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MetalsTek Engineering es un proveedor líder de cátodos de circonio de alta calidad para sputtering. Nuestros productos están diseñados para satisfacer los exigentes requisitos de las industrias de semiconductores, pantallas y óptica. Colabore con MetalsTek Engineering para obtener soluciones de sputtering de vanguardia que impulsen la innovación y la excelencia en sus aplicaciones.
Material: Circonio, Zr
Pureza: 99%, 99,9%, 99,99%.
Forma: Disco, Placa, Columna, Escalonada, Planar, Rotatoria o Personalizada
Rango de tamaño: Diámetro 20~205mm / Dia. 1″~8″, Espesor 3.175mm, 6.35mm / 0.125″ y 0.25″
El circonio, un metal de transición, tiene una densidad de 6,49 g/cc, un punto de fusión de 1.852°C y una presión de vapor de 10-4 Torr a 1.987°C. Su aspecto blanco plateado y su excepcional resistencia a la corrosión hacen que sea muy apreciado en la industria química. Su aspecto blanco plateado y su excepcional resistencia a la corrosión lo hacen muy apreciado en la industria química. El circonio se utiliza en aparatos quirúrgicos, imanes superconductores y revestimientos de reactores nucleares. También sirve como agente de aleación para el acero y su compuesto, la circonia, es un popular sustituto del diamante en joyería. El circonio y sus compuestos se evaporan al vacío para revestimientos ópticos, semiconductores y dispositivos de almacenamiento de datos.
Tanto el circonio como el hafnio pueden aplicarse en la industria nuclear. Sin embargo, tienen propiedades diferentes en la captura de neutrones. Aunque tienen muchas propiedades similares, es necesario separarlos mediante el método de extracción líquida o destilación de sal fundida. Ofrecemos dos grados de cátodos de circonio de alta pureza: bajo contenido en hafnio (250 ppm, o 0,025%) y alto contenido en hafnio.
| Al | 48 | In | <0.05 | Re | <0.05 |
|---|---|---|---|---|---|
| As | <0.05 | Ir | <0.05 | Rh | <0.5 |
| Au | <0.05 | K | 0.25 | S | 16 |
| B | 0.07 | La | <0.013 | Sb | <0.5 |
| Bi | 0.28 | Mg | 0.09 | Sc | 0.6 |
| Br | 0.039 | Mn | 0.2 | Se | <0.05 |
| Ca | 0.33 | Mo | 3.7 | Si | 35 |
| Ce | 0.021 | Na | 0.3 | Sm | <0.05 |
| Cl | 1.6 | Nb | 1.7 | Sn | 16 |
| Co | 0.032 | Nd | <0.05 | Sr | 0.009 |
| Cr | 3.4 | Ni | 3.3 | Ta | 0.66 |
| Cu | 0.16 | Os | <0.05 | Te | <0.5 |
| F | 1.7 | P | 0.35 | Ti | 36 |
| Fe | 51 | Pb | 0.96 | U | 1.1 |
| Ga | 0.1 | Pd | <5 | V | 0.13 |
| Ge | <0.05 | Pr | 0.036 | W | 1.3 |
| I | <0.5 | Pt | <0.05 | Zn | 0.28 |
Material: Circonio, ZrO2
Pureza: 99,9%, 99,95%, 99,99%.
Forma: Disco, Placa, Columna, Escalonada, Planar, Rotatoria o Personalizada
Rango de tamaño: Diámetro 20~205mm / Dia. 1″~8″, Espesor 3.175mm, 6.35mm / 0.125″ y 0.25″
La zirconia, un material versátil, se utiliza principalmente en la producción de cerámicas duras, sobre todo en odontología. Sus aplicaciones se extienden a servir como recubrimiento protector de partículas de pigmentos de dióxido de titanio, material refractario, material de recubrimiento de películas finas y en aislamientos, pilas de combustible, abrasivos y esmaltes. Los cátodos para sputtering de óxido de circonio se emplean en la deposición de películas finas, sobre todo en pilas de combustible, decoración, semiconductores, pantallas, LED y dispositivos fotovoltaicos, así como en el recubrimiento de vidrio.
