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MetalsTek Engineering ist ein zuverlässiger Lieferant von Niob-Sputter-Targets und arbeitet mit globalen Partnern zusammen, um Produkte von höchster Qualität zu wettbewerbsfähigen Preisen zu liefern.
Außer den Standardgrößen der Zielscheiben (Durchmesser 1″~6″ * Dicke 0,125″&0,25″) können wir auch nach Ihrem Bedarf herstellen.
Werkstoff: Niobium, Nb
Reinheit: 99%~99.999%
Form: Scheibe, Platte, Säulen-Zielscheiben, Stufen-Zielscheiben oder benutzerdefinierte Form
Größenbereich: Scheibe – Durchmesser 10~400mm, Dicke 2~28mm
Platte – Dicke 3~30mm, Breite 50~400mm, Länge 50~400mm
Sonstiges: Reinheit, Form, Größe und Bindung können individuell angepasst werden
| Material Type | Niobium | Coefficient of Thermal Expansion | 7.3 x 10-6/K |
| Atomic Weight | 92.90638 | Z Ratio | 0.492 |
| Density | 8.3 g/cc | Sputter | DC |
| Color/Appearance | Gray, Metallic | Max Power Density* | 100 Watts/Square Inch |
| Thermal Conductivity | 54 W/m.K | Bonding | Indium, Elastomer |
| Melting Point | 2,468°C | Comments | Attacks W Source |
| Grade | Nb+Ta≥% | Fe | Si | Mo | W | Ti | Cr | Ta | Ni | O | C | H | N |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| Nb3 | 99.9 | 20 | 20 | 80 | 100 | 10 | 10 | 1000 | 20 | 250 | 100 | 15 | 150 |
| Nb2 | 99.95 | 10 | 10 | 50 | 50 | 5 | 5 | 500 | 10 | 200 | 50 | 10 | 100 |
| Nb1 | 99.99 | 5 | 5 | 10 | 20 | 1 | 1 | 100 | 1 | 100 | 30 | 10 | 50 |
Werkstoff: Niob-Titan, Nb/Ti
Reinheit: 99%~99.999%
Form: Scheibe, Platte, Säulen-Zielscheiben, Stufen-Zielscheiben oder benutzerdefinierte Form
Größenbereich: Scheibe – Durchmesser 10~400mm, Dicke 2~28mm
Platte – Dicke 3~30mm, Breite 50~400mm, Länge 50~400mm
Sonstiges: Reinheit, Form, Größe und Bindung können individuell angepasst werden
Das Niob-Titan-Sputter-Target ist ein Material, das beim Sputtern verwendet wird, einer Technik, die bei der Abscheidung von Dünnschichten weit verbreitet ist. Beim Sputtern werden Atome oder Ionen aus einem festen Zielmaterial durch Beschuss mit hochenergetischen Teilchen, in der Regel Ionen, ausgestoßen. Die ausgestoßenen Teilchen werden dann auf einem Substrat abgeschieden, um eine dünne Schicht zu bilden.
| Verbindung Formel | Ti/Nb |
| Erscheinungsbild | Graue metallische Zielscheibe |
| Molekulargewicht | 140.773 |
| Verfügbare Größen | Durchm.: 1.0″, 2.0″, 3.0″, 4.0″, 5.0″, 6.0″; Dicken: 0.125″, 0.250″ |
Werkstoff: Niob-Legierungen, Mo/Nb, W/Nb, Nb3Sn, Co/Nb/Zr, usw.
