Menu
MetalsTek Engineering ist ein führender Hersteller und Lieferant von hochreinen Tantal-Verdampfungsmaterialien. Wir bieten eine breite Palette von Verdampfungsmaterialien, einschließlich Pulver und Granulat. Auf Anfrage können wir auch auf kundenspezifische Anforderungen eingehen.
Reinheit: Ta 99,9%, 99,95%
Dichte: 16,6 g/cc
Form: Pellets, Pulver, Granulat, kundenspezifisch
Größe: ~3*3mm / 1/8″ Bolzen, ~6*6mm / 1/4″ Bolzen, kann individuell angepasst werden
Anwendungen: CVD- und PVD-Halbleiterabscheidung, optische Beschichtungen
Werkstoff: Tantal-Aluminium (Ta/Al)
Reinheit: 99,9%, 99,95%
Form: Pellets, Granulat, Pulver, oder kundenspezifisch
Tantal-Aluminium-Aufdampfmaterialien sind spezielle Beschichtungen, die aus einer Mischung von Tantal und Aluminium hergestellt werden und üblicherweise in Vakuumaufdampfverfahren eingesetzt werden. Diese Materialien finden vielfältige Anwendungen, insbesondere in der Halbleiterindustrie für die Dünnschichtabscheidung, für optische Beschichtungen und für Forschungszwecke.
Die Verschmelzung von Tantal und Aluminium in diesen Aufdampfmaterialien bietet aufgrund ihrer einzigartigen physikalischen und chemischen Eigenschaften besondere Vorteile. Tantal verfügt über einen bemerkenswert hohen Schmelzpunkt von über 3.000 °C, eine außergewöhnliche Korrosionsbeständigkeit und eine hohe thermische Stabilität. Im Gegensatz dazu verfügt Aluminium mit seinem niedrigeren Schmelzpunkt über eine bemerkenswerte elektrische Leitfähigkeit, die die Stabilität und Haftung des entstehenden Films verbessert.
Die Synergie zwischen Tantal und Aluminium führt zu einem Film mit verbesserten Eigenschaften im Vergleich zu jedem Material für sich allein. Das Verhältnis von Tantal zu Aluminium kann fein abgestimmt werden, um bestimmte Kriterien zu erfüllen, z. B. die gewünschte Schichtdicke zu erreichen, die Haftfestigkeit zu erhöhen oder die elektrische Leitfähigkeit zu optimieren.
Werkstoff: Tantal-Molybdän (Ta/Mo)
Reinheit: 99,9%, 99,95%
Form: Pellets, Granulat, Pulver, oder kundenspezifisch
Anwendung: Halbleiter, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), Displays und optische Anwendungen.
Werkstoff: Molybdän-Karbid
Reinheit: 99%~99.9%
Form: Pellet, Granulat, kundenspezifische Form
Sonstiges: Maßgeschneiderte Form, Größe und Reinheit
Werkstoff: Tantal-Pentoxid (Ta2O5)
Reinheit: Ta2O599 ,95%
Dichte: 8,2 g/cc
Erscheinungsbild: Weißer, kristalliner Feststoff
Thermische Verdampfung: Boot Ta, Spule W, Korb W, Tiegel VitC
Größe: Dia. 8~9mm * Dicke 4~5mm, oder kundenspezifisch
Tantaloxid mit der chemischen Formel Ta2O5 ist ein kristalliner Feststoff, der sich durch sein weißes Aussehen auszeichnet. Es besitzt eine Dichte von 8,2 g/cc, einen Schmelzpunkt von 1.872°C und einen Dampfdruck von 10-4 Torr bei 1.920°C. Diese Verbindung wird in erster Linie für die Herstellung von Kondensatoren verwendet und ist ein wesentlicher Bestandteil verschiedener Anwendungen, darunter Automobilelektronik, Mobiltelefone und Werkzeuge. Darüber hinaus wird Tantaloxid in Kameraobjektivglas verwendet. Seine Verdampfung im Vakuum erleichtert die Herstellung von Schichten für Halbleiter, optoelektronische Geräte und Brennstoffzellen.
Werkstoff: Tantal-Nitrid (TaN)
Reinheit: 99,5%
Dichte: 13,7 g/cc
Form: Pellets, Granulat, Pulver, oder kundenspezifisch
Anwendung: Halbleiter, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), Displays und optische Anwendungen.
Werkstoff: Tantal-Karbid (TaC)
Reinheit: 99,5%
Dichte: 143 g/cc
Schmelzpunkt: 3.852 °C / 6.966 °F; 4.125 K
Form: Pellets, Granulat, Pulver, oder kundenspezifisch
Anwendung: Harte Beschichtungen, Mikroelektronik, dekorative Beschichtungen, Schutz für die Luft- und Raumfahrt
Werkstoff: Tantalsilicid (TaSi2)
Reinheit: 99,5%
Form: Pellets, Granulat, Pulver, oder kundenspezifisch
Anwendung: Halbleiter, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), Displays und optische Anwendungen.
