Cible de pulvérisation du fer

Les cibles de pulvérisation de fer sont des composants essentiels utilisés dans les processus de dépôt de couches minces, en particulier dans la production de couches minces magnétiques. Ces cibles sont disponibles en différentes puretés, tailles et épaisseurs pour répondre aux exigences d’applications spécifiques. Les cibles de pulvérisation du fer jouent un rôle crucial dans la création de revêtements connus pour leurs propriétés magnétiques, ce qui les rend indispensables dans les industries nécessitant un contrôle précis du dépôt de films pour des applications telles que la fabrication de semi-conducteurs, les technologies d’affichage, la production de LED, etc.

Le fer est un métal très répandu de couleur gris métallique. Il est ductile, ferromagnétique et s’oxyde facilement lorsqu’il est exposé à l’oxygène. Son point de fusion est de 1 535 °C, sa densité de 7,86 g/cc et sa pression de vapeur de ^10-4 Torr à 1 180 °C. Le fer est utilisé dans diverses applications, telles que les outils, les automobiles et les machines. En le combinant avec du carbone, on peut créer de l’acier, un matériau essentiel dans les secteurs de la construction et de l’automobile. Le fer joue également un rôle biologique essentiel en facilitant le transport de l’oxygène dans le sang. Dans les processus de fabrication, il est évaporé sous vide pour créer des couches pour la production de semi-conducteurs, les supports de stockage magnétiques, les piles à combustible et d’autres applications.