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Las fuentes de evaporación recubiertas de alúmina están diseñadas como alternativas a los crisoles de alúmina para aplicaciones específicas, ofreciendo una excelente transferencia de calor y compatibilidad con la mayoría de los metales. Estas fuentes evitan que el evaporador se adhiera a la alúmina, manteniendo estable la resistencia cuando el material se funde en una fuente puntual esférica, lo que prolonga su vida útil. Las fuentes recubiertas requieren entre un 30 y un 50 por ciento más de energía debido a la reducción de la conducción del calor. La alúmina, aplicada mediante pulverización de plasma, es de grado semiconductor. Para evitar el sobrecalentamiento, es crucial evitar temperaturas superiores a 1850 °C y reducir la potencia durante la evaporación.
