MetalsTek Engineering ist sehr stolz auf die Weiterentwicklung von Kobalt-Sputter-Targets. Unser Fachwissen und der Einsatz von Spitzentechnologien ermöglichen es uns, Innovationen und Spitzenleistungen in der Branche zu erzielen. Führende Hersteller auf der ganzen Welt vertrauen auf uns und wir setzen den Standard für hervorragende Leistungen bei Kobalt-Sputter-Targets. Unsere Lösungen sind darauf ausgerichtet, Unternehmen voranzubringen und den Weg für technologische Fortschritte zu ebnen.
Material: Kobalt, 99,9%, 99,95%, 99,99%
Eigenschaften: Graumetallisch, 1.495°C M.P., 8,9 g/cc Dichte; 100 W/m.K Wärmeleitfähigkeit, DC Sputter, 13,0*10-6/K Wärmeausdehnungskoeffizient
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: CoO- 99,9%~99.99%; / Co3O4– 99,9%~99.999%
Eigenschaften: Co3O4– Schwarz, 895°C M.P., 6,11g/cc Dichte; 240,80 M.W.
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Bindung: Indium Empfohlen
Material: Kobalt-Aluminium
Reinheit: Co/Al oder Al/Co, 99,9% ~ 99,95%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: Chrom-Kobalt
Reinheit: Co/Cr oder Cr/Co, 99,9% ~ 99,99%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: Eisen-Kobalt
Reinheit: Co/Fe, 99,9% ~ 99,95%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: Kobalt-Nickel
Reinheit: Co/Ni, 99,9% ~ 99,99%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: Kupfer-Kobalt
Reinheit: Cu/Co, 99,9% ~ 99,99%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: Kobalt-Titan
Reinheit: Co/Ti, 99,9% ~ 99,99%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Werkstoff: Cu/W, 99,9% ~ 99,95%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: Co/Pt, 99,9% ~ 99,999%
Eigenschaften: 254,02 M.W., 1.680-1.770℃ M.P.
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: Co/Ni/Cr, 99,9% ~ 99,95%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: Kobalt-Chrom-Nickel-Legierung, 99,9%~99.999%
Eigenschaften: Metallisch, 9,7 g/cc Dichte, 13 µm/m-K Wärmeausdehnung
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Bindung: Indium
Material: Co/Cr/Fe/Ni/Al, 99,9% ~ 99,999%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Das CoCrFeNiAl High-Entropy Alloy (HEA) Sputtering Target ist ein wichtiges Material für das Sputtering-Verfahren, das in der Halbleiter- und Dünnschichtindustrie häufig eingesetzt wird. Bei dieser Technik werden dünne Materialschichten auf ein Substrat aufgebracht, was ein entscheidender Schritt bei der Herstellung von elektronischen Geräten wie integrierten Schaltkreisen und Photovoltaikzellen ist. Darüber hinaus spielt es eine entscheidende Rolle bei der Herstellung von Schutzschichten, die auf verschiedenen Oberflächen aufgebracht werden. Die Vielseitigkeit der Sputterdeposition macht sie für eine Reihe von Anwendungen unentbehrlich, da sie die Herstellung elektronischer Hochleistungskomponenten erleichtert und die Haltbarkeit von Oberflächen in verschiedenen Bereichen verbessert.
Das CoCrFeNiAl HEA Sputtering Target besteht aus einer Kombination von Kobalt, Chrom, Eisen, Nickel und Aluminium und ist ein echtes Beispiel für das innovative Potenzial von hochentropischen Legierungen. Bei diesen Materialien handelt es sich um eine neue Klasse von Legierungen, die für ihre außergewöhnlichen Eigenschaften bekannt sind, darunter bemerkenswerte Festigkeit, hervorragende Korrosionsbeständigkeit und robuste thermische Stabilität. Aufgrund bestimmter Eigenschaften der CoCrFeNiAl-Legierung, wie Sprödigkeit und geringe Wärmeleitfähigkeit, sind jedoch besondere Vorsichtsmaßnahmen bei der Handhabung erforderlich. Um diese Herausforderungen zu meistern und eine optimale Leistung während des Sputterprozesses zu gewährleisten, wird die Indiumbindung empfohlen.
