Cátodos de cobalto para sputtering

MetalsTek Engineering se enorgullece del avance de los cátodos de cobalto para sputtering. Nuestra experiencia y el uso de tecnologías de vanguardia nos permiten lograr la innovación y la excelencia en la industria. Los principales fabricantes de todo el mundo confían en nosotros y establecemos el estándar de excelencia en cátodos para sputtering de cobalto. Nuestras soluciones están diseñadas para impulsar a las empresas, allanando el camino para los avances tecnológicos.

Blanco de cobalto para sputtering, Co

Material: Cobalto, 99,9%, 99,95%, 99,99%.

Propiedades: Gris Metálico, 1.495°C P.M., 8,9 g/cc Densidad; 100 W/m.K Conductividad Térmica, DC Sputter, 13,0*10-6/K Coeficiente de Expansión Térmica

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de óxido de cobalto, CoO / Co3O4

Material: CoO- 99.9%~99.99%; / Co3O4 99.9%~99.999%

Propiedades: Co3O4 Negro, 895°C P.M., 6,11g/cc Densidad; 240,80 P.M.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio Recomendado

Cátodos para sputtering de aluminio y cobalto, Al/Co, Co/Al

Material: Aluminio cobalto

Pureza: Co/Al o Al/Co, 99,9% ~ 99,95%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de cromo-cobalto, Cr/Co, Co/Cr

Material: Cromo Cobalto

Pureza: Co/Cr o Cr/Co, 99,9% ~ 99,99%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de ferrocobalto, Co/Fe

Material: Hierro Cobalto

Pureza: Co/Fe, 99,9% ~ 99,95%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de níquel-cobalto, Co/Ni

Material: Níquel cobalto

Pureza: Co/Ni, 99,9% ~ 99,99%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de cobre-cobalto, Cu/Co

Material: Cobre Cobalto

Pureza: Cu/Co, 99,9% ~ 99,99%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de cobalto-titanio, Co/Ti, Ti/Co

Material: Cobalto Titanio

Pureza: Co/Ti, 99,9% ~ 99,99%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos de cobalto-tungsteno para sputtering, Co/W

Material: Cu/W, 99,9% ~ 99,95%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Material: Co/Pt, 99,9% ~ 99,999%.

Propiedades: 254,02 M.W., 1.680-1.770℃ M.P.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de cobalto, níquel y cromo, Co/Ni/Cr

Material: Co/Ni/Cr, 99,9% ~ 99,95%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de alta entropía (HEA) de cobalto, cromo y níquel, Co/Cr/Ni

Material: Aleación de cobalto, cromo y níquel, 99,9%~99.999%

Propiedades: Metálico, 9,7 g/cc Densidad, 13 µm/m-K Expansión térmica

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio

Cátodos para sputtering de aleación de alta entropía (HEA) de cobalto, cromo, hierro, níquel y aluminio, Co/Cr/Fe/Ni/Al

Material: Co/Cr/Fe/Ni/Al, 99,9% ~ 99,999%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Más sobre este objetivo HEA

El cátodo para sputtering de aleación de alta entropía (HEA) CoCrFeNiAl es un material crítico utilizado en el proceso de deposición por sputtering, ampliamente empleado en la industria de semiconductores y películas finas. Esta técnica consiste en depositar capas finas de materiales sobre un sustrato, lo que constituye un paso crucial en la fabricación de dispositivos electrónicos como circuitos integrados y células fotovoltaicas. Además, desempeña un papel crucial en la creación de revestimientos protectores aplicados a diversas superficies. La versatilidad de la deposición catódica la hace indispensable en toda una serie de aplicaciones, facilitando la producción de componentes electrónicos de alto rendimiento y mejorando la durabilidad de las superficies en diversos entornos.

El cátodo para sputtering CoCrFeNiAl HEA está compuesto por una combinación de cobalto, cromo, hierro, níquel y aluminio, y ejemplifica realmente el potencial innovador de las aleaciones de alta entropía. Estos materiales son una nueva clase de aleaciones conocidas por sus excepcionales propiedades, entre las que se incluyen una notable solidez, una resistencia superior a la corrosión y una sólida estabilidad térmica. Sin embargo, debido a ciertas características de la aleación CoCrFeNiAl, como la fragilidad y la baja conductividad térmica, es necesario tomar precauciones especiales de manipulación. Se recomienda la unión por indio para hacer frente a estos retos y garantizar un rendimiento óptimo durante el proceso de sputtering.

