Cibles de pulvérisation du nickel

Cible de pulvérisation de nickel, Ni

Matériau : Nickel, Ni

Pureté : 99,9%~99.995%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation cathodique aluminium-nickel, Al/Ni

Matériau : Alliage d’aluminium et de nickel

Pureté : 99,9%~99.99% Composition personnalisable

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation cathodique chrome-nickel, Cr/Ni Ni/Cr

Matériau : Alliage chrome-nickel

Pureté : 99.9%~99.95%, Composition personnalisable

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation Cobalt Nickel, Co/Ni

Matériau : Alliage de cobalt et de nickel

Pureté : 99,9%~99.99%La composition peut être personnalisée

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation cuivre-nickel, Cu/Ni Ni/Cu

Matériau : Alliage de cuivre et de nickel

Pureté : 99.9%~99.999%, Composition personnalisable

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation fer-nickel, Fe/Ni Ni/Fe

Matériau : Alliage de fer et de nickel, 99,9%~99.99%

Composition : Peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation au manganèse et au nickel, Mn/Ni

Matériau : Alliage de manganèse et de nickel, 99,9%~99.99%

Composition : Peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation cathodique nickel-chrome-aluminium, Ni/Cr/Al

Matériau : Nickel chrome aluminium, 99,9%~99.95%

Composition : Peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation cathodique nickel-chrome-silicium, Ni/Cr/Si

Matériau : Nickel chrome silicium, 99,9%~99.95%

Composition : Peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation cathodique nickel-titane, Ni/Ti Ti/Ni

Matériau : Alliage de nickel et de titane, 99,9%~99.99%

Composition : Peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation de nickel et de tungstène, Ni/W

Matériau : Alliage de nickel et de tungstène, 99,9%~99.95%

Composition : Peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation de nickel et de vanadium, Ni/V

Matériau : Alliage de nickel et de vanadium, 99,9%.

Composition : Peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation cathodique nickel-zirconium, Ni/Zr Zr/Ni

Matériau : Alliage de nickel et de zirconium, 99,9%.

Composition : Peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation Permalloy, Ni/Fe/Mo/Mn

Matériau : Permalloy, 99,9%~99.999%

Composition : Peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation cathodique chrome-cobalt-nickel HEA, Co/Cr/Ni

Matériau : Alliage chrome-cobalt-nickel à haute entropie

Composition : Peut être personnalisé, 99,9%~99.999%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation cathodique Cobalt Chrome Fer Nickel Aluminium HEA, Co/Cr/Fe/Ni/Al

Matériau : Alliage à haute entropie de cobalt-chrome-fer-nickel-aluminium

Composition : Peut être personnalisé, 99,9%~99.999%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium Recommandé

Cobalt Chrome Fer Nickel Manganèse Cible de pulvérisation HEA, Co/Cr/Fe/Ni/Mn

Matériau : Alliage cobalt-chrome-fer-nickel-manganèse à haute entropie

Composition : Peut être personnalisé, 99,9%~99.999%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation cathodique Cobalt Nickel Vanadium HEA, Co/Ni/V

Matériau : Alliage à haute entropie de cobalt, nickel et vanadium

Composition : Peut être personnalisé, 99,9%~99.999%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium Recommandé

Cibles de pulvérisation cathodique Inconel 600, Ni/Cr/Fe

Matériau : Alliage Inconel 600

Composition : Peut être personnalisé, 99,9%~99.999%

Propriétés : 8.5g/cc Densité, 1,395℃ Densité

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation en acier inoxydable

Matériau : Acier inoxydable

Composition : Peut être personnalisé, 99,9%~99.999%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation d'antimoniure de nickel, NiSb

Matériau : Antimoniure de nickel

Composition : Peut être personnalisé, 99,9%~99.999%

Propriétés : 8.56g/cc Densité, 1,102℃ Densité

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation cathodique cuivre-manganèse-nickel, CuMnNi

Matériau : Alliage cuivre-manganèse-nickel

Composition : Peut être personnalisé, 99,9%~99.999%

Propriétés : 8.4g/cc Densité, ≈960~1,020℃ Densité

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium Recommandé

Cible de pulvérisation de nickel et de gallium, c

Matériau : Alliage de nickel et de gallium

Composition : Peut être personnalisé, 99,9%~99.999%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium Recommandé

Cible de pulvérisation d'oxyde de nickel, NiO

Matériau : Oxyde de nickel, 99,9%.

Propriétés : Vert, 1 955 °CM.P., 6,67 g/cc Densité

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation d'oxyde de lanthane et de nickel, LaNiO3

Matériau : Oxyde de lanthane et de nickel, 99,9%.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation du siliciure de nickel, NiSi2

Matériau : Siliciure de nickel, 99,9%.