Trotz seiner besonderen Anforderungen an die Handhabung bleibt das CoCrFeNiAl HEA Sputtering Target für verschiedene Anwendungen in der Elektronikindustrie und darüber hinaus unverzichtbar. Seine Vielseitigkeit und außergewöhnlichen Eigenschaften machen es zu einer bevorzugten Wahl für Hersteller, die hochwertige dünne Schichten und Schutzbeschichtungen suchen. Mit seiner Fähigkeit, die Leistung und Langlebigkeit von elektronischen Geräten und Oberflächenmaterialien zu verbessern, spielt dieses Sputtertarget eine entscheidende Rolle bei der Förderung technologischer Innovationen und der Erfüllung der Anforderungen moderner industrieller Anwendungen.
Material: Co/Cr/Fe/Ni/Mn, 99,9% ~ 99,999%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Bindung: Indium Empfohlen
Anwendungen: Elektronische Geräte, Fotovoltaikzellen und Beschichtungen
Material: Co/Fe/B, 99,9% ~ 99,999%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Bindung: Indium Empfohlen
Kobalt-Eisen-Bor-Sputter-Targets werden durch die Kombination von Kobalt, Eisen und Bor im gewünschten Verhältnis hergestellt und anschließend verdichtet und gesintert, bis sie eine feste Targetform haben. Das Target wird dann in ein Sputtersystem montiert, wo es mit hochenergetischen Ionen beschossen wird, um Atome freizusetzen, die sich auf dem Substrat ablagern.
Material: Co/Ni/V, 99,9% ~ 99,999%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Bindung: Indium Empfohlen
Das CoNiV High-Entropy Alloy (HEA) Sputtering Target ist ein spezielles Material, das bei der Sputterabscheidung verwendet wird, insbesondere in Branchen wie der Halbleiterherstellung und der Dünnfilmbeschichtung. Die Sputterdeposition ist eine weit verbreitete Technik zum Aufbringen dünner Materialschichten auf ein Substrat und spielt eine wichtige Rolle bei der Herstellung verschiedener elektronischer Geräte, photovoltaischer Zellen und Oberflächenbeschichtungen.
Hochentrope Legierungen (HEAs) stellen eine besondere Klasse von Werkstoffen dar, die für ihre einzigartigen Eigenschaften bekannt sind, die auf ihre Zusammensetzung aus mehreren Elementen in etwa gleichen Anteilen zurückzuführen sind. Je nach der spezifischen Kombination der verwendeten Elemente können diese Legierungen eine hervorragende mechanische Festigkeit, Korrosionsbeständigkeit und thermische Stabilität aufweisen.
Hinweise zur Handhabung
Aufgrund bestimmter Eigenschaften wie Sprödigkeit und geringer Wärmeleitfähigkeit, die für das Sputtern nicht förderlich sind, wird empfohlen, für das CoNiV High-Entropy Alloy (HEA) Sputtering Target eine Indium-Bindung zu verwenden. Außerdem weist dieses Material eine geringe Wärmeleitfähigkeit auf und ist anfällig für Temperaturschocks.
Kobalt-Niob-Zirkonium-Zerstäubungstarget, Co/Nb/Zr
Werkstoff: Co/Ta/Zr, 99,99 %.
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Werkstoff: Co/Tb/Fe, 99,9%~99.999%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Werkstoff: CoSi2, 99,9%~99.999%
Eigenschaften: Schwarz, 4,9 g/cc Dichte, 115,1 M.W.
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: CoFe2O4, 99,9%~99.999%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: LiCoO2 >99,7%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: LiNi(1-x)CoxO2, 99,9%~99.999%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: LaxSr1-xCoyFe1-yO3, 99,9%~99.999%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Werkstoff: MnCo2O4, 99,9%~99.999%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Material: SrCoO3, 99,9%~99.999%
Form: Scheiben, Platten, Säulenziele, Stufenziele, Sonderanfertigungen
Größen: Scheibe – Dia. 1″~14″ * Dicke 0,125″ / 0,25″
Block – Dicke≥1mm * Breite ≤12″ * Länge≤14″
Kleben: Indium, Elastomer
Kobalt-Sputter-Targets haben viele Anwendungen bei der Herstellung von Dünnschichten für verschiedene Branchen, darunter Elektronik, Optik und dekorative Beschichtungen. Für spezielle Anforderungen sind auch kundenspezifische Kobalttargets erhältlich. Diese Varianten können Kobaltlegierungen wie CoCr, CoNi oder CoFe oder Dotierstoffe wie Stickstoff, Sauerstoff oder Kohlenstoff zur Anpassung der Schichteigenschaften enthalten. Kobalt-Sputter-Targets ermöglichen eine präzise Steuerung der Abscheidungsprozesse und führen zu gleichmäßigen dünnen Schichten von hervorragender Qualität mit solider Haftung und den gewünschten Eigenschaften. Daher sind kobalthaltige Targets in der Sputtertechnologie unverzichtbar und ermöglichen die Herstellung fortschrittlicher Werkstoffe mit unterschiedlichen Funktionalitäten für eine Vielzahl von Anwendungen.
