Cibles de pulvérisation du vanadium

MetalsTek Engineering est une entreprise leader dans le domaine des cibles de pulvérisation au vanadium, qui fait preuve d’une expertise et d’une innovation inégalées dans les processus de dépôt de couches minces. Leurs cibles contribuent aux progrès réalisés dans diverses industries.

Cible de pulvérisation de vanadium, V

Matériau : Vanadium

Pureté : 99,5 %, 99,9 %, personnalisable

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Liaison : Indium, élastomère

Compositions chimiques de la cible de pulvérisation du vanadium

L’adaptabilité de notre processus de production permet d’affiner la microstructure de notre matériau de revêtement, ce qui garantit l’obtention de l’effet désiré. Lorsque les grains de la cible de pulvérisation sont alignés de manière cohérente, les utilisateurs peuvent bénéficier de taux d’érosion constants et de la formation de couches uniformes.

Les cibles de pulvérisation que nous produisons sont d’une grande pureté, ce qui offre des avantages significatifs. Les films dérivés de ces cibles présentent une conductivité électrique exceptionnelle et subissent une formation minimale de particules au cours du processus PVD. Vous trouverez ci-joint le certificat d’analyse officiel de la cible de pulvérisation de vanadium de haute pureté à 99,9 % (ppm) :

ContentValueContentValueContentValue
VBalanceO20Cd20
Mg20N20Sn20
Al20S20Sb20
K10Cu100Ta50
Ca10Zn50W50
Cr50As20Pb20
Mn50Zr20Bi20
Fe100Mo50Tl10
Co100C20

Cible de pulvérisation d'oxyde de vanadium, VO2 / V2O3 / V2O5 / BiVO4 / CaVO3

Matériau : Oxyde de vanadium, VO2 / V2O3 / V2O5 / BiVO4 / CaVO3

Pureté : 99.9%~99.999%, peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation en carbure de vanadium, VC

Matériau : Carbure de vanadium, VC

Pureté : 99,5 %, personnalisable

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation au nitrure de vanadium, VN

Matériau : Nitrure de vanadium, VN

Pureté : 99,5%, 6,13g/cc

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Liaison : Indium, élastomère

Cible de pulvérisation de nickel et de vanadium, Ni/V

Matériau : Nickel Vanadium, Ni/V

Pureté : 99,9%, 1 775°C~1 875°C M.P.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Application principale : Dépôt de couches minces, décoration, LED, écrans, semi-conducteurs, revêtement de verre

Cible de pulvérisation cathodique vanadium-titane, V/Ti

Matériau : Vanadium Titane, V/Ti

Pureté : 99,9%, peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Application principale : Dépôt de couches minces, décoration, LED, écrans, semi-conducteurs, revêtement de verre

Cible de pulvérisation cathodique vanadium-chrome, V/Cr, Cr/V

Matériau : Vanadium Chrome, V/Cr, Cr/V

Pureté : 99,9%, la composition peut être personnalisée

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Application principale : Dépôt de couches minces, décoration, LED, écrans, semi-conducteurs, revêtement de verre

Cible de pulvérisation au vanadium et au tungstène, V/W

Matériau : Vanadium Tungstène, V/W

Pureté : 99,9%, peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Application principale : Dépôt de couches minces, décoration, LED, écrans, semi-conducteurs, revêtement de verre

Cible de pulvérisation cathodique vanadium-aluminium, V/Al

Matériau : Vanadium Aluminium, V/Al, CAS# 39458-13-4

Pureté : 99,9%, peut être personnalisé

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Application principale : Dépôt de couches minces, décoration, LED, écrans, semi-conducteurs, revêtement de verre

Cible de pulvérisation au borure de vanadium, VB2

Matériau : Borure de vanadium, VB2

Pureté : 99,9%, 99,95%, 99,99%, 5,1g/cc

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Application principale : Dépôt de couches minces, décoration, LED, écrans, semi-conducteurs, revêtement de verre

Cible de pulvérisation cathodique titane-aluminium-vanadium, Ti/Al/V

Matériau : Titane-aluminium-vanadium, Ti/Al/V

Pureté : 99,9

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Application principale : Dépôt de couches minces, décoration, LED, écrans, semi-conducteurs, revêtement de verre

Cible de pulvérisation cathodique en alliage cobalt nickel vanadium à haute entropie (HEA), Co/Ni/V

Matériau : Cobalt Nickel Vanadium, Co/Ni/V

Pureté : 99,9 %, 99,95 %, 99,99 %, 99,995 %, 99,999 %.

Forme : Disques, plaques, cibles à colonnes, cibles à échelons, sur mesure

Taille : Rond – Diamètre < 14inch, Epaisseur > 1mm

Rectangulaire – Longueur < 32inch, Largeur < 12inch, Epaisseur > 1mm

Application principale : Dispositifs électroniques, cellules photovoltaïques et revêtements

Description

Les cibles de pulvérisation au vanadium sont utilisées dans la pulvérisation, une technologie éprouvée capable de déposer des couches minces à partir d’une grande variété de matériaux sur divers substrats. Ces cibles sont fabriquées à partir de vanadium de haute pureté, de composés de vanadium ou d’alliages de vanadium, et sont disponibles en différentes tailles, épaisseurs et puretés pour convenir à différentes applications. En outre, les cibles de pulvérisation liées au vanadium peuvent inclure des composés ou des alliages qui impliquent du vanadium, ce qui élargit leurs applications.

Les principales spécifications et propriétés des cibles de pulvérisation de vanadium sont les suivantes :

Applications et caractéristiques

La sélection d’une cible de pulvérisation particulière dépend des exigences spécifiques de l’application du film mince, et les propriétés souhaitées des films déposés déterminent le choix entre du vanadium pur ou des composés apparentés au vanadium.

La pulvérisation cathodique du vanadium cible l'emballage

Nos cibles de pulvérisation au vanadium sont manipulées avec soin pour éviter tout dommage pendant le stockage et le transport et pour préserver la qualité de nos produits dans leur état d’origine.

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