Propriétés : 1,255°C M.P, 7.4g/cc Densité

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation de borure de nickel, Ni2B

Matériau : Borure de nickel, 99,5

Propriétés : ≈1,125°C M.P., 7.9g/cc Densité

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation en tellurure de nickel, NiTe

Matériau : Tellurure de nickel, 99,5

Propriétés : 7,3g/cc Densité

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation de sulfure de nickel, NiS

Matériau : Sulfure de nickel, 99,9%~99.999%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium Recommandé

Cible de pulvérisation de l'oxyde de lithium et de nickel, LiNiO2

Matériau : Oxyde de lithium et de nickel, 99,9%~99.999%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium Recommandé

Cible de pulvérisation cathodique en oxyde de lithium nickel cobalt, LNCO

Matériau : Oxyde de lithium nickel cobalt

Pureté : LiNi(1-x)CoxO2 99,9%~99.999%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation de ferrite de nickel, NiFe2O4

Matériau : Ferrite de nickel, 99,9%~99.999%

Densité : 5,4g/cc

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Cible de pulvérisation d'oxyde de néodyme et de nickel, NdNiO3

Matériau : Oxyde de néodyme et de nickel, 99,9%~99.999%

Densité : 7,55g/cc

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium Recommandé

Cible de pulvérisation d'oxyde de samarium et de nickel, SmNiO3

Matériau : Oxyde de samarium et de nickel, 99,9%~99.999%

Propriétés : 7,79g/cc Densité, 257,05M.W.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium Recommandé

Cible de pulvérisation d'oxyde de praséodyme et de nickel, PrNiO

Matériau : Oxyde de praséodyme et de nickel, 99,9%~99.999%

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium ou élastomère recommandé

Cible de pulvérisation cathodique en oxyde de nickel et d'europium, EuNiO3

Matériau : Oxyde d’europium et de nickel, 99,9%~99.999%

Densité : 7,57g/cc

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions : Disque – Dia. 1″~14″ * Epaisseur 0.125″ / 0.25″

Bloc – Epaisseur≥1mm * Largeur ≤14″ * Longueur≤32″

Liaison : Indium ou élastomère recommandé

Description

Les cibles de pulvérisation au nickel et à base de nickel sont des éléments fondamentaux dans les processus de dépôt de couches minces, en particulier dans les techniques de dépôt physique en phase vapeur (PVD) comme la pulvérisation magnétron. Ces cibles, composées de nickel ou d’alliages de nickel de haute pureté, jouent un rôle indispensable dans diverses industries, notamment la fabrication de semi-conducteurs pour les circuits intégrés et les transistors, les écrans plats, la production de cellules solaires, les supports de stockage magnétiques, les revêtements décoratifs, les dispositifs optiques, la protection contre l’usure et la corrosion dans les applications aérospatiales et automobiles, et les dispositifs biomédicaux tels que les implants orthopédiques et les instruments chirurgicaux. Grâce à leur polyvalence et à leur fiabilité, les cibles de pulvérisation du nickel contribuent aux progrès dans les domaines de l’électronique, de l’énergie, de la science des matériaux et des soins de santé, répondant ainsi aux exigences rigoureuses de la technologie moderne et aux demandes de l’industrie. Le nickel est un métal blanc argenté, résistant et brillant, présent en abondance dans le noyau de la Terre. Le nickel a une densité de 8,91g/cc et un point de fusion de 1 453°C, avec une pression de vapeur de 10-4 Torr à 1 262°C. Il est réputé pour sa malléabilité, sa ductilité et son ferromagnétisme. Dans les environnements sous vide, le nickel est utilisé pour former des revêtements décoratifs sur les surfaces céramiques et des couches de soudure dans la fabrication de circuits. En outre, sa propension à être pulvérisé permet de créer des couches essentielles à la fabrication de supports de stockage magnétiques, de piles à combustible et de capteurs.Les cibles de pulvérisation de nickel de MetalsTek sont disponibles sous différentes formes, puretés, tailles et prix. Nous sommes spécialisés dans la production de matériaux de dépôt de couches minces de haute pureté, avec la densité la plus élevée possible et la taille moyenne des grains la plus petite possible.

Spécifications du nickel (Ni)

Type de matériau

Nickel

Rapport Z

0.331

Symbole

Ni

Poutre en E

Excellent

Poids atomique

58.6934

Techniques d’évaporation thermique

Bateau : W

Numéro atomique

28

Creuset :Al2O3

Apparence

Lustré, métallique, teinte argentée

Matériau du revêtement du creuset E-Beam

FABMATE®, Cuivre

Conductivité thermique

91 W/m.K

Temp. (°C) pour Vap. donnée Press. (Torr)

10-8: 927

Point de fusion

1,453 °C

10-6: 1,072

Coefficient de dilatation thermique

13,4 x 10-6/K

10-4: 1,262

Densité théorique

8,91 g/cc

Commentaires

Alliages avec W/Ta/Mo. Films lisses et adhérents.

