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MetalsTek Engineering garantiza la producción de cátodos para sputtering de hafnio fiables y precisos para satisfacer los exigentes requisitos de estas diversas aplicaciones. Los cátodos para sputtering de hafnio incluyen hafnio, óxido de hafnio, carburo de hafnio y nitruro de hafnio.
Material: Hafnio, Hf
Pureza: 99,99% (Hf+Zr), 99,9% (Ex Zr)
Forma: Disco, Rectangular, Escalón, Columna o Personalizada
Gama de tamaños: Disco- Dia.<356mm/14″, Grosor >1mm/0.039″
Otros: Con/sin orificio
Bloque- Longitud<813mm/32″, Anchura<305/12″, Espesor >1mm/0.039″
| Material Type | Hafnium | Z Ratio | 0.36 |
| Symbol | Hf | Sputter | DC |
| Atomic Weight | 178.49 | Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Atomic Number | 72 | Export Control (ECCN) | 1C231 |
| Appearance | Gray Steel, Metallic | Theoretical Density (g/cc) | 13.31 |
| Thermal Conductivity | 23 W/m.K | Max Power Density (Watts/Square Inch) | 50 |
| Melting Point (°C) | 2,227 | Coefficient of Thermal Expansion | 5.9 x 10-6/K |
Material: Carburo de hafnio, HfC
Pureza: 99,5
Forma: Disco, Rectangular, Escalón, Columna o Personalizada
Gama de tamaños: Disco- Dia.<356mm/14″, Grosor >1mm/0.039″
Bloque- Longitud<813mm/32″, Anchura<305/12″, Espesor >1mm/0.039″
Otros: Con/sin orificio
| Material Type | Hafnium Carbide |
| Symbol | HfC |
| Melting Point (°C) | ~3,890 |
| Z Ratio | 1.00 (Recommended) |
| Sputter | RF |
| Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Export Control (ECCN) | 1C231 |
Material: Óxido de hafnio, HfO2
Pureza: 99,95
Forma: Disco, Rectangular, Escalón, Columna o Personalizada
Gama de tamaños: Disco- Dia.<356mm/14″, Grosor >1mm/0.039″
Bloque- Longitud<813mm/32″, Anchura<305/12″, Espesor >1mm/0.039″
| Material Type | Hafnium Oxide | Z Ratio | 1.00 (Recommended) |
| Symbol | HfO2 | Sputter | RF, RF-R |
| Theoretical Density (g/cc) | 9.68 | Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Melting Point (°C) | 2,758 | Export Control (ECCN) | 1C231 |
| Color/Appearance | White, Crystalline Solid | Max Power Density (Watts/Square Inch) | 20 |
Material: Nitruro de hafnio, HfN
Pureza: 99,5
Forma: Disco, Rectangular, Escalón, Columna o Personalizada
Gama de tamaños: Disco- Dia.<356mm/14″, Grosor >1mm/0.039″
Bloque- Longitud<813mm/32″, Anchura<305/12″, Espesor >1mm/0.039″
| Material Type | Hafnium Nitride | Z Ratio | 1.00 (Recommended) |
| Symbol | HfN | Sputter | RF, RF-R |
| Theoretical Density (g/cc) | 13.8 | Type of Bond | Indium, Elastomer |
| Melting Point (°C) | 3,305 | Export Control (ECCN) | 1C231 |
| Color/Appearance | Yellow-Brown, Crystalline Solid | ||
Los cátodos para sputtering de carburo de hafnio se utilizan para la deposición de películas finas, decoración, semiconductores, pantallas, LED y dispositivos fotovoltaicos, así como revestimientos funcionales.
Los cátodos de hafnio para sputtering son esenciales en los procesos de deposición de películas finas para diversas aplicaciones industriales y de investigación. Estos cátodos se utilizan en las técnicas de deposición física de vapor (PVD) y sputtering para crear películas finas con propiedades específicas. El hafnio está disponible en alta pureza con una composición de Hf, un número atómico de 72 y una densidad de 13,31 g/cc. El punto de fusión del hafnio es de 2233 °C, y la pureza de los cátodos para sputtering suele oscilar entre el 99,9% y el 99,99% para garantizar películas depositadas de alta calidad. Los cátodos para sputtering de hafnio están disponibles en diferentes formas, incluyendo opciones estándar y personalizadas para satisfacer los requisitos específicos de cada aplicación. Se utilizan en diversas aplicaciones, como la deposición de semiconductores, la óptica, la protección contra el desgaste, los revestimientos decorativos y las pantallas. Los cátodos para sputtering de hafnio son conocidos por su conductividad térmica de aproximadamente 23 W/m.K.
Debido a sus propiedades únicas, el hafnio y los cátodos para sputtering relacionados con el hafnio encuentran aplicaciones en diversos campos tecnológicos avanzados. Algunas aplicaciones críticas incluyen:
Las diversas aplicaciones de los cátodos de hafnio para sputtering ponen de relieve su importancia en tecnologías e industrias de vanguardia. Estos cátodos desempeñan un papel fundamental en el desarrollo y la fabricación de materiales y dispositivos avanzados.
Nuestros cátodos para sputtering de hafnio y materiales de evaporación están claramente etiquetados externamente para garantizar una identificación y un control de calidad eficaces. Se tiene mucho cuidado para evitar cualquier daño que pudiera producirse durante el almacenamiento o el transporte.