Zu den wichtigsten Kobalt-Sputter-Targets gehören Kobalt-Sputter-Targets, Kobalt-Legierungen (einschließlich einiger hochentropischer Legierungen), Kobalt-Oxid-Sputter-Targets und Kobalt-Verbund-Sputter-Targets.
Aufgrund ihrer einzigartigen Eigenschaften finden Kobalt- und kobaltverwandte Sputtertargets vielfältige Anwendungen in verschiedenen Branchen. Einige der wichtigsten Anwendungen sind:
1. Halbleiterherstellung: Kobalt-Sputter-Targets werden bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen wie integrierten Schaltkreisen (ICs) verwendet, die in Metallabscheidungsprozessen für Verbindungen und Kontakte eingesetzt werden. Die hervorragende elektrische Leitfähigkeit von Kobalt und seine Kompatibilität mit modernen Halbleiterherstellungsprozessen machen es zu einer idealen Wahl für diese Anwendungen.
2. Dünnfilmbeschichtungen: Sputtertargets aus Kobalt und Kobaltlegierungen scheiden dünne Schichten auf Substraten für verschiedene Zwecke ab, darunter Korrosionsbeständigkeit, Verschleißfestigkeit und dekorative Beschichtungen. Diese Beschichtungen finden Anwendung in Automobilteilen, Unterhaltungselektronik, Luft- und Raumfahrtkomponenten und medizinischen Geräten.
3. Magnetische Speichermedien: Kobalt-Sputter-Targets sind für die Herstellung von magnetischen Speichermedien wie Festplattenlaufwerken (HDDs) unerlässlich. Dünne Schichten auf Kobaltbasis werden aufgrund ihrer hohen magnetischen Koerzitivkraft und Stabilität als Aufzeichnungsschichten verwendet und ermöglichen eine Datenspeicherung mit hoher Dichte und zuverlässiger Leistung.
4. Optische Beschichtungen: Kobaltoxid-Sputtertargets werden für die Abscheidung optischer Beschichtungen für Linsen, Spiegel und andere optische Komponenten verwendet. Diese Beschichtungen können antireflektierende Eigenschaften aufweisen, die Lichtdurchlässigkeit verbessern oder Oberflächen bestimmte Farben oder optische Effekte verleihen.
5. Brennstoffzellen und elektrochemische Geräte: Materialien auf Kobaltbasis werden als Katalysatoren in Brennstoffzellen und anderen elektrochemischen Geräten zur Energieumwandlung und -speicherung eingesetzt. Kobalt-Sputter-Targets scheiden dünne Katalysatorschichten auf Elektroden ab und ermöglichen so effiziente elektrochemische Reaktionen.
6. Biomedizinische Anwendungen: Dünne Schichten auf Kobaltbasis, die aus Sputtertargets abgeschieden werden, können in biomedizinischen Geräten und Implantaten eingesetzt werden. Diese Beschichtungen können Biokompatibilität, Korrosionsbeständigkeit und andere wünschenswerte Eigenschaften für Implantate wie Stents, orthopädische und Zahnimplantate bieten.
Insgesamt ermöglichen Kobalt und kobaltverwandte Sputtertargets fortschrittliche Technologien und Anwendungen in einer Vielzahl von Branchen, von der Elektronik und Telekommunikation bis hin zu Energie, Gesundheitswesen und darüber hinaus.
Unsere Kobalt-Sputter-Targets sind von außen deutlich gekennzeichnet, um eine effiziente Identifizierung und Qualitätskontrolle zu gewährleisten. Wir achten sehr darauf, dass sie während der Lagerung oder des Transports nicht beschädigt werden.