La circonia estabilizada se utiliza en sensores de oxígeno y membranas de pilas de combustible debido a su alta conductividad iónica y baja conductividad electrónica, lo que la convierte en una valiosa electrocerámica. El dióxido de circonio también se utiliza como electrolito sólido en dispositivos electrocrómicos. Además, la zirconia sirve como precursor de la electrocerámica titanato de circonato de plomo (PZT), un dieléctrico de alto K que se encuentra en diversos componentes.
Modelo: Parcialmente estabilizado ~5% Y2O3, Totalmente estabilizado 8%mol Y2O3
Pureza: 99,9
Forma: Disco, Placa, Columna, Escalonada, Planar, Rotatoria o Personalizada
Rango de tamaño: Diámetro 20~205mm / Dia. 1″~8″, Espesor 3.175mm, 6.35mm / 0.125″ y 0.25″
Material: Carburo de circonio, ZrC
Pureza: 99,5
Forma: Disco, Placa, Columna, Escalonada, Planar, Rotatoria o Personalizada
Rango de tamaño: Diámetro 20~205mm / Dia. 1″~8″, Espesor 3.175mm, 6.35mm / 0.125″ y 0.25″
Otros: Bonding de indio recomendado
Material: Nitruro de circonio, ZrN
Propiedades: Pureza 99,5%, Densidad 7,09g/cc, P.M. 2.980°C
Forma: Disco, Placa, Columna, Escalonada, Planar, Rotatoria o Personalizada
Rango de tamaño: Diámetro 20~205mm / Dia. 1″~8″, Espesor 3.175mm, 6.35mm / 0.125″ y 0.25″
Otros: Bonding de indio recomendado
Pureza: A medida
Forma: Disco, Placa, Columna, Escalonada, Planar, Rotatoria o Personalizada
Talla: Talla a medida
Materiales: Ti/Zr, Zr/Y, Zr/W, Zr/Ti, Ni/Zr, Zr/Al, Zr/Cu, PST, Co/Nb/Zr, ZrB2, ZrSi2, ZrF4, LLZO, BZCY, ZrO2/CaO, LiZrOx, PbZrO3, CaZrO3, Gd2Zr2O7, ZrO2/Y2O3, SrZrO3, BaZrO3, HfO2/Y2O3, PbZrTiO3, etc.
Otros Contacto para personalizar sus cátodos para sputtering
Los cátodos de circonio para sputtering son esenciales en diversas aplicaciones de vanguardia, como semiconductores, deposición química en fase vapor (CVD), deposición física en fase vapor (PVD) para pantallas y aplicaciones ópticas. Estos cátodos se fabrican a partir de esponja de circonio y barras de cristal. Se utilizan en fabricación aditiva, recubrimientos de pulverización térmica, prensado isostático en caliente, aplicaciones de elementos de tierras raras, catalizadores medioambientales y materiales OLED. Los cátodos de circonio para sputtering tienen un alto punto de fusión de 1852,0 °C y una densidad de 6506 kg/m³, lo que los hace indispensables en la industria aeroespacial, de automoción, electrónica, de almacenamiento de energía y farmacéutica.
Disponemos de un servicio de back bonding para cátodos de sputtering.
Al comparar los cátodos rotativos con los planos, es evidente que los rotativos ofrecen varias ventajas. Contienen más material, lo que permite una mayor utilización, tiradas de producción más largas y un menor tiempo de inactividad del sistema, aumentando así el rendimiento del equipo de recubrimiento. Además, el uso de mayores densidades de potencia es posible gracias a la distribución uniforme del calor acumulado sobre la superficie del cátodo. El resultado es una mayor velocidad de deposición y un mejor rendimiento durante el sputtering reactivo.
Los cátodos para sputtering de circonio desempeñan un papel crucial en diversas aplicaciones, principalmente en los procesos de deposición de películas finas mediante técnicas de deposición física en fase vapor (PVD). Estas son algunas de las aplicaciones y características críticas asociadas a los cátodos para sputtering de circonio:
El uso de cátodos de circonio para sputtering es versátil y sus aplicaciones siguen ampliándose con los continuos avances en ciencia y tecnología de materiales.
Nuestros cátodos de circonio para sputtering están claramente etiquetados externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficaces. Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pudiera producirse durante el almacenamiento o el transporte.