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MetalsTek Engineering suministra todo tipo de cátodos de tántalo para sputtering de calidad con materiales, formas, tamaños y purezas personalizados.
Blanco para sputtering: Ta, TaC, TaN, Ta2O5, TaSi2
Tipo de objetivo: Disco, Planar, Rotativo, Personalizado
Talla: Personalizado
Unión trasera: Indio, elastómero
Material: Tántalo (Ta-1, Ta-2, Ta-3)
Pureza: Ta 99,95%, 99,99%, 99,999%.
Estándar: ASTM B708 (planitud 0,1%, rugosidad 0,8~1,6um)
Gama de tamaños: Disco – Diámetro 1″~30″ * Espesor 0.125″/0.25″
Rectangular – Grosor3~20mm * Anchura 20~500mm * Longitud 20~1.000mm
| Grade | Ta≥% | Chemical Composition, Max (ppm) | |||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Fe | Si | Mo | W | Ti | Cr | Nb | Ni | O | C | H | N | ||
| Ta1 | 99.995 | 1 | 0.08 | 10 | 20 | 0.8 | 0.5 | 20 | 0.1 | 100 | 50 | 15 | 50 |
| Ta2 | 99.99 | 3 | 10 | 10 | 50 | 2 | 10 | 50 | 2 | 120 | 80 | 20 | 80 |
| Ta3 | 99.95 | 10 | 20 | 50 | 100 | 10 | 20 | 300 | 10 | 150 | 100 | 30 | 100 |
Material: Carburo de tántalo, TaC
Pureza: 99,5
Punto de fusión: 3.880°C
Tamaños estándar: Diámetro 1″, 2″, 3″, 4″, 6″, 8″; Espesor 0.125″, 0.25″; o Personalizado
Material: Nitruro de tántalo, TaN
Pureza: 99,5
Sputter: RF, RF-R
Punto de fusión: 3.360°C
Tamaños estándar: Diámetro 1″, 2″, 3″, 4″ ; Espesor 0.125″, 0.25″; o Personalizado
Material: Pentóxido de tántalo, Ta2O5
Pureza: 99,99
Sputter: RF, RF-R
Punto de fusión: 1.872°C
Tamaños estándar: Diámetro 1″, 2″, 3″, 4″ ; Espesor 0.125″, 0.25″; o Personalizado
Material: Siliciuro de tántalo, TaSi2
Pureza: 99,5
Vinculación disponible: Indio
Tamaños estándar: Diámetro 1″, 2″, 3″, 4″ ; Espesor 0.125″, 0.25″; o Personalizado
Los cátodos para sputtering de tántalo se utilizan en la deposición de películas finas, donde se deposita una fina capa de tántalo sobre un sustrato sólido mediante la eliminación controlada de material del cátodo. Suelen utilizarse para depositar capas microscópicas de tántalo sobre obleas de silicio, lo que permite fabricar chips lógicos semiconductores de última generación, como DRAM y chips de memoria 3D-NAND. El tántalo es un metal de color gris azulado oscuro, pesado, maleable y duro con una gran resistencia a la corrosión.
Los cátodos para sputtering de tántalo son de tipo disco, rectangular y giratorio.
Al comparar los cátodos rotativos con los planos, es evidente que ofrecen varias ventajas. Contienen más material, lo que permite una mayor utilización, tiradas de producción más largas y un menor tiempo de inactividad del sistema, aumentando así el rendimiento del equipo de revestimiento. Además, permiten mayores densidades de potencia debido a la distribución uniforme del calor acumulado sobre la superficie del cátodo. El resultado es una mayor velocidad de deposición y un mejor rendimiento durante el sputtering reactivo.
Algunos aspectos clave y aplicaciones de los cátodos de tántalo para sputtering:
La excelente estabilidad térmica y química del tántalo, junto con su capacidad para formar películas finas adherentes y de alta calidad, lo convierten en un material valioso en el proceso de sputtering para diversas aplicaciones.
Nuestros cátodos de tántalo para sputtering están claramente etiquetados externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficaces. Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pudiera producirse durante el almacenamiento o el transporte.