Ferromagnétique

Matériau magnétique

Cristal QCM suggéré

Alliage Cristal : 750-1002-G10

Applications des cibles de pulvérisation cathodique au nickel

Les cibles de pulvérisation de nickel et d’alliages de nickel sont des composants essentiels dans les processus de dépôt de couches minces, en particulier dans les techniques de dépôt physique en phase vapeur (PVD) telles que la pulvérisation magnétron. Ces cibles, généralement constituées de nickel ou d’alliages de nickel de haute pureté, sont utilisées pour déposer des couches minces de nickel sur des substrats de manière contrôlée.

  1. Fabrication de semi-conducteurs: Les cibles de pulvérisation de nickel sont couramment utilisées dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs, notamment les circuits intégrés (CI), les transistors et les diodes. Ces cibles sont utilisées pour les couches de métallisation, les interconnexions et les films barrières dans le traitement des semi-conducteurs.
  2. Ecrans plats: Les cibles de pulvérisation à base de nickel trouvent des applications dans la production d’écrans plats, notamment les écrans à cristaux liquides (LCD), les écrans à diodes électroluminescentes organiques (OLED) et les réseaux de transistors à couche mince (TFT). Les films de nickel sont utilisés pour les couches d’électrodes, les revêtements réfléchissants et les films barrières dans les technologies d’affichage.
  3. Cellules solaires: Les cibles de pulvérisation de nickel sont utilisées dans la fabrication de cellules solaires à couche mince, notamment les cellules solaires au tellurure de cadmium (CdTe), au séléniure de cuivre, d’indium et de gallium (CIGS) et au silicium amorphe (a-Si). Les films de nickel servent de contacts arrière, de grilles d’électrodes et de barrières de diffusion dans les architectures de cellules solaires.
  4. Supports de stockage magnétiques: Les cibles de pulvérisation de nickel sont essentielles pour la production de supports de stockage magnétiques, notamment les disques durs et les bandes magnétiques. Les films de nickel sont utilisés comme couches d’enregistrement, domaines magnétiques et revêtements de protection dans les dispositifs de stockage de données.
  5. Revêtements décoratifs: Les cibles de nickel et d’alliages à base de nickel sont utilisées pour les revêtements décoratifs dans les applications automobiles, architecturales et grand public. Les films de nickel offrent des finitions esthétiques, une résistance à la corrosion et une protection contre l’usure sur des surfaces telles que les garnitures automobiles, les poignées de porte et les accessoires de salle de bains.
  6. Revêtements optiques: Les cibles de pulvérisation de nickel sont utilisées dans le dépôt de revêtements optiques pour les lentilles, les miroirs et les filtres dans divers dispositifs et systèmes optiques. Les films de nickel améliorent la réflectivité, la transmission et la durabilité des composants optiques utilisés dans les lasers, les caméras et la spectroscopie.
  7. Protection contre l’usure et la corrosion: Les cibles de nickel et d’alliages à base de nickel sont utilisées pour la protection contre l’usure et la corrosion dans les applications aérospatiales, automobiles et marines. Les films de nickel servent de revêtement protecteur sur les substrats métalliques pour améliorer la durabilité, la longévité et les performances dans les environnements difficiles.
  8. Applications biomédicales: Les cibles de pulvérisation de nickel trouvent des applications dans les dispositifs biomédicaux et les implants, notamment les implants orthopédiques, les prothèses dentaires et les instruments chirurgicaux. Les films de nickel offrent des revêtements biocompatibles, une résistance à la corrosion et des propriétés mécaniques adaptées aux applications médicales.

Les cibles de pulvérisation de nickel et de matériaux à base de nickel jouent un rôle crucial dans diverses industries, notamment la fabrication de semi-conducteurs, la technologie d’affichage, l’énergie solaire, le stockage magnétique, les revêtements décoratifs, l’optique, la protection contre l’usure et les applications biomédicales. En tant que fabricant et fournisseur de matériaux de dépôt, MetalsTek propose des cibles de nickel de haute qualité adaptées aux exigences spécifiques de nos clients dans diverses applications et industries.

Emballage

Nos cibles de pulvérisation de nickel et de produits à base de nickel sont clairement étiquetées à l’extérieur pour garantir une identification efficace et un contrôle de la qualité. Nous prenons grand soin d’éviter tout dommage pendant le stockage ou le transport.

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