A pesar de sus singulares requisitos de manipulación, el cátodo para sputtering CoCrFeNiAl HEA sigue siendo indispensable en diversas aplicaciones dentro de la industria electrónica y más allá. Su versatilidad y excepcionales propiedades lo convierten en la opción preferida de los fabricantes que buscan películas finas y revestimientos protectores de alta calidad. Con su capacidad para mejorar el rendimiento y la longevidad de los dispositivos electrónicos y los materiales de superficie, este cátodo para sputtering desempeña un papel fundamental en el avance de la innovación tecnológica y en la satisfacción de las demandas de las aplicaciones industriales modernas.

Cobalto Cromo Hierro Níquel Manganeso Cátodos para sputtering de aleación de alta entropía (HEA), Co/Cr/Fe/Ni/Mn

Material: Co/Cr/Fe/Ni/Mn, 99,9% ~ 99,999%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio Recomendado

Aplicaciones: Dispositivos electrónicos, células fotovoltaicas y revestimientos

Cátodos para sputtering de cobalto, hierro y boro, Co/Fe/B

Material: Co/Fe/B, 99,9% ~ 99,999%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio Recomendado

Más sobre el objetivo

Los cátodos para sputtering de cobalto, hierro y boro se fabrican combinando cobalto, hierro y boro en la proporción deseada y, a continuación, compactando y sinterizando la mezcla en forma de cátodo sólido. A continuación, el blanco se monta en un sistema de pulverización catódica, donde se bombardea con iones de alta energía para liberar átomos que se depositan en el sustrato.

Cátodos para sputtering de aleación de cobalto, níquel y vanadio de alta entropía (HEA), Co/Ni/V

Material: Co/Ni/V, 99,9% ~ 99,999%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio Recomendado

Más sobre el objetivo

El cátodo para sputtering de aleación de alta entropía (HEA) de CoNiV es un material especializado utilizado en el proceso de deposición por sputtering, especialmente en industrias como la fabricación de semiconductores y el recubrimiento de películas finas. La deposición por pulverización catódica es una técnica ampliamente utilizada para aplicar capas finas de material sobre un sustrato, desempeñando un papel vital en la fabricación de diversos dispositivos electrónicos, células fotovoltaicas y recubrimientos superficiales.

Las aleaciones de alta entropía (HEA) representan una clase distinta de materiales conocidos por sus propiedades únicas, que se derivan de su composición de múltiples elementos en proporciones aproximadamente iguales. Dependiendo de la combinación específica de elementos empleados, estas aleaciones pueden demostrar una resistencia mecánica, una resistencia a la corrosión y una estabilidad térmica extraordinarias.

Notas de manipulación

Debido a ciertas características, como la fragilidad y la baja conductividad térmica, que no son propicias para el sputtering, se recomienda utilizar unión de indio para el cátodo para sputtering de aleación de alta entropía (HEA) CoNiV. Además, este material presenta una baja conductividad térmica y es propenso al choque térmico.

Cátodos para sputtering de cobalto, niobio y circonio, Co/Nb/Zr

Cátodos para sputtering de cobalto, tántalo y circonio, Co/Ta/Zr

Material: Co/Ta/Zr, 99,99%.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de cobalto, terbio y hierro, Co/Tb/Fe, Tb/Fe/Co

Material: Co/Tb/Fe, 99,9%~99.999%

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de siliciuro de cobalto, CoSi2

Material: CoSi2, 99,9%~99.999%

Propiedades: Negro, 4,9 g/cc Densidad, 115,1 M.W.

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos de cobalto ferrita para sputtering, CoFe2O4

Material: CoFe2O4, 99,9%~99.999%

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de óxido de litio y cobalto, LiCoO2

Material: LiCoO2 >99,7%

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de óxido de litio, níquel y cobalto, LNCO

Material: LiNi(1-x)CoxO2, 99,9%~99.999%

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de óxido de lantano, estroncio, cobalto e hierro, LSCF

Material: LaxSr1-xCoyFe1-yO3, 99,9%~99.999%

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de óxido de manganeso y cobalto, MnCo2O4

Material: MnCo2O4, 99,9%~99.999%

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Cátodos para sputtering de óxido de estroncio y cobalto, SrCoO3

