésium, Mg2Si

Matériau : Siliciure de magnésium

Pureté : 99,9 %, 99,99 %.

Propriétés : 1,99g/cc Densité, 1,102 °C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″ / Taille sur mesure

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation de diborure de magnésium, MgB2

Matériau : Diborure de magnésium

Pureté : 99,9

Propriétés : 2.57g/cc Densité, 830 °C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Oxyde de zinc dopé avec une cible de pulvérisation de magnésium, ZnMgO

Matériau : Diborure de magnésium

Pureté : 99,9% ~ 99,999%.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation de l'oxyde de magnésium et de zinc, Mg(1-x)ZnxO

Matériau : Diborure de magnésium

Pureté : 99,9% ~ 99,999%.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Description

Le magnésium est un métal alcalino-terreux gris-blanc qui a un point de fusion de 649°C, une densité de 1,74 g/cc et une pression de vapeur de 10-4 Torr à 327°C. Bien qu’il soit inflammable, c’est un matériau polyvalent qui est largement utilisé dans diverses industries. Le magnésium est un élément essentiel à la régulation de la fonction nerveuse, de la pression sanguine et des niveaux de nutriments dans le corps humain, ce qui le rend indispensable à la vie. En raison de sa légèreté et de son rapport poids/résistance élevé, le magnésium est largement utilisé dans les composants d’avions, les carters de moteurs, les ordinateurs portables, les téléphones cellulaires et les appareils photo. En outre, le magnésium et ses alliages sont évaporés sous vide pour produire des supports de stockage magnétiques et optiques, des semi-conducteurs et d’autres applications technologiques, ce qui souligne son importance dans diverses industries.

Spécifications du magnésium (Mg)

Type de matériau

Magnésium

Techniques d’évaporation thermique

Bateau : W, Mo, Ta, Cb

Symbole

Mg

Bobine : W

Poids atomique

24.305

Panier : W

Numéro atomique

12

Creuset :Al2O3

Apparence

Blanc argenté, métallisé

Matériau du revêtement du creuset E-Beam

FABMATE®, Graphite, Tungstène

Conductivité thermique

160 W/m.K

Temp. (°C) pour Vap. donnée Press. (Torr)

10-8: 185

Point de fusion

649 °C

10-6: 247

Coefficient de dilatation thermique

8,2 x 10-6/K

10-4: 327

Densité théorique

1,74 g/cc

Numéro ONU

1869

Rapport Z

1.61

Commentaires

Possibilité de taux extrêmement élevés.

Poutre en E

Bon

Applications

Les cibles de pulvérisation de magnésium ont un large éventail d’applications dans diverses industries :

  1. Cellules solaires à couche mince : Les cibles de pulvérisation de magnésium sont utilisées pour déposer les couches de semi-conducteurs nécessaires à la production de cellules solaires à couche mince, qui sont plus rentables et plus souples que les cellules solaires traditionnelles à base de silicium.
  2. Revêtements optiques : Dans l’industrie optique, les cibles de pulvérisation du magnésium sont utilisées pour déposer des films minces pour les revêtements antireflets sur les lentilles et les filtres optiques, améliorant ainsi les performances des systèmes optiques en réduisant les réflexions indésirables.
  3. Protection contre la corrosion : Les couches minces de magnésium déposées à l’aide de cibles de pulvérisation cathodique peuvent fournir une protection contre la corrosion, ce qui est particulièrement utile dans des industries telles que l’automobile et l’aérospatiale où la prévention de la corrosion est essentielle pour la longévité des composants.
  4. Dispositifs à semi-conducteurs : L’industrie des semi-conducteurs utilise des cibles de pulvérisation de magnésium pour créer des couches minces pour divers composants électroniques, notamment des transistors et des circuits intégrés. La grande pureté de ces cibles garantit la qualité et les performances des dispositifs à semi-conducteurs.
  5. Alliages de magnésium : Les chercheurs et les fabricants utilisent des cibles de pulvérisation de magnésium pour développer et produire des revêtements d’alliages de magnésium pour toute une série d’applications. Ces revêtements peuvent améliorer les propriétés mécaniques et de résistance à la corrosion des matériaux.

Emballage

Nos cibles de pulvérisation de magnésium sont clairement étiquetées à l’extérieur pour garantir une identification efficace et un contrôle de qualité. Nous prenons grand soin d’éviter tout dommage pendant le stockage ou le transport.

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Liste des matériaux d'évaporation du magnésium