Werkstoff: Tantalborid (TaB2)
Reinheit: 99,5%
Form: Pellets, Granulat, Pulver, oder kundenspezifisch
Anwendung: Halbleiter, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), Displays und optische Anwendungen.
Werkstoff: Tantal-Selenid (TaSe2)
Reinheit: 99,9% ~ 99,999%
Dichte: 6,7 g/cc
Schmelzpunkt: 2.000°C / 3.632°F
Form: Pellets, Granulat, Pulver, oder kundenspezifisch
Anwendung: Halbleiter, CVD, PVD, und in der Optik als Verschleißschutz, dekorative Beschichtungen und Displays.
Werkstoff: Tantal-Tellurid (TaTe2)
Reinheit: 99,9% ~ 99,999%
Dichte: 9,4 g/cc
Form: Pellets, Granulat, Pulver, oder kundenspezifisch
Anwendung: Halbleiter, chemische Gasphasenabscheidung (CVD), physikalische Gasphasenabscheidung (PVD), Displays und optische Anwendungen.
Hochreine Aufdampfmaterialien spielen bei Abscheidungsprozessen eine große Rolle, um eine hohe Qualität der abgeschiedenen Schichten zu gewährleisten. Tantal (Ta), ein Übergangsmetall aus dem Periodensystem, gehört zu den hochschmelzenden Metallen, die für ihre außergewöhnliche Korrosionsbeständigkeit bekannt sind. Mit einem Schmelzpunkt von 3.017 °C, einer Dichte von 16,6 g/cm3 und einem Dampfdruck von 10-4 Torr bei 2.590 °C hat Tantal eine metallisch graublaue Farbe und ähnliche chemische Eigenschaften wie Niob. Seine Ungiftigkeit macht es zur ersten Wahl für chirurgische Implantate, und seine Anwendung erstreckt sich auf die Elektronikindustrie, wo es als Kondensator dient. Tantal kann mit anderen Metallen legiert werden, um die Festigkeit und Haltbarkeit zu erhöhen. In der Vakuumverdampfung werden aus Tantal und seinen Legierungen und Verbindungen Halbleiter, optische Beschichtungen, magnetische Speichermedien und Beschichtungen mit hoher Verschleiß- und Korrosionsbeständigkeit hergestellt.
Die Abscheidung von Tantal durch thermische Verdampfung ist aufgrund der hohen Leistung, die zum Verdampfen des Materials erforderlich ist, nahezu unmöglich. Für die Abscheidung von Tantal werden E-Beam-Verdampfung oder Magnetron-Sputtering empfohlen. Tantal ist für die E-Beam-Verdampfung als “ausgezeichnet” eingestuft. Dennoch ist dieser Prozess mit Herausforderungen verbunden und erfordert eine sorgfältige Überwachung.
| Material Typ | Tantal | Z-Verhältnis | 0.262 |
| Symbol | Ta | E-Träger | Ausgezeichnet |
| Atomares Gewicht | 180.94788 | Material der E-Beam-Tiegelauskleidung | FABMATE®, Graphit |
| Ordnungszahl | 73 | ||
| Farbe/Erscheinungsbild | Graublau, Metallic | Temp. (°C) für gegebene Vap. Druck. (Torr) | 10-8: 1,960 |
| 10-6: 2,240 | |||
| 10-4: 2,590 | |||
| Wärmeleitfähigkeit | 57 W/m.K | Kommentare | Bildet gute Filme. |
| Schmelzpunkt | 3,017 °C | ||
| Wärmeausdehnungskoeffizient | 6,3 x 10-6/K | ||
| Theoretische Dichte | 16,6 g/cc | Empfohlener QCM-Kristall | Legierungskristall: 750-1002-G10**** |
Tantal-Verdampfungsmaterial ist für verschiedene High-Tech-Anwendungen von entscheidender Bedeutung, insbesondere für Dünnschichtabscheidungsverfahren. Hier sind einige kritische Anwendungen:
Die einzigartigen Eigenschaften von Tantal, darunter sein hoher Schmelzpunkt, seine Korrosionsbeständigkeit und seine Stabilität, machen es zu einem wertvollen Material für die Dünnschichtabscheidung in diesen verschiedenen Anwendungen.
Unsere Tantal-Verdampfungsmaterialien sind zur Gewährleistung einer effizienten Identifizierung und Qualitätskontrolle deutlich gekennzeichnet und beschriftet. Es wird große Sorgfalt darauf verwendet, Schäden zu vermeiden, die während der Lagerung oder des Transports entstehen könnten.