Sputtertargets aus Kupfer

Kupfer (Cu) und seine Legierungen sind Eckpfeiler im Bereich der Vakuumverdampfung. Sie bieten eine unübertroffene elektrische und thermische Leitfähigkeit, die für die Herstellung elektronischer, optischer und beschichteter Schichten entscheidend ist. Diese Werkstoffe, die wegen ihrer Wirksamkeit bei der Herstellung von Leiterbahnen besonders beliebt sind, spielen eine wichtige Rolle bei der Herstellung von elektronischen Schaltkreisen, Halbleitergeräten und Solarpanels. Die Anpassungsfähigkeit von Kupfer, das in Form von Pellets, Granulaten und Pulvern erhältlich ist, gewährleistet seine Kompatibilität mit verschiedenen Vakuumverdampfungsanlagen und deckt ein breites Spektrum industrieller Anwendungen ab. Kupfer hat einen Schmelzpunkt von 1.083°C, eine Dichte von 8,92 g/cc und ist ein hervorragender Wärme- und Stromleiter.

Über das elementare Kupfer hinaus bereichern kupferbasierte Verdampfungsmaterialien, einschließlich verschiedener Legierungen und Verbindungen wie Kupferoxide (CuO und _Cu2O), die Anwendungslandschaft. Diese Derivate verfügen nicht nur über die hervorragende Leitfähigkeit von Kupfer, sondern auch über Eigenschaften wie verbesserte Korrosionsbeständigkeit, mechanische Festigkeit und spezifische optische Merkmale. Diese Vielseitigkeit macht kupferbasierte Materialien für eine breite Palette von Anwendungen unverzichtbar, von funktionalen Beschichtungen in der Elektronik bis hin zu dekorativen Oberflächen in architektonischen Elementen, was ihre entscheidende Rolle bei der Weiterentwicklung der Materialwissenschaft und der Dünnschichttechnologie unterstreicht.