Cible de pulvérisation cathodique en plomb

L’engagement de MetalsTek Engineering en faveur de la qualité de l’artisanat et de l’innovation garantit que ses cibles de pulvérisation au plomb répondent aux normes les plus strictes en matière de performance et de fiabilité.

Cible de pulvérisation de plomb, Pb

Matériau : Plomb, >99.99%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation d'oxyde de plomb, PbO

Matériau : Oxyde de plomb

Pureté : 99,9 % ~ 99,99 %.

Propriétés : 9.53g/cc Densité, ≈888°C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation de sulfure de plomb, PbS

Matériau : Sulfure de plomb

Pureté : 99,9 % ~ 99,999 %.

Propriétés : 7,6g/cc Densité, ≈1,118°C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation en tellurure de plomb, PbTe

Matériau : Tellurure de plomb

Pureté : 99,9 % ~ 99,999 %.

Propriétés : 6.14g/cc Densité, ≈924°C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Cible de pulvérisation de séléniure de plomb, PbSe

Matériau : Séléniure de plomb

Pureté : 99,9 % ~ 99,999 %.

Propriétés : 8,1g/cc Densité, 1 078°C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation en titanate de plomb, PbTiO3

Matériau : Titanate de plomb

Pureté : 99,9

Propriétés : 7,3g/cc Densité, 1 540°C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Cible de pulvérisation au zirconate de plomb, PbZrO3

Matériau : Zirconate de plomb

Pureté : 99,9

Propriétés : 7,2g/cc Densité, 1390°C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Cible de pulvérisation cathodique en titane de plomb et de zirconium, PZT

Matériau : PbZr0.52Ti0.48O3

Pureté : 99,9

Propriétés : 7,5g/cc Densité, ≈1,250°C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Titanate de zirconate de plomb avec cible de pulvérisation au niobium

Matériau : PbZr0,52Ti0,48O3-Nb

Pureté : 99,9 % ~ 99,999 %.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~12″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Cible de pulvérisation cathodique en titanate de plomb et de calcium

Matériau : Pb0,7Ca0,3TiO3

Pureté : 99,9 % ~ 99,999 %.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~12″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Cible de pulvérisation de tellurure de séléniure de plomb, Pb/Se/Te

Matériau : Tellurure de séléniure de plomb

Pureté : 99% ~ 99,999%.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~12″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Cible de pulvérisation cathodique plomb-platine, Pb/Pt

Matériau : Plomb Platine

Pureté : 99% ~ 99,999%.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~12″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25″

Cible de pulvérisation de fluorure de plomb, PbF2

Matériau : Fluorure de plomb

Pureté : 99,9 % ~ 99,99 %.

Propriétés : 8.445g/cc Densité, ≈824°C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~12″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25

Cible de pulvérisation d'antimoniure de plomb, PbSb

Matériau : Antimoniure de plomb

Pureté : 99,9% ~ 9999%

Propriétés : 6,72g/cc Densité, 328,94 M.W.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~12″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation d'arséniure de plomb, PbAs

Matériau : Arséniure de plomb

Pureté : 99,9% ~ 9999%

Propriétés : Gris, 282.12M.W.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~12″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤12″ * Longueur≤14″

Taille standard : Dia.1″, 2″, 3″, 4″, 5″, 6″ ; Epaisseur. 0.125″, 0.25

Liaison : Indium, élastomère

Description

Les cibles de pulvérisation au plomb et à base de plomb sont des composants essentiels utilisés dans les processus de dépôt physique en phase vapeur pour déposer des couches minces de plomb sur des substrats. Composées de plomb de haute pureté ou d’alliages de plomb, ces cibles sont utilisées dans des secteurs tels que l’électronique, l’optique et l’ingénierie des surfaces. Dans la fabrication des semi-conducteurs, les couches minces de plomb remplissent diverses fonctions, notamment en tant qu’interconnexions, couches de passivation et couches barrières dans les circuits intégrés. Dans les revêtements optiques, les couches minces à base de plomb améliorent les propriétés optiques telles que la réflectivité et la transmission, tandis que dans les applications d’ingénierie de surface, elles fournissent une protection contre la corrosion et des finitions décoratives. Le maintien de niveaux de pureté élevés dans les cibles de pulvérisation du plomb est essentiel pour obtenir des couches minces reproductibles et de haute qualité, et des précautions de sécurité doivent être observées en raison des risques potentiels pour la santé et l’environnement associés à l’exposition au plomb. Les cibles de pulvérisation au plomb et à base de plomb jouent un rôle essentiel dans les processus de dépôt de couches minces, facilitant la fabrication de revêtements et de dispositifs fonctionnels dans toute une série d’industries.

Spécifications du plomb (Pb)

Type de matériau

Plomb

Poutre en E

Excellent

Symbole

Pb

Techniques d’évaporation thermique

Bateau : W, Mo

Poids atomique

207.2

Bobine : W

Numéro atomique

82

Panier : W, Ta

Apparence

Blanc bleuté, métallisé

Creuset :Al2O3, Q

Conductivité thermique

35 W/m.K

Matériau du revêtement du creuset E-Beam

FABMATE® – LA SÉCURITÉ DE L’HOMME ET DE L’ENVIRONNEMENT

Point de fusion

328°C

Temp. (°C) pour Vap. donnée Press. (Torr)

10-8: 342

Coefficient de dilatation thermique

28,9 x 10-6/K

10-6: 427

Densité théorique

11,34g/cc

10-4: 497

Rapport Z

1.13

Cristal QCM suggéré

Cristal d’or

Applications

Les applications des cibles de pulvérisation du plomb et des cibles à base de plomb sont diverses et cruciales dans diverses industries. Voici quelques applications clés basées sur les sources fournies :

  1. Industrie des semi-conducteursLes cibles de pulvérisation au plomb sont utilisées dans l’industrie des semi-conducteurs pour les processus de dépôt de couches minces, contribuant ainsi à la production de composants et d’appareils électroniques.
  2. Revêtements optiquesLes cibles de pulvérisation cathodique à base de plomb trouvent des applications dans la création de revêtements optiques pour les lentilles, les miroirs et d’autres composants optiques.
  3. Recherche et développementLes cibles de pulvérisation cathodique de plomb sont utilisées dans le cadre de la recherche et du développement pour explorer de nouveaux matériaux et faire progresser les innovations technologiques.
  4. Revêtements décoratifsLes cibles de pulvérisation à base de plomb sont utilisées pour produire des revêtements décoratifs ayant des propriétés spécifiques pour diverses applications.
  5. Films minces magnétiquesLes cibles de pulvérisation cathodique au plomb jouent un rôle dans le dépôt de couches minces magnétiques utilisées dans les supports de stockage magnétiques et d’autres applications magnétiques.
  6. Applications biomédicalesLe plomb et les cibles de pulvérisation à base de plomb peuvent avoir des applications spécialisées dans les domaines biomédicaux, bien qu’il faille être prudent en raison de la toxicité du plomb.

Ces applications soulignent l’importance du plomb et des cibles de pulvérisation à base de plomb dans des secteurs tels que les semi-conducteurs, l’optique, la recherche, les revêtements décoratifs, les matériaux magnétiques et, potentiellement, les domaines biomédicaux.

Emballage

Nos cibles de pulvérisation de plomb sont clairement étiquetées à l’extérieur afin de garantir une identification efficace et un contrôle de la qualité. Nous prenons grand soin d’éviter tout dommage pendant le stockage ou le transport.

Request A Quote
Attach a Drawing
*Company e-mail address is preferred.