Reinheit: 99%~99.999%
Form: Scheibe, Platte, Säulen-Zielscheiben, Stufen-Zielscheiben oder benutzerdefinierte Form
Größenbereich: Scheibe – Durchmesser 10~400mm, Dicke 2~28mm
Platte – Dicke 3~30mm, Breite 50~400mm, Länge 50~400mm
Sonstiges: Reinheit, Form, Größe und Bindung können individuell angepasst werden
Werkstoff: Niobium-Oxid, Nb2O5
Reinheit: 99,9%, 99,95%
Form: Scheibe, Platte, Säulen-Zielscheiben, Stufen-Zielscheiben oder benutzerdefinierte Form
Standardgröße: Durchmesser 1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″; Dicke 0,125″, 0,25″
Sonstiges: Reinheit, Form und Größe können individuell angepasst werden
Werkstoff: Niobium-Sulfid, NbS
Reinheit: 99,9%, 99,95%
Form: Scheibe, Platte, Säulen-Zielscheiben, Stufen-Zielscheiben oder benutzerdefinierte Form
Standardgröße: Durchmesser 1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″; Dicke 0,125″, 0,25″
Sonstiges: Reinheit, Form und Größe können individuell angepasst werden
Werkstoff: Niobiumnitrid, NbN
Reinheit: 99,9%, 99,95%
Form: Scheibe, Platte, Säulen-Zielscheiben, Stufen-Zielscheiben oder benutzerdefinierte Form
Standardgröße: Durchmesser 1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″; Dicke 0,125″, 0,25″
Sonstiges: Reinheit, Form und Größe können individuell angepasst werden
Werkstoff: Niob Verwandt
Zusammensetzung: Mo/Nb, LaNbO3, NbTe2, NbSi2, NbSe2, Nb3Sn, Nb/Ti, NbB2, Co/Nb/Zr, BaNbO3
Reinheit: 99%~99.99%
Form: Scheibe, Platte, Säulen-Zielscheiben, Stufen-Zielscheiben oder benutzerdefinierte Form
Standardgröße: Durchmesser 1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″; Dicke 0,125″, 0,25″
Sonstiges: Reinheit, Form und Größe können individuell angepasst werden
Ein Niob-Sputter-Target ist ein spezielles Material, das bei der Sputter-Beschichtung verwendet wird. Es wird häufig für die Beschichtung von Dünnschichten verwendet, z. B. für Brennstoffzellen, Dekoration, Halbleiter, Displays, LEDs und Photovoltaik. Niob, ein Übergangsmetall, weist Eigenschaften auf, die für die Verwendung als Sputtertarget in verschiedenen Branchen geeignet sind.
Zu den Niob-Sputtertagenzien gehören Nb, Nb2O5, Mo/Nb, W/Nb, LaNbO3, NbTe2, NbSi2, NbSe2, Nb3Sn, NbN, Nb/Ti, NbS, NbB2, Co/Nb/Zr, BaNbO3 und andere.
Wir liefern Niob-Sputter-Targets in vielen Formen: Scheiben-, Platten-, Säulen-, Dreh- und Stufentargets. Target Bonding Service ist ebenfalls verfügbar.
Vergleicht man Rotations-Targets mit planaren Targets, so wird deutlich, dass Rotations-Targets mehrere Vorteile bieten. Sie enthalten mehr Material, was zu einer höheren Auslastung, längeren Produktionsläufen und geringeren Ausfallzeiten der Anlage führt und damit den Durchsatz der Beschichtungsanlage erhöht. Darüber hinaus ist der Einsatz höherer Leistungsdichten möglich, da sich die Wärme gleichmäßig über die Oberfläche des Targets verteilt. Dies führt zu einer höheren Abscheidegeschwindigkeit und einer verbesserten Leistung beim reaktiven Sputtern.
Zu den wichtigsten Anwendungen von Niob und niobhaltigen Sputtertargets gehören:
Niob-Sputter-Targets sind in verschiedenen Formen, Reinheitsgraden, Größen und Preisen erhältlich und können entsprechend den spezifischen Anwendungsanforderungen angepasst werden.
Unsere Niob-Sputter-Targets sind zur Gewährleistung einer effizienten Identifizierung und Qualitätskontrolle deutlich gekennzeichnet und beschriftet. Es wird große Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports entstehen könnten.