Cibles de pulvérisation cathodique de titane

MetalsTek Engineering est un fabricant et fournisseur de confiance de cibles de pulvérisation de titane. Nous offrons un service hautement personnalisé pour les cibles de pulvérisation, et un service de collage de support est également disponible.

Cibles de pulvérisation du titane (Ti)

Pureté : 99,2%-99.7%, 99,97%-99.98%, >99,99%, 99,995%.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions standard : Diamètre : 1.0″, 2.0″, 3.0″, 4.0″, 5.0″, 6.0″, 7″, 8″ * Epaisseur : 0.125″, 0.250″

Autres : La pureté, la forme et la taille peuvent être personnalisées.

Cible de pulvérisation rotative de titane (Ti)

Pureté : 99,9%-99.999%

Conductivité thermique : 21,9 W/m.K

Point de fusion : 1 660°C

Coefficient de dilatation thermique : 8,6 x 10-6/K

Gamme de tailles : OD5.5″~7″ * ID5″~5.5″ * Longueur<138″

Cible de pulvérisation planaire de titane (Ti)

Pureté : 99,9%-99.999%

Conductivité thermique : 21,9 W/m.K

Point de fusion : 1 660°C

Coefficient de dilatation thermique : 8,6 x 10-6/K

Taille : 0.5″*70″*90″

GW : <450 lbs

Cible de pulvérisation du dioxyde de titane, TiO2

Pureté : >99,9 %, 99,95 %, 99,99 %.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Dimensions standard : Diamètre : 1.0″, 2.0″, 3.0″, 4.0″, 5.0″, 6.0″, 7″, 8″ * Epaisseur : 0.125″, 0.250″

Autres : La pureté, la forme et la taille peuvent être personnalisées.

Plus d'informations sur la cible de pulvérisation du dioxyde de titane

La cible de pulvérisation de dioxyde de titane de MetalsTek Engineering, composée de Ti et de O, est un matériau essentiel. Également connu sous le nom d’oxyde de titane(IV) ou de titane (formule chimique TiO2), il se trouve à l’état naturel dans des minéraux tels que le rutile et l’anatase. Deux formes à haute pression, l’akaogiite et la brookite, ont été découvertes, notamment dans le cratère de Ries en Bavière. Principalement issu du minerai d’ilménite, le minerai contenant du dioxyde de titane le plus répandu dans le monde, le rutile est la forme prédominante, contenant environ 98 % de dioxyde de titane. Lorsqu’elles sont chauffées à plus de 600-800 °C (1 112-1 472 °F), les phases métastables anatase et brookite se transforment irréversiblement en une phase d’équilibre, le rutile.

Les services de collage à l’indium et de collage de cibles élastomères sont disponibles pour les cibles de pulvérisation de dioxyde de titane.

Properties of Titanium Dioxide Sputtering Target

Material TypeTitanium (IV) Oxide
SymbolTiO2
Color/AppearanceWhite-Beige, Gray Black
Theoretical Density 4.23 g/cc
Melting Point1,830 °C
SputterRF, RF-R
Type of BondIndium, Elastomer
CommentsSuboxide, must be reoxidized to rutile. Ta reduces TiO2 to TiO

Autres cibles de pulvérisation du titane

Matériau : Ti/Zr, Ta/Ti, TiB2, TiSe2, TiO, Ti2O3, Ti3O5, W/Ti, TiN, TiF3, TiC, Ti/Al/Si, LiLaTiO3, TiSi2, V/Ti, Ni/Ti, Al/Ti, TiCN, TiFe2O4, Cr/Ti, Nb/Ti, Co/Ti, LaTiO3, SrTiO3, PZT, PbTiO3, Bi4Ti3O12, BaTiO3, etc.

Forme : Disque, plaque, planaire, rotative ou personnalisée

Taille : Peut être personnalisé

Description

Les cibles de pulvérisation du titane sont des matériaux essentiels utilisés dans le processus de revêtement par pulvérisation pour créer de minces films de titane. Ces cibles peuvent être trouvées dans différentes puretés et tailles pour répondre aux exigences d’applications spécifiques. Au cours de la méthode de pulvérisation, des particules à haute énergie bombardent le matériau cible, éjectant des atomes de la surface de la cible. Ces atomes forment alors un film mince sur le substrat, produisant le revêtement souhaité.

La production de cibles de pulvérisation de titane fait appel à deux méthodes principales : la coulée et la métallurgie des poudres. Dans la méthode de coulée, la matière première est fondue et versée dans un moule pour créer un lingot. Le lingot est ensuite usiné pour obtenir la forme requise de la cible. La métallurgie des poudres, quant à elle, consiste à fondre la matière première, à la couler en lingot, à pulvériser la pépite, puis à fritter la poudre pour former la cible.

La pureté des cibles de pulvérisation de titane joue un rôle crucial dans la détermination de la qualité du film mince obtenu. Ces cibles sont disponibles dans des degrés de pureté élevés, tels que 99,99 % et 99,995 %, afin de garantir la production de films minces de qualité supérieure pour diverses applications.

Les cibles de pulvérisation de titane sont largement utilisées dans des applications commerciales et de recherche, notamment en optoélectronique, en nanotechnologie, dans les matériaux avancés, les écrans plats, les revêtements anti-usure et décoratifs, les dispositifs à semi-conducteurs et les revêtements optiques.

Le dépôt de couches minces de titane à l’aide de cibles de pulvérisation nécessite généralement des conditions spécifiques. La pulvérisation cathodique est une méthode standard pour le dépôt de films minces de titane, avec des conditions de dépôt typiques comprenant une puissance de 1-2 kW, une pression de 0,1-1 mTorr, une polarisation du substrat de -2-10 V, une distance cible-échantillon de 20-30 cm, et une température du substrat de 50-80 °C. La vitesse de dépôt des films de titane est généralement de l’ordre de 1-5 nm/min.

Titanium Sputtering Targets Properties

Material TypeTitaniumZ Ratio0.628
SymbolTiE-BeamExcellent
Atomic Weight47.867Thermal Evaporation TechniquesBoat:  W
Atomic Number22Crucible:  TiC,Ti2-BN
Color/AppearanceSilvery MetallicE-Beam Crucible Liner MaterialFabmate®, Intermetallic
Thermal Conductivity21.9 W/m.KTemp. (°C) for Given Vap. Press. (Torr)10-8: 1,067
Melting Point (°C)1,66010-6: 1,235
Coefficient of Thermal Expansion8.6 x 10-6/K10-4: 1,453
Theoretical Density (g/cc)4.5CommentsAlloys with W/Ta/Mo; evolves gas on first heating.

Applications

Les cibles de pulvérisation du titane fabriquées par MetalsTek Engineering trouvent des applications polyvalentes dans diverses industries, grâce aux propriétés uniques du titane et à la précision de nos matériaux de dépôt. Parmi les applications critiques, on peut citer

Les cibles de pulvérisation de titane de MetalsTek Engineering jouent un rôle crucial dans l’avancement des applications technologiques dans ces diverses industries, en offrant des matériaux de dépôt de haute qualité pour les processus de revêtement de précision.

Emballage

Nos cibles de pulvérisation de titane sont clairement étiquetées et marquées à l’extérieur pour garantir une identification et un contrôle de qualité efficaces. Nous prenons grand soin d’éviter tout dommage qui pourrait être causé pendant le stockage ou le transport.

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