Vanadium-Sputtering-Targets

MetalsTek Engineering ist ein führendes Unternehmen im Bereich der Vanadium-Sputter-Targets und zeichnet sich durch beispiellose Kompetenz und Innovation bei Dünnschicht-Beschichtungsprozessen aus. Ihre Targets tragen zu Fortschritten in verschiedenen Branchen bei.

Vanadium Sputtering Target, V

Material: Vanadium

Reinheit: 99,5%, 99,9%, kann individuell angepasst werden

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Kleben: Indium, Elastomer

Chemische Zusammensetzung des Vanadium Sputtering Targets

Die Anpassungsfähigkeit unseres Produktionsprozesses ermöglicht die Feinabstimmung der Mikrostruktur unseres Beschichtungsmaterials, so dass der gewünschte Effekt erzielt wird. Wenn die Körner des Sputtertargets gleichmäßig ausgerichtet sind, können die Anwender gleichmäßige Erosionsraten und die Bildung gleichmäßiger Schichten erzielen.

Die von uns hergestellten Sputtertargets weisen einen hohen Reinheitsgrad auf, was erhebliche Vorteile mit sich bringt. Die aus diesen Targets hergestellten Schichten weisen eine außergewöhnliche elektrische Leitfähigkeit auf und bilden während des PVD-Prozesses nur minimale Partikel. Anbei finden Sie das formale Analysenzertifikat für das 99,9% hochreine Vanadium Sputtering Target (ppm):

ContentValueContentValueContentValue
VBalanceO20Cd20
Mg20N20Sn20
Al20S20Sb20
K10Cu100Ta50
Ca10Zn50W50
Cr50As20Pb20
Mn50Zr20Bi20
Fe100Mo50Tl10
Co100C20

Vanadiumoxid-Sputtering-Target, VO2 / V2O3 / V2O5 / BiVO4 / CaVO3

Werkstoff: Vanadium-Oxid, VO2 / V2O3 / V2O5 / BiVO4 / CaVO3

Reinheit: 99,9%~99.999%, kann individuell angepasst werden

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Kleben: Indium, Elastomer

Vanadiumkarbid-Sputtering-Target, VC

Material: Vanadiumkarbid, VC

Reinheit: 99,5%, kann individuell angepasst werden

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Kleben: Indium, Elastomer

Vanadiumnitrid-Sputtertarget, VN

Werkstoff: Vanadiumnitrid, VN

Reinheit: 99,5%, 6,13g/cc

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Kleben: Indium, Elastomer

Nickel-Vanadium-Sputtering-Target, Ni/V

Werkstoff: Nickel-Vanadium, Ni/V

Reinheit: 99,9%, 1.775°C~1.875°C M.P.

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Hauptanwendung: Dünnfilmabscheidung, Dekoration, LED, Display, Halbleiter, Glasbeschichtung

Vanadium-Titan-Sputtering-Target, V/Ti

Werkstoff: Vanadium-Titan, V/Ti

Reinheit: 99,9%, kann individuell angepasst werden

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Hauptanwendung: Dünnfilmabscheidung, Dekoration, LED, Display, Halbleiter, Glasbeschichtung

Vanadium-Chrom-Sputtering-Target, V/Cr, Cr/V

Werkstoff: Vanadium Chrom, V/Cr, Cr/V

Reinheit: 99,9%, Zusammensetzung kann individuell angepasst werden

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Hauptanwendung: Dünnfilmabscheidung, Dekoration, LED, Display, Halbleiter, Glasbeschichtung

Vanadium-Wolfram-Sputtering-Target, V/W

Material: Vanadium-Wolfram, V/W

Reinheit: 99,9%, kann individuell angepasst werden

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Hauptanwendung: Dünnfilmabscheidung, Dekoration, LED, Display, Halbleiter, Glasbeschichtung

Vanadium-Aluminium-Sputtering-Target, V/Al

Werkstoff: Vanadium-Aluminium, V/Al, CAS# 39458-13-4

Reinheit: 99,9%, kann individuell angepasst werden

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Hauptanwendung: Dünnfilmabscheidung, Dekoration, LED, Display, Halbleiter, Glasbeschichtung

Vanadiumborid-Sputtering-Target, VB2

Werkstoff: Vanadiumborid, VB2

Reinheit: 99,9%, 99,95%, 99,99%, 5,1g/cc

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Hauptanwendung: Dünnfilmabscheidung, Dekoration, LED, Display, Halbleiter, Glasbeschichtung

Titan-Aluminium-Vanadium-Sputtering-Target, Ti/Al/V

Werkstoff: Titan-Aluminium-Vanadium, Ti/Al/V

Reinheit: 99,9%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Hauptanwendung: Dünnfilmabscheidung, Dekoration, LED, Display, Halbleiter, Glasbeschichtung

Kobalt-Nickel-Vanadium-Legierung mit hoher Entropie (HEA) Sputtering Target, Co/Ni/V

Werkstoff: Kobalt-Nickel-Vanadium, Co/Ni/V

Reinheit: 99,9%, 99,95%, 99,99%, 99,995%, 99,999%

Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen

Größe: Rund – Durchmesser < 14inch, Dicke > 1mm

Rechteckig – Länge < 32inch, Breite < 12inch, Dicke > 1mm

Hauptanwendung: Elektronische Geräte, Fotovoltaikzellen und Beschichtungen

Beschreibung

Vanadium-Sputter-Targets werden beim Sputtern verwendet, einer bewährten Technologie, mit der sich dünne Schichten aus einer Vielzahl von Materialien auf unterschiedlichen Substraten abscheiden lassen. Diese Targets werden aus hochreinem Vanadium, Vanadiumverbindungen oder Vanadiumlegierungen hergestellt und sind in verschiedenen Größen, Dicken und Reinheitsgraden erhältlich, um verschiedenen Anwendungen gerecht zu werden. Darüber hinaus können Sputtertargets, die mit Vanadium in Verbindung stehen, Verbindungen oder Legierungen enthalten, die Vanadium einschließen, was ihre Anwendungsmöglichkeiten erweitert.

Einige der wichtigsten Spezifikationen und Eigenschaften von Vanadium Sputtering Targets sind:

Anwendungen und Merkmale

Die Auswahl eines bestimmten Sputtertargets hängt von den spezifischen Anforderungen der Dünnschichtanwendung ab, und die gewünschten Eigenschaften der abgeschiedenen Schichten bestimmen die Wahl zwischen reinem Vanadium oder Vanadium-verwandten Verbindungen.

Vanadium Sputtering Targets Verpackung

Unsere Vanadium Sputtering Targets werden sorgfältig behandelt, um Schäden während der Lagerung und des Transports zu vermeiden und die Qualität unserer Produkte in ihrem ursprünglichen Zustand zu erhalten.

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