Material: SrCoO3, 99,9%~99.999%

Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida

Tamaños: Disco – Dia. 1″~14″ * Espesor 0.125″ / 0.25″

Bloque – Grosor≥1mm * Anchura ≤12″ * Longitud≤14″

Unión: Indio, elastómero

Descripción

Los cátodos de cobalto para sputtering tienen muchas aplicaciones en la producción de películas finas para diversas industrias, como la electrónica, la óptica y los revestimientos decorativos. También existen opciones de cátodos de cobalto personalizados para satisfacer requisitos específicos. Estas variantes pueden incluir aleaciones de cobalto como CoCr, CoNi o CoFe o dopantes como nitrógeno, oxígeno o carbono para ajustar las propiedades de la película. Los cátodos para sputtering de cobalto proporcionan un control preciso de los procesos de deposición, lo que da lugar a películas finas uniformes de excelente calidad con una sólida adherencia y características deseables. Como resultado, los cátodos que contienen cobalto son esenciales en la tecnología de sputtering, permitiendo la creación de materiales avanzados con diversas funcionalidades para una amplia gama de aplicaciones.

Los principales cátodos para sputtering de cobalto son los cátodos para sputtering de cobalto, las aleaciones de cobalto (incluidas algunas aleaciones de alta entropía), los cátodos para sputtering de óxido de cobalto y los cátodos para sputtering de compuestos de cobalto.

Aplicaciones de los cátodos de cobalto para sputtering

Debido a sus propiedades únicas, los cátodos para sputtering de cobalto y cobalto tienen diversas aplicaciones en varios sectores. Algunas de las aplicaciones más importantes son:

1. Fabricación de semiconductores: Los cátodos para sputtering de cobalto se utilizan en la fabricación de dispositivos semiconductores como los circuitos integrados (CI), que se emplean en procesos de deposición de metales para interconexiones y contactos. La excelente conductividad eléctrica del cobalto y su compatibilidad con los procesos avanzados de fabricación de semiconductores lo convierten en una opción ideal para estas aplicaciones.

2. Revestimientos de película fina: Los cátodos para sputtering de cobalto y aleaciones de cobalto depositan películas finas sobre sustratos con diversos fines, como la resistencia a la corrosión, la resistencia al desgaste y los revestimientos decorativos. Estos recubrimientos encuentran aplicaciones en piezas de automoción, electrónica de consumo, componentes aeroespaciales y dispositivos médicos.

3. Medios de almacenamiento magnético: Los cátodos para sputtering de cobalto son esenciales en la producción de soportes de almacenamiento magnético como las unidades de disco duro (HDD). Las películas finas de cobalto se utilizan como capas de grabación debido a su alta coercitividad magnética y estabilidad, lo que permite el almacenamiento de datos de alta densidad con un rendimiento fiable.

4. Revestimientos ópticos: Los cátodos para sputtering de óxido de cobalto se utilizan para depositar revestimientos ópticos para lentes, espejos y otros componentes ópticos. Estos revestimientos pueden proporcionar propiedades antirreflectantes, mejorar la transmisión de la luz o conferir colores específicos o efectos ópticos a las superficies.

5. Pilas de combustible y dispositivos electroquímicos: Los materiales a base de cobalto se utilizan como catalizadores en pilas de combustible y otros dispositivos electroquímicos para la conversión y el almacenamiento de energía. Los blancos de pulverización catódica de cobalto depositan finas capas de catalizador en los electrodos, facilitando reacciones electroquímicas eficientes.

6. Aplicaciones biomédicas: Las películas finas a base de cobalto depositadas a partir de cátodos para sputtering tienen aplicaciones potenciales en dispositivos e implantes biomédicos. Estos recubrimientos pueden proporcionar biocompatibilidad, resistencia a la corrosión y otras propiedades deseables para implantes como stents, implantes ortopédicos y dentales.

En general, el cobalto y los cátodos para sputtering relacionados con el cobalto hacen posibles tecnologías y aplicaciones avanzadas en una amplia gama de sectores, desde la electrónica y las telecomunicaciones hasta la energía, la sanidad y otros.

Embalaje

Nuestros cátodos de cobalto para sputtering están claramente etiquetados externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficaces. Tenemos mucho cuidado para evitar daños durante el almacenamiento o el transporte.

Request A Quote
Attach a Drawing
*Company e-mail address is preferred.