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MetalsTek Engineering es un fabricante y proveedor de confianza de cátodos de titanio para sputtering. Ofrecemos un servicio altamente personalizado para cátodos para sputtering, y también está disponible un servicio de unión de respaldo.
Pureza: 99,2%-99.7%, 99,97%-99.98%, >99,99%, 99,995%.
Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida
Tamaños estándar: Diámetro: 1,0″, 2,0″, 3,0″, 4,0″, 5,0″, 6,0″, 7″, 8″ * Espesor: 0,125″, 0,250″.
Otros: Pureza, forma y tamaño personalizables
Pureza: 99,9%-99.999%
Conductividad térmica: 21,9 W/m.K
Punto de fusión: 1.660°C
Coeficiente de dilatación térmica: 8,6 x 10-6/K
Gama de tamaños: OD5.5″~7″ * ID5″~5.5″ * Longitud<138″
Pureza: 99,9%-99.999%
Conductividad térmica: 21,9 W/m.K
Punto de fusión: 1.660°C
Coeficiente de dilatación térmica: 8,6 x 10-6/K
Tamaño: 0.5″*70″*90″
GW: <450 lbs
Pureza: >99,9%, 99,95%, 99,99%.
Forma: Discos, Placas, Blancos de Columna, Blancos de Escalón, A Medida
Tamaños estándar: Diámetro: 1,0″, 2,0″, 3,0″, 4,0″, 5,0″, 6,0″, 7″, 8″ * Espesor: 0,125″, 0,250″.
Otros: Pureza, forma y tamaño personalizables
El cátodo para sputtering de dióxido de titanio de MetalsTek Engineering, compuesto de Ti y O, es un material crucial. También conocido como óxido de titanio (IV) o titania (fórmula química TiO2), se encuentra de forma natural en minerales como el rutilo y la anatasa. Se encuentran dos formas de alta presión, la akaogiita y la brookita, sobre todo en el cráter de Ries, en Baviera. El rutilo se obtiene principalmente de la ilmenita, la mena que contiene más dióxido de titanio en el mundo, y es la forma predominante, con un 98% de dióxido de titanio. Cuando se calienta por encima de 600-800 °C (1.112-1.472 °F), las fases metaestables anatasa y brookita se convierten irreversiblemente en la fase de equilibrio rutilo.
Los cátodos para sputtering de dióxido de titanio disponen de los servicios de adhesión de indio y de adhesión de cátodos elastoméricos.
| Material Type | Titanium (IV) Oxide |
| Symbol | TiO2 |
| Color/Appearance | White-Beige, Gray Black |
| Theoretical Density | 4.23 g/cc |
| Melting Point | 1,830 °C |
| Sputter | RF, RF-R |
| Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Comments | Suboxide, must be reoxidized to rutile. Ta reduces TiO2 to TiO |
Material: Ti/Zr, Ta/Ti, TiB2, TiSe2, TiO, Ti2O3, Ti3O5, W/Ti, TiN, TiF3, TiC, Ti/Al/Si, LiLaTiO3, TiSi2, V/Ti, Ni/Ti, Al/Ti, TiCN, TiFe2O4, Cr/Ti, Nb/Ti, Co/Ti, LaTiO3, SrTiO3, PZT, PbTiO3, Bi4Ti3O12, BaTiO3, etc.
Forma: Disco, Placa, Planar, Rotatoria o Personalizada
Tamaño: Personalizable
Los cátodos de titanio para sputtering son materiales cruciales utilizados en el proceso de recubrimiento por sputtering para crear películas finas de titanio. Estos cátodos pueden encontrarse en diferentes purezas y tamaños para satisfacer los requisitos específicos de cada aplicación. Durante el método de pulverización catódica, partículas de alta energía bombardean el material objetivo, expulsando átomos de la superficie del objetivo. Estos átomos forman entonces una fina película sobre el sustrato, produciendo el recubrimiento deseado.
La producción de cátodos de titanio para sputtering se realiza mediante dos métodos principales: fundición y pulvimetalurgia. En el método de fundición, la materia prima se funde y se vierte en un molde para crear un lingote. A continuación, el lingote se mecaniza para darle la forma deseada. Por otro lado, el método pulvimetalúrgico consiste en fundir la materia prima, colarla en un lingote, pulverizar la pepita y, a continuación, sinterizar el polvo para formar el blanco.
La pureza de los cátodos de titanio para sputtering desempeña un papel crucial a la hora de determinar la calidad de la película fina resultante. Estos cátodos están disponibles en altas purezas, como 99,99% y 99,995%, para garantizar la producción de películas finas de primera calidad para diversas aplicaciones.
Los cátodos de titanio para sputtering se utilizan ampliamente en aplicaciones comerciales y de investigación, como la optoelectrónica, la nanotecnología, los materiales avanzados, las pantallas planas, los revestimientos antidesgaste y decorativos, los dispositivos semiconductores y los revestimientos ópticos.
La deposición de películas finas de titanio mediante cátodos para sputtering suele requerir condiciones específicas. El sputtering DC es un método estándar para depositar películas finas de titanio, con unas condiciones de deposición típicas que incluyen una potencia de 1-2 kW, una presión de 0,1-1 mTorr, una polarización del sustrato de -2-10 V, una distancia blanco-muestra de 20-30 cm y una temperatura del sustrato de 50-80 °C. La velocidad de deposición de las películas de titanio suele ser del orden de 1-5 nm/min.
| Material Type | Titanium | Z Ratio | 0.628 |
| Symbol | Ti | E-Beam | Excellent |
| Atomic Weight | 47.867 | Thermal Evaporation Techniques | Boat: W |
| Atomic Number | 22 | Crucible: TiC,Ti2-BN | |
| Color/Appearance | Silvery Metallic | E-Beam Crucible Liner Material | Fabmate®, Intermetallic |
| Thermal Conductivity | 21.9 W/m.K | Temp. (°C) for Given Vap. Press. (Torr) | 10-8: 1,067 |
| Melting Point (°C) | 1,660 | 10-6: 1,235 | |
| Coefficient of Thermal Expansion | 8.6 x 10-6/K | 10-4: 1,453 | |
| Theoretical Density (g/cc) | 4.5 | Comments | Alloys with W/Ta/Mo; evolves gas on first heating. |
Los cátodos de titanio para sputtering fabricados por MetalsTek Engineering encuentran aplicaciones versátiles en diversas industrias, debido a las propiedades únicas del titanio y a la precisión de nuestros materiales de deposición. Algunas aplicaciones críticas incluyen:
Los cátodos de titanio para sputtering de MetalsTek Engineering desempeñan un papel crucial en el avance de las aplicaciones tecnológicas de estos diversos sectores, ofreciendo materiales de deposición de alta calidad para procesos de revestimiento de precisión.
Nuestros cátodos de titanio para sputtering están claramente etiquetados externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficaces. Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pudiera producirse durante el almacenamiento o el transporte.